清洁基站及清洁设备制造技术

技术编号:40038352 阅读:18 留言:0更新日期:2024-01-16 19:19
本申请涉及一种清洁基站及清洁设备,包括底座、侧壁及烘干结构,底座与侧壁之间围设形成容置空间,容置空间用于容置清洁主体,烘干结构包括出风组件及风道组件,出风组件设于底座内且与风道组件气流连通,风道组件设于底座内具有面向容置空间的第一出风口。如此,采用底置式烘干结构,将出风组件和风道组件均设置在底座内,缩短出风组件的出风行程,相比出风组件后置的方案,大大的缩短了风道长度,提高烘干效率,同时节省清洁基站后侧的空间,使体积小型化。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及家用清洁设备,特别是涉及一种清洁基站及清洁设备


技术介绍

1、清洁设备一般包括清洁主体以及清洁基站,清洁主体用于对地面进行清理,清洁基站用于对清洁主体进行清理和维护。

2、具体地,带清洁基站的清洁设备,在清洁主体执行完湿式清洁任务后,可以回到清洁基站对清洁主体的拖布进行清洁、并烘干拖布,防止拖布发霉、发臭等。

3、然而,一般地清洁主体上设置的对拖布进行烘干的出风风道较长,折弯较多,风量损失较大,不利用提高烘干效率,影响用户体验。


技术实现思路

1、基于此,本申请针对传统清洁基站烘干效果差、效率低的问题,提出一种清洁基站及清洁设备,该清洁基站及清洁设备具有烘干效果好且效率高的技术效果。

2、一种清洁基站,与清洁主体配合,清洁基站包括:

3、底座及围设于底座一侧的侧壁,所述底座及所述侧壁之间围设形成容置空间,所述容置空间用于容置清洁主体;

4、烘干结构,包括出风组件及风道组件,所述出风组件设于所述底座内且与所述风道组件气流连通,所述风道组件设本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种清洁基站,与清洁主体配合,其特征在于,所述清洁基站包括:

2.根据权利要求1所述的清洁基站,其特征在于,所述底座(10)包括底板(11)及盖体(12),所述底板(11)与所述盖体(12)相对设置且连接,所述侧壁(20)位于所述盖体(12)背离所述底板(11)的一侧;

3.根据权利要求2所述的清洁基站,其特征在于,所述第二出风口面向所述第一出风口(422)所在平面的正投影覆盖全部所述第一出风口(422)。

4.根据权利要求2所述的清洁基站,其特征在于,所述清洁基站(100)具有与所述侧壁(20)相对设置的出入口,沿所述清洁主体从所述出入口进入所述...

【技术特征摘要】

1.一种清洁基站,与清洁主体配合,其特征在于,所述清洁基站包括:

2.根据权利要求1所述的清洁基站,其特征在于,所述底座(10)包括底板(11)及盖体(12),所述底板(11)与所述盖体(12)相对设置且连接,所述侧壁(20)位于所述盖体(12)背离所述底板(11)的一侧;

3.根据权利要求2所述的清洁基站,其特征在于,所述第二出风口面向所述第一出风口(422)所在平面的正投影覆盖全部所述第一出风口(422)。

4.根据权利要求2所述的清洁基站,其特征在于,所述清洁基站(100)具有与所述侧壁(20)相对设置的出入口,沿所述清洁主体从所述出入口进入所述容置空间(30)的方向,所述风道组件(42)和所述出风组件(41)间隔设置。

5.根据权利要求4所述的清洁基站,其特征在于,所述风道组件(42)包括至少一个风道(421),每个所述风道(421)均具有面向所述容置空间(30)的所述第一出风口(422),所述第一出风口(422)沿所述风道(421)的气流延伸方向开设。

6.根据权利要求5所述的清洁基站,其特征在于,所述风道(421)包括至少两个,全部所述风道(421)所述清洁主体从所述出入口进入容置空间(30)的方向间隔布设,且每个所述风道(421)的一端均与所述出风组件(41)气流连通。

7.根据权利要求6所述的清洁基站,其特征在于,每个所述风道(4...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘宇莹林海利谢瑞良冯煜湛李成开黄忠平
申请(专利权)人:珠海格力电器股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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