【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本公开涉及成像半导体晶片。
技术介绍
1、半导体制造行业的发展对良率管理且特定来说对计量及检验系统提出更高要求。临界尺寸继续缩小，但行业需要缩短实现高良率、高价值生产的时间。最小化从检测到良率问题到解决问题的总时间使半导体制造商的投资回报最大化。
2、制造半导体装置(例如逻辑及存储器装置)通常包含使用大量制造工艺处理半导体晶片以形成半导体装置的各种特征及多个层级。例如，光刻是一种半导体制造工艺，其涉及将图案从光罩转移到布置于半导体晶片上的光致抗蚀剂。半导体制造工艺的其它实例包含(但不限于)化学机械抛光(cmp)、蚀刻、沉积及离子植入。在单个半导体晶片上制造的多个半导体装置的布置可分成个别半导体装置。
3、在半导体制造期间的各个步骤使用检验过程来检测晶片上的缺陷以促进制造工艺中的更高良率，及因此更高利润。检验始终是制造半导体装置(例如集成电路(ic))的重要部分。然而，随着半导体装置的尺寸减小，检验对于成功制造可接受半导体装置变得更重要，因为较小缺陷可使装置失效。例如，随着半导体装置的尺寸减小，检测大小减小的缺陷变得必要，因为即使是相对较小缺陷也可在半导体装置中引起非所要像差。
4、在检验期间可使用修补对设计对准(pda)。可在设置期间扫描整个晶片以找到均匀分布遍及裸片的2d独有目标。为这些目标中的每一者获取设计。可从实例目标学习图像渲染参数且可从每一目标处的设计渲染图像。此经渲染图像可与每一目标处的光学图像对准。可从每一检验帧的目标确定设计及图像偏移。目标及偏移被保存到数据库。
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6、pda的对准或其它方面会受过程变化的负面影响，这会降低pda性能。需要改进的技术及系统。
技术实现思路
1、在第一实施例中提供一种方法。所述方法包含使用处理器将设置图像与目标处的运行时图像对准，借此产生经对准图像。使用所述处理器确定所述经对准图像的正规化互相关分数。所述经对准图像的所述正规化互相关分数可低于阈值。使用所述处理器确定针对所述经对准图像中的多边形在垂直x及y方向上的图像投影。使用所述处理器对准所述设置图像及所述运行时图像的所述图像投影。
2、所述方法可进一步包含在对准所述图像投影之后，确定检验帧的所述设置图像与所述运行时图像之间的偏移。还可确定所述检验帧的设计与所述运行时图像之间的偏移。可基于偏移校正来放置关注区。
3、对准所述图像投影可包含：确定针对所述经对准图像中的所述多边形沿所述x方向的投影峰值位置；调整所述运行时图像及/或所述设置图像，使所述投影峰值位置沿所述x方向重叠；确定针对所述经对准图像中的所述多边形沿所述y方向的投影峰值位置；及调整所述运行时图像及/或所述设置图像，使所述投影峰值位置沿所述y方向重叠。
4、在第二实施例中提供一种系统。所述系统包含：载物台，其经配置以固持半导体晶片；能量源，其经配置以将射束引导于所述载物台上的所述半导体晶片处；检测器，其经配置以接收从所述载物台上的所述半导体晶片反射的所述射束；及处理器，其与所述检测器电子通信。所述能量源可为光源。所述射束可为光束。所述处理器经配置以：将设置图像与目标处的运行时图像对准，借此产生经对准图像；确定所述经对准图像的正规化互相关分数；确定针对所述经对准图像中的多边形在垂直x及y方向上的图像投影；及对准所述设置图像及所述运行时图像的所述图像投影。所述经对准图像的所述正规化互相关分数可低于阈值。
5、所述处理器可进一步经配置以在对准所述图像投影之后确定检验帧的所述设置图像与所述运行时图像之间的偏移。所述处理器可进一步经配置以确定所述检验帧的设计与所述运行时图像之间的偏移。所述处理器可进一步经配置以基于偏移校正来放置关注区。
6、对准所述图像投影可包含：确定针对所述经对准图像中的所述多边形沿所述x方向的投影峰值位置；调整所述运行时图像及/或所述设置图像，使所述投影峰值位置沿所述x方向重叠；确定针对所述经对准图像中的所述多边形沿所述y方向的投影峰值位置；及调整所述运行时图像及/或所述设置图像，使所述投影峰值位置沿所述y方向重叠。
