基板处理装置的维护方法和基板处理装置制造方法及图纸

一种基板处理装置的维护方法，所述基板处理装置具备腔室以及向所述腔室的内部供给处理气体的气体供给部，所述维护方法包括以下工序：工序(a)，从所述气体供给部向所述腔室的内部供给第一处理气体，来在所述腔室的内部的构件的表面形成保护膜；以及工序(b)，在所述工序(a)之后，将所述腔室的内部开放为大气气氛来进行所述基板处理装置的维护。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本公开涉及一种基板处理装置的维护方法和基板处理装置。

技术介绍

1、在专利文献1中公开了在蚀刻装置中设置将处理空间和排气空间隔开的真空罩，能够在维护期间仅将处理室向大气开放而排气室维持真空状态的结构和维护方法。

2、现有技术文献

3、专利文献

4、专利文献1：美国专利申请公开第2011/114114号

技术实现思路

1、专利技术要解决的问题

2、本公开所涉及的技术缩短由于基板处理装置的维护产生的停机时间。

3、用于解决问题的方案

4、本公开的一个方式是基板处理装置的维护方法，所述基板处理装置具备腔室以及向所述腔室的内部供给处理气体的气体供给部，所述维护方法包括以下工序：工序(a)，从所述气体供给部向所述腔室的内部供给第一处理气体，来在所述腔室的内部的构件的表面形成保护膜；以及工序(b)，在所述工序(a)之后，将所述腔室的内部开放为大气气氛来进行所述基板处理装置的维护。

5、专利技术的效果

6、根据本公开，能够缩短由本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种基板处理装置的维护方法，所述基板处理装置具备腔室以及向所述腔室的内部供给处理气体的气体供给部，所述维护方法包括以下工序：

2.根据权利要求1所述的基板处理装置的维护方法，其特征在于，

3.根据权利要求1或2所述的基板处理装置的维护方法，其特征在于，

4.根据权利要求3所述的基板处理装置的维护方法，其特征在于，

5.根据权利要求4所述的基板处理装置的维护方法，其特征在于，

6.根据权利要求4所述的基板处理装置的维护方法，其特征在于，

7.根据权利要求6所述的基板处理装置的维护方法，其特征在于，

8....

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种基板处理装置的维护方法，所述基板处理装置具备腔室以及向所述腔室的内部供给处理气体的气体供给部，所述维护方法包括以下工序：

2.根据权利要求1所述的基板处理装置的维护方法，其特征在于，

3.根据权利要求1或2所述的基板处理装置的维护方法，其特征在于，

4.根据权利要求3所述的基板处理装置的维护方法，其特征在于，

5.根据权利要求4所述的基板处理装置的维护方法，其特征在于，

6.根据权利要求4所述的基板处理装置的维护方法，其特征在于，

7.根...

【专利技术属性】
技术研发人员：箕浦佑也，铃木贵幸，村上贵宏，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：