【技术实现步骤摘要】
本专利技术，涉及一种光学玻璃、光学元件以及预成形体。
技术介绍
1、光学设备的透镜系统，通常情况是组合具有不同的光学的性质多个玻璃透镜而进行设计。近年，光学设备的透镜系统所需的特性正在多样化，为了进一步提高其设计的自由度，正在开发具有以往未受到关注的光学特性的光学玻璃。其中，具有反常色散性(δθg，f)的特征的光学玻璃，作为对相差的色校正有显著效果的玻璃而备受关注。
2、例如在专利文献1～3中，提出了一种除了以往所必需的高折射率和低色散性以及加工性优良等性质以外，反常色散性也高的光学玻璃，其例如含有p5+、al3+、碱土类金属离子等作为阳离子成分，且含有f－以及o2－作为阴离子成分。
3、现有技术文献
4、专利文献
5、专利文献1：日本特开2007－55883号公报
6、专利文献2：日本特开2011－116649号公报
7、专利文献3：日本特开2011－126782号公报
技术实现思路
1、专利技术要解决的技术问题
2、然而，专利文献1～3中公开的光学玻璃，折射率低，或者阿贝数高。因此，希望开发折射率为1.50以上，且阿贝数为45～68的高折射率低色散区域的光学玻璃。
3、本专利技术，鉴于上述技术问题而提出，其目的在于提供一种在氟磷酸系光学玻璃中，可维持高折射率以及反常色散性(δθg，f)的特征，并且具有阿贝数为45～68的高色散性的光学玻璃、使用该光学玻璃的光学元件以及预成形体。>
4、解决技术问题的方法
5、本专利技术人，为了解决上述技术问题经过深入研究，而完成了本专利技术。具体地，本专利技术提供了如下产品。
6、(1)一种光学玻璃，
7、用阳离子％(摩尔％)表示，含有：
8、17.0～50.0％的p5+，
9、3.0～20.0％的al3+，
10、33.0～60.0％的r2+，
11、用阳离子％(摩尔％)表示，nb5+、ti4+以及w6+含有率的总量(nb5++ti4++w6+)为0％～15.0％，
12、ln3+的总含量为2.0～40.0％，
13、含有o2－以及f－作为阴离子成分，
14、折射率(nd)为1.50～1.67，阿贝数(νd)为45～68，
15、反常色散性(δθg，f)为0.002以上(ln3+是选自由y3+、la3+、gd3+、yb3+以及lu3+组成的群组的至少一个，r2+是选自由mg2+、ca2+、sr2+、ba2+以及zn2+组成的群组的至少一个。)。
16、(2)如(1)所述的光学玻璃，其中，
17、用阳离子％(摩尔％)表示，含有：
18、0～25.0％的mg2+，
19、0～20.0％的ca2+，
20、10.0％～55.0％的ba2+
21、0～小于20.0％的sr2+，
22、0～25.0％的zn2+。
23、(3)如(1)或(2)所述的光学玻璃，其中，
24、用阴离子％(摩尔％)表示，含有：
25、30.0～75.0％的o2－，
26、25.0～65.0％的f－。
27、(4)一种由如(1)至(3)中任一项所述的光学玻璃制成的光学元件。
28、(5)一种由(1)至(3)中任一项所述的光学玻璃制成的研磨加工用和/或精密压制成形用的预成形体。
29、(6)一种对如(5)所述的预成形体进行研磨而形成的光学元件。
30、(7)一种对如(5)所述的预成形体进行精密压制而形成的光学元件。
31、专利技术的效果
32、根据本专利技术，能够提供一种具有所需的高折射率以及阿贝数，并且反常色散性(δθg，f)为0.002以上的光学玻璃、使用该光学玻璃的光学元件以及预成形体。
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1.一种光学玻璃，
2.如权利要求1所述的光学玻璃，其中，
3.一种由如权利要求1或2所述的光学玻璃制成的光学元件。
4.一种由如权利要求1或2所述的光学玻璃制成的研磨加工用和/或精密压制成形用的预成形体。
5.一种对如权利要求4所述的预成形体进行研磨而形成的光学元件。
6.一种对如权利要求4所述的预成形体进行精密压制而形成的光学元件。
【技术特征摘要】
1.一种光学玻璃，
2.如权利要求1所述的光学玻璃，其中，
3.一种由如权利要求1或2所述的光学玻璃制成的光学元件。
4.一种由如权利要求1或2所述的光学玻璃制成的...
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