一种硅异质结电池铜栅线的制备方法技术

技术编号:40040305 阅读:22 留言:0更新日期:2024-01-16 19:37
本发明专利技术涉及异质结太阳能电池领域,具体涉及一种硅异质结电池铜栅线的制备方法。本发明专利技术提供一种硅异质结电池铜栅线的制备方法,包括在形成铜种子层的电池正背表面制备油墨层,再刻蚀掉电池侧面的铜种子层和TCO薄膜。该方法仅通过一次掩膜,即实现了电池表面图形化,同时解决了侧面隔离的问题,保证后续电镀工艺中电池侧面不会有金属铜沉积,避免由此导致的电池漏电,提高电池的性能、生产良率和质量。此外,相对于干膜,油墨材料的成本较低,能够显著降低电池的生产成本。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及异质结太阳能电池领域,具体涉及一种硅异质结电池铜栅线的制备方法


技术介绍

1、太阳能电池是一种能将太阳能转换成电能的半导体器件,在光照条件下太阳能电池内部会产生光生电流,通过电极将电能输出。近年来,太阳能电池生产技术不断进步,生产成本不断降低,转换效率不断提高,太阳能电池发电的应用日益广泛并成为电力供应的重要能源。

2、目前铜栅线硅异质结太阳能电池的典型结构为:铜栅线电极/tco/a-si(n)/a-si(i)/c-si/a-si(i)/a-si(p)/tco/铜栅线电极。对正背电极均为铜栅线的电池,工艺流程为:晶硅衬底清洗制绒、pecvd沉积正背面本征及掺杂非晶硅薄膜、pvd沉积正背面tco薄膜以及铜栅线制备。单就铜栅线制备而言,其步骤包括:(a)pvd沉积铜种子层:在正背面tco薄膜表面分别通过pvd沉积正背面铜种子层;(b)光刻图形化:在正背面铜种子层表面依次通过贴膜、层压、曝光、显影步骤形成图形化的掩膜;(c)电镀:电镀沉积正背面铜栅线;(d)去除正背面掩膜;(e)去铜化锡:去除非栅线位置的铜种子层并在铜栅线表面沉积金属本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种硅异质结电池铜栅线的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:

2.根据权利要求1所述的硅异质结电池铜栅线的制备方法,其特征在于,所述步骤(1)中,在形成有铜种子层的电池表面印刷或喷涂光固化油墨,并加热使其干燥固化,制得油墨层。

3.根据权利要求2所述的硅异质结电池铜栅线的制备方法,其特征在于,所述步骤(1)中,所述固化的温度为70~100℃,固化的时间为10~30min。

4.根据权利要求1所述的硅异质结电池铜栅线的制备方法,其特征在于,所述步骤(1)中,所述油墨层的厚度为8~35μm。

5.根据权利要求1所述的硅异质结电池铜栅线的制备...

【技术特征摘要】

1.一种硅异质结电池铜栅线的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:

2.根据权利要求1所述的硅异质结电池铜栅线的制备方法,其特征在于,所述步骤(1)中,在形成有铜种子层的电池表面印刷或喷涂光固化油墨,并加热使其干燥固化,制得油墨层。

3.根据权利要求2所述的硅异质结电池铜栅线的制备方法,其特征在于,所述步骤(1)中,所述固化的温度为70~100℃,固化的时间为10~30min。

4.根据权利要求1所述的硅异质结电池铜栅线的制备方法,其特征在于,所述步骤(1)中,所述油墨层的厚度为8~35μm。

5.根据权利要求1所述的硅异质结电池铜栅线的制备方法,其特征在于,所述步骤(3)中,将曝光后的电池放入化学刻蚀液中依次刻蚀去除所述电...

【专利技术属性】
技术研发人员:田宏波黎力赵晓霞李世岚王伟宗军孙金华范霁红
申请(专利权)人:国家电投集团科学技术研究院有限公司
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1