一种铝靶材的制备方法技术

本发明专利技术提供一种铝靶材的制备方法，所述制备方法包括如下步骤：(1)铝锭依次经第一预热、第一锻造和第一热处理后，得到处理后铝锭；(2)所述处理后铝锭依次经第二预热、第二锻造和第二热处理后，热轧，得到半成品铝靶坯；(3)所述半成品铝靶坯经第三热处理，得到所述铝靶材。本发明专利技术所述铝靶材的制备方法操作简单，得到的铝靶材内部微观组织分布均匀，晶粒大小在200μm以下，外观色泽一致，具有优良的溅射性能，应用前景广泛。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及靶材，尤其涉及一种铝靶材的制备方法。

技术介绍

1、半导体用溅射靶材，对靶坯内部晶粒组织均匀性要求高，因此对靶坯的整个塑性变形热处理工艺有着较高的要求。受限于技术条件，现有工艺所生产的靶坯，晶粒大小在500μm以下且均匀性较低，外观可见明显花斑状纹路，报废率较高。

2、cn116240510a公开了一种管状铝靶材的制备方法，所述制备方法包括以下步骤：(1)将铝锭依次进行第一热处理、第一锻伸、第二热处理、第二锻伸和第三热处理，得到坯料；(2)将步骤(1)得到的所述坯料进行第四热处理，然后进行挤压处理，得到压坯；(3)将步骤(2)得到的所述压坯进行第五热处理，得到管状铝靶材。

3、cn108202292a公开了一种铝靶材的制作方法，首先形成铝板，对所述铝板进行喷砂，将喷砂后的铝板制作成铝靶材。由于金属铝具有延展性强且硬度低的特点，采用滚压的抛光方式易将杂质压入金属内部，使其难以去除。喷砂方式是采用压缩空气为动力，以形成高速喷射束将喷料高速喷射到需要处理的工件表面，由于砂粒对工件表面的冲击和切削作用，使工件的表面获得一定的清本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种铝靶材的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括如下步骤：

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)所述铝锭的纯度为5N以上；

3.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)所述第一热处理的温度为250℃～350℃，保温时间为30～90min；

4.根据权利要求1～3任一项所述的制备方法，其特征在于，步骤(2)所述第二预热在电阻式加热炉中进行；

5.根据权利要求1～4任一项所述的制备方法，其特征在于，步骤(2)所述第二锻造的锻造比为1.5～2.5，重复锻造2～3次。

6.根据权利要求1～5任一...

【技术特征摘要】

1.一种铝靶材的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括如下步骤：

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)所述铝锭的纯度为5n以上；

3.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)所述第一热处理的温度为250℃～350℃，保温时间为30～90min；

4.根据权利要求1～3任一项所述的制备方法，其特征在于，步骤(2)所述第二预热在电阻式加热炉中进行；

5.根据权利要求1～4任一项所述的制备方法，其特征在于，步骤(2)所述第二锻造的锻造比为1.5～2.5，重复锻造2～3次。

6.根据权利要求1～5任一项所述的制备...

【专利技术属性】
技术研发人员：姚力军，潘杰，周友平，陈勇军，余婷，
申请(专利权)人：宁波江丰电子材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：