【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及膜检测，特别涉及一种去金属离子膜完整性检测装置及检测方法。
技术介绍
1、完整性检测是指对膜片的物理完整性进行测试和验证的过程，以确认其有效阻隔液体和气体的能力。去金属离子膜表面是没有孔径结构的致密层结构，在湿电子化学品分离提纯领域具有重要的应用价值。去金属离子膜片需要定期进行完整性测试，一旦膜片在制作或使用过程中出现缺陷或破损，其对金属离子的去除率则无法达到预期效果。
2、由于去金属离子膜表面没有孔径结构，因此传统的孔径测试方法(如通过气泡点测试或水浸入检测等)通常不适用于去金属离子膜的检测。另一种常见的完整性检测方法是色谱法。该方法利用气体或液体渗透膜片时分子尺寸和分子量的差异，通过将具有已知分子尺寸和分子量的标准物质添加到渗透流体中，然后使用色谱仪检测渗透流体中的物质组分，可以确定膜片的完整性，但该方法也存在操作过程复杂、检测效率低、测试准确度差等问题。
技术实现思路
1、针对现有技术的不足，本专利技术提供了一种去金属离子膜完整性检测装置及检测方法，检测装置及检测方法的操作过程简单、检测效率高且测试准确度高。
2、本专利技术通过以下技术方案实现：
3、一种去金属离子膜完整性检测装置，包括：
4、膜池组件，用于固定待测试的去金属离子膜；
5、空压机，其通过进气管路与所述膜池组件的一端连通；
6、气体阀门，设置在所述进气管路上且位于所述空压机和膜池组件之间；
7、气体流量计，其通过出
8、储水罐，其通过进液管路与所述膜池组件的一端连通；
9、压力泵，设置在所述进液管路上；
10、液体阀门，设置在所述进液管路上且位于所述压力泵和膜池组件之间；
11、真空泵，其通过出液管路与所述膜池组件的另一端连通；
12、液体流量计，设置在所述出液管路上，且所述液体流量计设置在真空泵和膜池组件之间；
13、检测系统，其同时与所述出气管路和出液管路的末端连通。
14、进一步的，所述去金属离子膜完整性检测装置还包括气体流量调节器，所述气体流量调节器设置在所述进气管路上且位于所述空压机和气体阀门之间。
15、进一步的，所述去金属离子膜完整性检测装置还包括液体流量调节器，所述液体流量调节器设置在所述进液管路上且位于所述压力泵和液体阀门之间。
16、进一步的，所述去金属离子膜完整性检测装置还包括换热器，所述换热器设置在所述进液管路上且位于所述压力泵和液体流量调节器之间。
17、进一步的，所述膜池组件包括膜池上盖和膜池下盖，所述膜池上盖和膜池下盖之间形成有用于收纳去金属离子膜的收纳腔。
18、进一步的，所述膜池上盖和膜池下盖内均设置有密封圈用于密封所述收纳腔。
19、进一步的，所述去金属离子膜的两侧均放置有至少一层隔网以避免膜池上盖或膜池下盖对去金属离子膜造成损坏。
20、进一步的，所述进气管路和进液管路均与所述膜池上盖或膜池下盖连接，所述出气管路和出液管路均与所述膜池下盖或膜池上盖连接。
21、一种如上述的去金属离子膜完整性检测装置的检测方法，包括以下步骤：
22、步骤s1：启动检测系统，通过检测系统检查整个检测装置的密封性；
23、步骤s2：正压气检：关闭液体阀门，在检测系统中设置检测参数，打开气体阀门和空压机开始测试，若所述气体流量计检测数值低于规定值，则证明去金属离子膜的气密性良好，检测系统提示正常，可以继续进行步骤s3的检测；若所述气体流量计检测数值高于规定值，则证明去金属离子膜有缺陷，检测系统提示异常；
24、步骤s3：负压水检：关闭气体阀门，在检测系统中设置检测参数，打开液体阀门并启动压力泵，使液体经进液管路充满膜池组件，之后关闭压力泵和液体阀门,打开真空泵开始测试，若所述液体流量计未检测到去金属离子膜的透过侧有液体通过，则证明去金属离子膜良好，检测系统提示正常，可以继续进行步骤s4的检测；若所述液体流量计检测到去金属离子膜的透过侧有液体通过，则证明去金属离子膜有缺陷，检测系统提示异常；
