【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及膜检测,特别涉及一种去金属离子膜完整性检测装置及检测方法。
技术介绍
1、完整性检测是指对膜片的物理完整性进行测试和验证的过程,以确认其有效阻隔液体和气体的能力。去金属离子膜表面是没有孔径结构的致密层结构,在湿电子化学品分离提纯领域具有重要的应用价值。去金属离子膜片需要定期进行完整性测试,一旦膜片在制作或使用过程中出现缺陷或破损,其对金属离子的去除率则无法达到预期效果。
2、由于去金属离子膜表面没有孔径结构,因此传统的孔径测试方法(如通过气泡点测试或水浸入检测等)通常不适用于去金属离子膜的检测。另一种常见的完整性检测方法是色谱法。该方法利用气体或液体渗透膜片时分子尺寸和分子量的差异,通过将具有已知分子尺寸和分子量的标准物质添加到渗透流体中,然后使用色谱仪检测渗透流体中的物质组分,可以确定膜片的完整性,但该方法也存在操作过程复杂、检测效率低、测试准确度差等问题。
技术实现思路
1、针对现有技术的不足,本专利技术提供了一种去金属离子膜完整性检测装置及检测方法,检测装置
...【技术保护点】
1.一种去金属离子膜完整性检测装置,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的去金属离子膜完整性检测装置,其特征在于,所述去金属离子膜完整性检测装置还包括气体流量调节器(11),所述气体流量调节器(11)设置在所述进气管路(20)上且位于所述空压机(2)和气体阀门(3)之间。
3.根据权利要求1所述的去金属离子膜完整性检测装置,其特征在于,所述去金属离子膜完整性检测装置还包括液体流量调节器(12),所述液体流量调节器(12)设置在所述进液管路(50)上且位于所述压力泵(6)和液体阀门(7)之间。
4.根据权利要求3所述的去金属离子
...【技术特征摘要】
1.一种去金属离子膜完整性检测装置,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的去金属离子膜完整性检测装置,其特征在于,所述去金属离子膜完整性检测装置还包括气体流量调节器(11),所述气体流量调节器(11)设置在所述进气管路(20)上且位于所述空压机(2)和气体阀门(3)之间。
3.根据权利要求1所述的去金属离子膜完整性检测装置,其特征在于,所述去金属离子膜完整性检测装置还包括液体流量调节器(12),所述液体流量调节器(12)设置在所述进液管路(50)上且位于所述压力泵(6)和液体阀门(7)之间。
4.根据权利要求3所述的去金属离子膜完整性检测装置,其特征在于,所述去金属离子膜完整性检测装置还包括换热器(13),所述换热器(13)设置在所述进液管路(50)上且位于所述压力泵(6)和液体流量调节器(12)之间。
5.根据权利要求1所述的去金属离子膜完整性检测装置,其特征在于,所述膜池组件(1)包括膜池上盖(14)和膜池下盖(15),所述膜池上盖(14)和膜池下盖(15)之间形成有用于收纳...
【专利技术属性】
技术研发人员:丁晓斌,相里粉娟,李旭洋,刘公平,朱海鹏,
申请(专利权)人:山东产研久膜科技开发有限公司,
类型:发明
国别省市:
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