7、在第三实施例中提供一种非暂时性计算机可读存储媒体。所述非暂时性计算机可读存储媒体包括用于在一或多个计算装置上执行以下步骤的一或多个程序。所述步骤包含：将设置图像与目标处的运行时图像对准，借此产生经对准图像；确定所述经对准图像的正规化互相关分数；确定针对所述经对准图像中的多边形在垂直x及y方向上的图像投影；及对准所述设置图像及所述运行时图像的所述图像投影。所述经对准图像的所述正规化互相关分数可低于阈值。
8、所述步骤可进一步包含在对准所述图像投影之后确定检验帧的所述设置图像与所述运行时图像之间的偏移。所述步骤可进一步包含确定所述检验帧的设计与所述运行时图像之间的偏移。所述步骤可进一步包含使用所述处理器基于偏移校正来放置关注区。
9、所述步骤可进一步包含：确定针对所述经对准图像中的所述多边形沿所述x方向的投影峰值位置；调整所述运行时图像及/或所述设置图像，使所述投影峰值位置沿所述x方向重叠；确定针对所述经对准图像中的所述多边形沿所述y方向的投影峰值位置；及调整所述运行时图像及/或所述设置图像，使所述投影峰值位置沿所述y方向重叠。
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1.一种方法，其包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其进一步包括在对准所述图像投影之后，使用所述处理器确定检验帧的所述设置图像与所述运行时图像之间的偏移。
3.根据权利要求2所述的方法，其进一步包括使用所述处理器确定所述检验帧的设计与所述运行时图像之间的偏移。
4.根据权利要求3所述的方法，其进一步包括使用所述处理器基于偏移校正来放置关注区。
5.根据权利要求1所述的方法，其中对准所述图像投影包含：
6.一种系统，其包括：
7.根据权利要求6所述的系统，其中所述能量源是光源，且其中所述射束是光束。
8.根据权利要求6所述的系统，其中所述处理器进一步经配置以在对准所述图像投影之后确定检验帧的所述设置图像与所述运行时图像之间的偏移。
9.根据权利要求8所述的系统，其中所述处理器进一步经配置以确定所述检验帧的设计与所述运行时图像之间的偏移。
10.根据权利要求9所述的系统，其中所述处理器进一步经配置以基于偏移校正来放置关注区。
11.根据权利要求6所述的系统，其中对
12.一种非暂时性计算机可读存储媒体，其包括用于在一或多个计算装置上执行以下步骤的一或多个程序：
13.根据权利要求12所述的非暂时性计算机可读存储媒体，其中所述步骤进一步包含在对准所述图像投影之后确定检验帧的所述设置图像与所述运行时图像之间的偏移。
14.根据权利要求13所述的非暂时性计算机可读存储媒体，其中所述步骤进一步包含确定所述检验帧的设计与所述运行时图像之间的偏移。
15.根据权利要求14所述的非暂时性计算机可读存储媒体，其中所述步骤进一步包含使用所述处理器基于偏移校正来放置关注区。
16.根据权利要求12所述的非暂时性计算机可读存储媒体，其中所述步骤进一步包含：
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种方法，其包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其进一步包括在对准所述图像投影之后，使用所述处理器确定检验帧的所述设置图像与所述运行时图像之间的偏移。
3.根据权利要求2所述的方法，其进一步包括使用所述处理器确定所述检验帧的设计与所述运行时图像之间的偏移。
4.根据权利要求3所述的方法，其进一步包括使用所述处理器基于偏移校正来放置关注区。
5.根据权利要求1所述的方法，其中对准所述图像投影包含：
6.一种系统，其包括：
7.根据权利要求6所述的系统，其中所述能量源是光源，且其中所述射束是光束。
8.根据权利要求6所述的系统，其中所述处理器进一步经配置以在对准所述图像投影之后确定检验帧的所述设置图像与所述运行时图像之间的偏移。
9.根据权利要求8所述的系统，其中所述处理器进一步经配置以确定所述检验帧的设计与所述运行时图...
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