一种低Zr含量的ITO粉体及其制备方法与应用技术

技术编号:40015911 阅读:32 留言:0更新日期:2024-01-16 16:00
本发明专利技术属于纳米材料粉体制备技术领域,具体涉及一种低Zr含量的ITO粉体及其制备方法与应用,本发明专利技术通过将氧化铟粉末和氧化锡粉末分别分散于水中,制得氧化铟浆料和氧化锡浆料;将氧化铟浆料和氧化锡浆料混合砂磨后,加入粘结剂,继续混合砂磨,制得ITO浆料;所述ITO浆料经干燥制粉得ITO粉体。相对于现有技术,本发明专利技术制备ITO粉末的工艺简单,在保证ITO粉末性能不下降的情况下,不仅减少了ITO浆料中Zr含量,还极大缩短了ITO制浆时间。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于纳米材料粉体制备,具体涉及一种低zr含量的ito粉体及其制备方法与应用。


技术介绍

1、纳米ito粉是一种面向21世纪的新型多功能无机材料,由于晶粒的细微化和具有大比表面积的特征,表现出许多特殊性质,它在导电、光学和磁学等方面展现出许多特殊功能,使其在ito靶材、化工、电子、光学等许多领域有更重要的应用价值,具有普通ito粉所无法比拟的神奇功效。纳米ito粉的优异性能和诱人的应用前景,使得纳米ito粉的研发和生产具有极大的潜在市场。

2、然而目前纳米ito粉的制备工艺优选以锆珠为砂磨介质,如专利公开号cn110256049,通过将氧化铟、氧化锡分别砂磨后再混合砂磨制备ito粉,该制备工艺存在ito粉制浆时间长及杂质zr含量高的问题,ito粉体中锆含量高达300ppm。随着靶材市场的日益竞争,客户对ito靶材的zr含量要求越来越高,要求锆含量低于100ppm,使得目前工艺制得的ito粉难以满足市场需求,因此有必要对现有ito粉的制备工艺进行改进,以改善ito粉的性能。


技术实现思路b>

1本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种降低Zr含量的ITO粉体的制备方法,包括如下步骤:

2.如权利要求1所述方法,其特征在于,所述氧化铟粉末与氧化锡粉末的重量比为10:1。

3.如权利要求1所述方法,其特征在于,所述氧化铟粉末的比表面积为8~20m2/g,所述氧化锡粉末的比表面积为5~13m2/g。

4.如权利要求1所述方法,其特征在于,将氧化铟浆料和氧化锡浆料以600~1500rpm转速混合砂磨150~600min后,加入粘结剂,继续以600~1500rpm转速混合砂磨100~300min,制得ITO浆料。

5.如权利要求1所述方法,其特征在于,所述粘结剂的加入量占...

【技术特征摘要】

1.一种降低zr含量的ito粉体的制备方法,包括如下步骤:

2.如权利要求1所述方法,其特征在于,所述氧化铟粉末与氧化锡粉末的重量比为10:1。

3.如权利要求1所述方法,其特征在于,所述氧化铟粉末的比表面积为8~20m2/g,所述氧化锡粉末的比表面积为5~13m2/g。

4.如权利要求1所述方法,其特征在于,将氧化铟浆料和氧化锡浆料以600~1500rpm转速混合砂磨150~600min后,加入粘结剂,继续以600~1500rpm转速混合砂磨100~300min,制得ito浆料。

5.如权利要求1所述方法,其特...

【专利技术属性】
技术研发人员:谢小林梁兆科甘宇
申请(专利权)人:先导薄膜材料广东有限公司
类型:发明
国别省市:

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