【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于晶圆检测，涉及利用磁光效应进行测量，具体地，涉及一种光斑位置定位方法、装置及晶圆磁光检测装置。
技术介绍
1、当光束通过较小或狭窄空间传播，或照射于狭小空间时，常由于空间的限制而无法对光束进行定位，换句话说，无法确定光束的照射位置。例如，cn200520041648.x提供了一种表面磁光克尔效应装置，由激光器、偏振棱镜、分光镜、探测器、运算放大器、单片机、计算机组成，其中，样品设置在电磁铁的两个极头之间，其光路系统中的激光器发出的光需穿过电磁铁的极头以照射到被测样品上，由于极头相互靠近以形成相应的磁场造成极头间距离急剧减小，且极头中设置的用于通光的通孔及其中的光无法从外部观察，因此激光器发出的光照射于样品的准确位置无法确定；相似地，cn200810036920.3提供了一种大场纵向表面磁光克尔效应测量装置，由电磁铁、程控磁铁电源、光路系统、操作控制系统组成，该装置中的激光器发出的光从电磁铁的极头之间的间隙照射至被测样品，由于极头之间的间距较小难以容纳测量工具从而难以测量激光器的照射位置，在电磁铁外侧测量激光器的照射位置时则会由于距离的增加导致测量结果误差的增加，难以实现对激光器的照射位置的准确定位。
2、因此，亟需一种光束定位方法。
3、在
技术介绍
部分中公开的上述信息仅仅用于增强对本专利技术背景的理解，因此可能包含不构成本领域普通技术人员公知的现有技术的信息。
技术实现思路
1、为了提供一种光束定位方法，本专利技术首先提供了一种光斑位置定位方法
2、优选地，所述传感器为四象限传感器，所述四象限探测器响应于所述光斑。
3、进一步优选地，通过所述四象限探测器中设置的四路光电探测器的输出信号，判断所述四象限探测器是否处于第一位置。
4、更进一步优选地，四路所述光电探测器的输出信号相同时，视为所述四象限探测器处于所述第一位置。
5、可选地，所述定位方法还包括：通过所述视觉组件获取晶圆位置并作为第三位置；至少根据所述第一位置、第二位置，以及所述第二位置、第三位置之间的相对位置，计算所述第三位置与所述第一位置之间的相对位置。
6、优选地，所述第二位置位于所述视觉组件的视觉中心。
7、优选地，通过对所述传感器成像感应区中心成像以计算第二位置。
8、优选地，所述传感器的感光面与晶圆承载组件所承载的晶圆上表面大体共面。
9、可选地，所述定位方法还包括：通过所述视觉组件识别所述晶圆承载组件承载的晶圆的缺口，计算晶圆角度。
10、可选地，所述传感器可以为ccd传感阵列、cmos传感阵列、感光元件、四象限探测器的其中之一。
11、本专利技术还提供了一种晶圆磁光检测装置，包括晶圆承载组件、光路组件、视觉组件，所述晶圆承载组件被构造成能够承载并带动晶圆移动的形式，所述光路组件包括用于向晶圆一侧发出检测光的光发生装置、用于接收晶圆反射光的光接收装置，所述视觉组件被构造成能够对晶圆承载组件的晶圆承载面成像的形式，所述光发生装置、视觉组件相对固定设置，所述晶圆承载组件的晶圆承载面固定设置有传感器，所述传感器被构造成能够响应于所述光发生装置发出的光的形式。
12、优选地，所述检测装置还包括磁场发生组件，所述磁场发生装置与所述光发生装置相对位置固定设置，所述磁场发生组件包括励磁线圈、极头，所述励磁线圈套于所述极头，所述极头向所述光发生装置形成的光斑处延伸。
13、本专利技术还提供了一种光斑位置定位装置，包括数据处理器、传感器、位移组件、视觉组件；
14、所述数据处理器与所述传感器、视觉组件通信连接，用于接收所述传感器、视觉组件发送的信号；
15、所述传感器固定于所述位移组件，所述传感器响应于光斑并根据所述光斑输出相应信号；
16、所述视觉组件被构造成能够对所述位移组件的设置有所述传感器的一侧成像的形式，所述视觉组件根据采集到的图像数据输出相应信号；
17、所述数据处理器与所述位移组件通信连接，并向所述位移组件发送移动控制指令，所述数据处理器能够至少暂时地存储所述移动控制指令，所述移动控制指令响应于所述传感器输出的信号、所述视觉组件输出的信号的其中至少之一；
18、所述数据处理器根据所述传感器输出的信号、所述视觉组件输出的信号、所述移动控制指令输出定位数据。
19、优选地，所述传感器为四象限探测器。
