一种基于离散几何映射的等几何分析参数化迁移方法技术

本发明专利技术公开了一种基于离散几何映射的等几何分析参数化迁移方法，该方法首先对给定的特征约束进行分类。其次根据分类结果，若无法直接移动约束所在面片的边界生成高质量的参数化，则分割约束所在面片为多个子面片，使得约束位于新的子面片的边界。然后进行径向基函数插值，将约束点或约束线的端点移动至面片边界。最后对于特征点或线导致面片出现裂缝的情况，采用优化方法，进行确保约束位置不变的局部参数化质量优化，得到满足约束的高质量参数化结果。本发明专利技术对质量下降严重的面片进行优化，得到在满足特征约束的同时，质量较高的参数化结果，满足后续分析的应用。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及几何模型处理，具体涉及一种基于离散几何映射的等几何分析参数化迁移方法。

技术介绍

1、2005年hughe教授首次提出了等几何分析，其基本思想是：在建模和分析时采用同一种数学语言，将cad(computer aided design,计算机辅助设计)软件中设计的几何样条模型直接应用于cae(computer aided engineering，计算机辅助工程)中的物理分析，实现cad和cae的无缝结合。不论是使用cad软件设计出的几何模型，还是利用三维扫描重建的模型，通常都只具有区域的样条边界。为了得到分布在模型内部的物理量，需要构造模型内部区域的样条表示，这就是等几何分析中的参数化问题。参数化是等几何分析中起到基石作用的重要步骤，其质量极大地影响了后续分析的精度和稳定性。

2、目前学界已经有许多面向等几何分析的计算域参数化方法，但这些面向等几何分析的参数化方法均是由边界模型生成计算域的整体样条表示，并没有考虑内部具有约束的情况。在等几何分析中，对于带有特征点、线约束的平面模型，在进行参数化时，希望特征点、线位于面片的角点或者边界本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种基于离散几何映射的等几何分析参数化迁移方法，其特征在于，包括如下步骤：

2.根据权利要求1所述的基于离散几何映射的等几何分析参数化迁移方法，其特征在于，所述步骤(1)具体过程如下：

3.根据权利要求2所述的基于离散几何映射的等几何分析参数化迁移方法，其特征在于，步骤1-2具体为：对于特征点约束，定义平面模型上离特征点ps最近的面片角点为p，p两侧面片边界曲线C1,C2的弧长分别为dis1,dis2，以p为圆心，min(dis1/2,dis2/2)为半径的圆为圆Cirp，根据离ps最近的角点p是否在输入模型的外边界将其划分为两类，如果角点p位于模型的外边界上...

【技术特征摘要】

1.一种基于离散几何映射的等几何分析参数化迁移方法，其特征在于，包括如下步骤：

2.根据权利要求1所述的基于离散几何映射的等几何分析参数化迁移方法，其特征在于，所述步骤(1)具体过程如下：

3.根据权利要求2所述的基于离散几何映射的等几何分析参数化迁移方法，其特征在于，步骤1-2具体为：对于特征点约束，定义平面模型上离特征点ps最近的面片角点为p，p两侧面片边界曲线c1,c2的弧长分别为dis1,dis2，以p为圆心，min(dis1/2,dis2/2)为半径的圆为圆cirp，根据离ps最近的角点p是否在输入模型的外边界将其划分为两类，如果角点p位于模型的外边界上，此时移动角点p满足特征约束，使得模型整体的形状发生改变，不符合实际工程中仿真分析的要求，将其标为分类1；如果特征点ps位于以p为圆心的圆cirp内，直接插值移动角点在满足约束的同时得到参数化结果，据此将角点p位于模型内部的情况，根据ps是否位于以p为圆心的圆cirp内，细分为两类，分别为分类2和分类3。

4.根据权利要求2所述的基于离散几何映射的等几何分析参数化迁移方法，其特征在于，步骤1-3具体为：对于特征约束线，其首尾端点为pa,pb，离pa,pb最近的面片角点为p1,,p2，p1两侧边界曲线ca1,ca2的弧长分别为disa1,disa2，p2两侧边界曲线cb1,cb2的弧长分别为disb1,disb2...

【专利技术属性】
技术研发人员：王土震，许金兰，肖淑欣，徐岗，
申请(专利权)人：杭州电子科技大学，
类型：发明
国别省市：