【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光纤通讯、光纤激光器和光纤传感，具体为一种参考光栅反射谱刻写整轮光纤光栅的方法。
技术介绍
1、光纤光栅是指在光纤芯部位引入周期性的折射率变化结构，可以用于传感、通信和激光器等领域。光栅的制备过程中，常用的方法包括光栅写入、光栅压制和光栅刻写等。
2、然而传统的光纤光栅刻写方法中，往往需要使用复杂的光学操作和设备来制备参考光栅，并且光纤光栅刻写过程需要手动操作和调整，效率低且易出错。
技术实现思路
1、针对现有技术的不足，本专利技术提供了一种参考光栅反射谱刻写整轮光纤光栅的方法，解决了传统的光纤光栅刻写方法中，往往需要使用复杂的光学操作和设备来制备参考光栅，并且光纤光栅刻写过程需要手动操作和调整，效率低且易出错的问题。
2、为实现以上目的，本专利技术通过以下技术方案予以实现：一种参考光栅反射谱刻写整轮光纤光栅的方法，包括以下步骤：
3、步骤一、根据目标光栅的参数，选择适用的光纤类型，通过算法确定所需的参考光栅的参数；
4、步骤二、在整轮光纤最左端通过透射方法刻写参考光栅，连接参考光栅的左端到环形器的单端口；
5、步骤三、将另外两个端口分别连接宽带光源和光谱分析仪；
6、步骤四、打开宽带光源并测量参考光栅的反射谱，通过算法计算目标光栅所需的功率值，确定目标光栅所需的光斑整形的振幅模板；
7、步骤五、选择相应的相位模板，根据目标光栅的参数确定线性扫描平移台的参数，打开激光器并控制线性扫描平
8、步骤六、监测光谱分析仪上目标光栅的反射谱功率值；
9、步骤七、重复步骤五与步骤六，直到目标光栅功率值达到预设的功率值，关闭激光器，完成目标光栅的刻写。
10、优选的，所述步骤一中适用的光纤类型为smf-28、hi 1060或dcf中的一种或多种。
11、优选的，所述步骤一中参考光栅的参数包括光栅的周期、折射率调制深度与折射率变化分布。
12、优选的，所述步骤五中相位模板为均匀周期、啁啾或相移模板中的一种。
13、优选的，所述步骤五中的线性扫描平移台的参数包括扫描速度、扫描距离和扫描运动曲线中的一种。
14、优选的，所述步骤四中的光斑整形采用暗色不锈钢制造的振幅模板。
15、优选的，所述步骤七中目标光栅为短周期光栅、啁啾光栅、ps-fbg相移光栅、tfbg-倾斜光栅中的一种。
16、优选的，所述步骤一中参考光栅的参数通过参考光栅的反射谱功率参数计算目标光栅的所需功率值。
17、优选的，所述步骤四中振幅模板为高斯型、切比雪夫型或矩形型中的一种。
18、优选的，一种用于参考光栅反射谱刻写整轮光纤光栅的系统，包括：
19、光纤选择模块，用于根据目标光栅参数选择适用的光纤类型；
20、参数算法模块，用于确定参考光栅的参数；
21、刻写模块，用于通过透射方法在整轮光纤最左端刻写参考光栅；
22、环形器连接模块，用于连接参考光栅到环形器的单端口；
23、光源和分析模块，用于连接宽带光源和光谱分析仪；
24、宽带光源控制模块，用于打开宽带光源，测量参考光栅的反射谱以及控制激光器和线性扫描平移台；
25、算法模块，用于根据参考光栅反射谱的功率参数计算目标光栅的所需功率值；
26、振幅模板模块，用于确定目标光栅所需的光斑整形的振幅模板；
27、相位模板选择模块，用于选择相应的相位模板；
28、平移台参数模块，用于根据目标光栅的参数确定线性扫描平移台的参数；
29、监测模块，用于监测光谱分析仪上目标光栅的反射谱功率值；
30、激光器控制模块，用于控制激光器和线性扫描平移台进行刻写；
31、刻写完成模块，用于关闭激光器，完成目标光栅刻写。
32、本专利技术提供了一种参考光栅反射谱刻写整轮光纤光栅的方法。具备以下
33、有益效果：
34、1、本专利技术通过透射方法在整轮光纤的最左端刻写参考光栅的方法，简化了制备过程，降低了成本和复杂性。
35、2、本专利技术通过参数算法模块、控制模块和监测模块，能够自动化地控制光源、激光器和线性扫描平移台，实现自动化的光栅刻写过程，提高了效率和准确性。
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1.一种参考光栅反射谱刻写整轮光纤光栅的方法，其特征在于，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的一种参考光栅反射谱刻写整轮光纤光栅的方法，其特征在于，所述步骤一中适用的光纤类型为SMF-28、Hi 1060或DCF中的一种或多种。
3.根据权利要求1所述的一种参考光栅反射谱刻写整轮光纤光栅的方法，其特征在于，所述步骤一中参考光栅的参数包括光栅的周期、折射率调制深度与折射率变化分布。
4.根据权利要求1所述的一种参考光栅反射谱刻写整轮光纤光栅的方法，其特征在于，所述步骤五中相位模板为均匀周期、啁啾或相移模板中的一种。
5.根据权利要求1所述的一种参考光栅反射谱刻写整轮光纤光栅的方法，其特征在于，所述步骤五中的线性扫描平移台的参数包括扫描速度、扫描距离和扫描运动曲线中的一种。
6.根据权利要求1所述的一种参考光栅反射谱刻写整轮光纤光栅的方法，其特征在于，所述步骤四中的光斑整形采用暗色不锈钢制造的振幅模板。
7.根据权利要求1所述的一种参考光栅反射谱刻写整轮光纤光栅的方法，其特征在于，所述步骤七中目标光栅为短周期
8.根据权利要求1所述的一种参考光栅反射谱刻写整轮光纤光栅的方法，其特征在于，所述步骤一中参考光栅的参数通过参考光栅的反射谱功率参数计算目标光栅的所需功率值。
9.根据权利要求1所述的一种参考光栅反射谱刻写整轮光纤光栅的方法，其特征在于，所述步骤四中振幅模板为高斯型、切比雪夫型或矩形型中的一种。
10.一种用于参考光栅反射谱刻写整轮光纤光栅的系统，根据权利要求1-9任一项所述的一种参考光栅反射谱刻写整轮光纤光栅的方法，其特征在于，包括：
...【技术特征摘要】
1.一种参考光栅反射谱刻写整轮光纤光栅的方法，其特征在于，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的一种参考光栅反射谱刻写整轮光纤光栅的方法，其特征在于，所述步骤一中适用的光纤类型为smf-28、hi 1060或dcf中的一种或多种。
3.根据权利要求1所述的一种参考光栅反射谱刻写整轮光纤光栅的方法，其特征在于，所述步骤一中参考光栅的参数包括光栅的周期、折射率调制深度与折射率变化分布。
4.根据权利要求1所述的一种参考光栅反射谱刻写整轮光纤光栅的方法，其特征在于，所述步骤五中相位模板为均匀周期、啁啾或相移模板中的一种。
5.根据权利要求1所述的一种参考光栅反射谱刻写整轮光纤光栅的方法，其特征在于，所述步骤五中的线性扫描平移台的参数包括扫描速度、扫描距离和扫描运动曲线中的一种。
6.根据权利要求1所述的一...
【专利技术属性】
技术研发人员：何毅，詹俊平，黄保齐，
申请(专利权)人：武汉茵诺维芯光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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