20、本专利技术至少具有以下有益效果：本专利技术所提供的定位方法和定位装置，通过使响应于光斑的传感器在第一位置、第二位置之间移动第一位移，并通过视觉组件确定第二位置，从而利用第一位移、第二位置确定第一位置以确定光斑位置，从而能够在光斑处空间受限时仍能够对光斑位置进行定位；利用视觉组件进一步识别晶圆的位置，从而实现晶圆位置的定位，进一步提高晶圆磁光检测装置的定位效果和检测精度。本专利技术还提供了一种晶圆磁光检测装置，能够对光路组件中的光发生装置产生的光的照射位置进行定位，提高检测时的位置精度。
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1.一种光斑位置定位方法，其特征在于：
2.如权利要求1所述的一种光斑位置定位方法，其特征在于：所述传感器为四象限传感器，所述四象限探测器响应于所述光斑。
3.如权利要求2所述的一种光斑位置定位方法，其特征在于：通过所述四象限探测器中设置的四路光电探测器的输出信号，判断所述四象限探测器是否处于第一位置。
4.如权利要求3所述的一种光斑位置定位方法，其特征在于：四路所述光电探测器的输出信号相同时，视为所述四象限探测器处于所述第一位置。
5.如权利要求1所述的一种光斑位置定位方法，其特征在于：所述定位方法还包括：通过所述视觉组件获取晶圆位置并作为第三位置；至少根据所述第一位置、第二位置，以及所述第二位置、第三位置之间的相对位置，计算所述第三位置与所述第一位置之间的相对位置。
6.如权利要求1所述的一种光斑位置定位方法，其特征在于：所述第二位置位于所述视觉组件的视觉中心。
7.如权利要求1所述的一种光斑位置定位方法，其特征在于：通过对所述传感器成像感应区中心成像以计算第二位置。
8.如权利要求1所述的一
9.如权利要求1所述的一种光斑位置定位方法，其特征在于：所述定位方法还包括：通过所述视觉组件识别所述晶圆承载组件承载的晶圆的缺口，计算晶圆角度。
10.如权利要求1所述的一种光斑位置定位方法，其特征在于：所述传感器可以为CCD传感阵列、CMOS传感阵列、感光元件、四象限探测器的其中之一。
11.一种晶圆磁光检测装置，其特征在于：包括晶圆承载组件、光路组件、视觉组件，所述晶圆承载组件被构造成能够承载并带动晶圆移动的形式，所述光路组件包括用于向晶圆一侧发出检测光的光发生装置、用于接收晶圆反射光的光接收装置，所述视觉组件被构造成能够对晶圆承载组件的晶圆承载面成像的形式，所述光发生装置、视觉组件相对固定设置，所述晶圆承载组件的晶圆承载面固定设置有传感器，所述传感器被构造成能够响应于所述光发生装置发出的光的形式。
12.如权利要求11所述的一种晶圆磁光检测装置，其特征在于：所述检测装置还包括磁场发生组件，所述磁场发生装置与所述光发生装置相对位置固定设置，所述磁场发生组件包括励磁线圈、极头，所述励磁线圈套于所述极头，所述极头向所述光发生装置形成的光斑处延伸。
13.一种光斑位置定位装置，其特征在于：包括数据处理器、传感器、位移组件、视觉组件；
14.如权利要求13所述的一种光斑位置定位装置，其特征在于：所述传感器为四象限探测器。
...【技术特征摘要】
1.一种光斑位置定位方法，其特征在于：
2.如权利要求1所述的一种光斑位置定位方法，其特征在于：所述传感器为四象限传感器，所述四象限探测器响应于所述光斑。
3.如权利要求2所述的一种光斑位置定位方法，其特征在于：通过所述四象限探测器中设置的四路光电探测器的输出信号，判断所述四象限探测器是否处于第一位置。
4.如权利要求3所述的一种光斑位置定位方法，其特征在于：四路所述光电探测器的输出信号相同时，视为所述四象限探测器处于所述第一位置。
5.如权利要求1所述的一种光斑位置定位方法，其特征在于：所述定位方法还包括：通过所述视觉组件获取晶圆位置并作为第三位置；至少根据所述第一位置、第二位置，以及所述第二位置、第三位置之间的相对位置，计算所述第三位置与所述第一位置之间的相对位置。
6.如权利要求1所述的一种光斑位置定位方法，其特征在于：所述第二位置位于所述视觉组件的视觉中心。
7.如权利要求1所述的一种光斑位置定位方法，其特征在于：通过对所述传感器成像感应区中心成像以计算第二位置。
8.如权利要求1所述的一种光斑位置定位方法，其特征在于：所述传感器的感光面与晶圆承载组件所承载的晶圆上表面大体共面。
9.如权利要求1所述的一种光斑位置定位方法，其特...
【专利技术属性】
技术研发人员：杜洪磊，曹志强，张学莹，史世伟，严洪悦，
申请(专利权)人：北京航空航天大学，
类型：发明
国别省市：
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