25、步骤s4：正压水检：关闭气体阀门，在检测系统中设置检测参数，打开液体阀门和压力泵开始测试，若所述液体流量计未检测到去金属离子膜的透过侧有液体通过，则证明去金属离子膜良好，检测系统提示正常，去金属离子膜完整性检验结束；若所述液体流量计检测到去金属离子膜的透过侧有液体通过，则证明去金属离子膜有缺陷，检测系统提示异常。
26、进一步的，所述压力泵的压力为0.1～0.3mpa，所述真空泵的真空度为5000～20000pa。
27、相比于现有技术，本专利技术的优点在于：
28、1、本专利技术装置采用水和空气作为检测介质来检测去金属离子膜的完整性，具有操作简单、节约成本、检测结果可靠的特点。
29、2、本专利技术装置中分别设置有气体和液体两大通路，可分别利用正压气检-负压水检-正压水检三种方式检验去金属离子膜的完整性，提高检测结果的准确性。
30、3、本专利技术装置中利用水或空气作为检测介质，检测手段和检测过程均较为温和，属于一种无损检测方式，膜材料本身的特有属性不会遭受破坏，保证了膜的性能不受影响。
31、4、本专利技术装置所需检测时间短，检测速率快，几分钟即可完成膜完整性的测试，可极大的满足相关去金属离子膜制造企业的质量测评需要，适合商业化推广。
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1.一种去金属离子膜完整性检测装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的去金属离子膜完整性检测装置，其特征在于，所述去金属离子膜完整性检测装置还包括气体流量调节器(11)，所述气体流量调节器(11)设置在所述进气管路(20)上且位于所述空压机(2)和气体阀门(3)之间。
3.根据权利要求1所述的去金属离子膜完整性检测装置，其特征在于，所述去金属离子膜完整性检测装置还包括液体流量调节器(12)，所述液体流量调节器(12)设置在所述进液管路(50)上且位于所述压力泵(6)和液体阀门(7)之间。
4.根据权利要求3所述的去金属离子膜完整性检测装置，其特征在于，所述去金属离子膜完整性检测装置还包括换热器(13)，所述换热器(13)设置在所述进液管路(50)上且位于所述压力泵(6)和液体流量调节器(12)之间。
5.根据权利要求1所述的去金属离子膜完整性检测装置，其特征在于，所述膜池组件(1)包括膜池上盖(14)和膜池下盖(15)，所述膜池上盖(14)和膜池下盖(15)之间形成有用于收纳去金属离子膜(200)的收纳腔(16)。
...【技术特征摘要】
1.一种去金属离子膜完整性检测装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的去金属离子膜完整性检测装置，其特征在于，所述去金属离子膜完整性检测装置还包括气体流量调节器(11)，所述气体流量调节器(11)设置在所述进气管路(20)上且位于所述空压机(2)和气体阀门(3)之间。
3.根据权利要求1所述的去金属离子膜完整性检测装置，其特征在于，所述去金属离子膜完整性检测装置还包括液体流量调节器(12)，所述液体流量调节器(12)设置在所述进液管路(50)上且位于所述压力泵(6)和液体阀门(7)之间。
4.根据权利要求3所述的去金属离子膜完整性检测装置，其特征在于，所述去金属离子膜完整性检测装置还包括换热器(13)，所述换热器(13)设置在所述进液管路(50)上且位于所述压力泵(6)和液体流量调节器(12)之间。
5.根据权利要求1所述的去金属离子膜完整性检测装置，其特征在于，所述膜池组件(1)包括膜池上盖(14)和膜池下盖(15)，所述膜池上盖(14)和膜池下盖(15)之间形成有用于收纳...
【专利技术属性】
技术研发人员：丁晓斌，相里粉娟，李旭洋，刘公平，朱海鹏，
申请(专利权)人：山东产研久膜科技开发有限公司，
类型：发明
国别省市：
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