System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 二氧化硅玻璃多孔体及其制造方法技术_技高网
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二氧化硅玻璃多孔体及其制造方法技术

技术编号:39982842 阅读:19 留言:0更新日期:2024-01-09 01:39
本发明专利技术的目的在于提供一种在不进行机械加工的情况下得到具有耐清洗性的喷淋板的技术。本发明专利技术涉及一种二氧化硅玻璃多孔体,其具有多个气泡,上述多个气泡包含非连通气泡和连通气泡,利用压汞法求出的上述气泡的平均气泡直径为10μm~150μm。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术涉及二氧化硅玻璃多孔体及其制造方法


技术介绍

1、半导体设备的制造工序包含蚀刻工序、cvd(化学气相沉积,chemical vapordeposition)工序,这些工序中的源气体的供给通常使用喷淋板。

2、喷淋板例如通过对由玻璃、陶瓷构成的板状部件利用机械加工形成大量的直管状贯通孔来制作。贯通孔以直径为几百μm~几mm左右的方式形成。

3、然而,如上所述的基于机械加工的贯通孔的形成存在如下问题:除了加工难度高、加工中喷淋板破损的可能性高以外,还容易导致成本变高。

4、因此,例如,如专利文献1那样,提出了在不进行机械加工的情况下形成贯通孔的喷淋板。

5、专利文献1中公开了一种由非晶二氧化硅的多孔体构成的喷淋板。通过制备包含平均粒径为20~100μm且上述平均粒径的±50%的范围内的二氧化硅粒子的浆料,并对其进行成型、煅烧而得到一种作为不完全烧结体的多孔体,其邻接的二氧化硅粒子彼此的至少1处的接触长度为该二氧化硅粒子的粒径的1/15~3/4,且具有平均气孔径为5μm~25μm的连通孔。

6、现有技术文献

7、专利文献

8、专利文献1:日本特开2013-147390号公报


技术实现思路

1、然而,在蚀刻工序或cvd工序中,因各种化学反应而产生的反应副产物等沉积于喷淋板,有时成为颗粒的发尘源。发尘的颗粒附着在基板上,有可能导致成品率降低。

2、因此,为了抑制颗粒的发尘,定期清洗喷淋板。清洗通常使用王水、氢氟酸(hydrogen fluoride)、氢氟酸与硝酸的混合液等药液。

3、然而,专利文献1中记载的喷淋板在利用药液进行清洗时,邻接的二氧化硅粒子彼此的结合部分容易被蚀刻,二氧化硅粒子容易剥落。此时,喷淋板的体积除了被蚀刻的体积以外,还减少了剥落的二氧化硅粒子本身的体积,因此体积明显减少。此外,剥落的二氧化硅粒子残留于喷淋板内部,有可能妨碍气体的透过。因此,专利文献1中记载的喷淋板会因清洗而使特性变化很大,因此并不适合于进行清洗并反复使用。

4、因此,难以在不进行机械加工的情况下得到具有耐清洗性的喷淋板。

5、本专利技术的目的在于提供一种在不进行机械加工的情况下得到具有耐清洗性的喷淋板的技术。

6、本专利技术涉及以下的[1]~[7]。

7、[1]一种二氧化硅玻璃多孔体,具有多个气泡,该多个气泡包含非连通气泡和连通气泡,利用压汞法求出的上述气泡的平均气泡直径为10μm~150μm。

8、[2]根据[1]所述的二氧化硅玻璃多孔体,其中,使用perm-porometer求出的气体透过系数为0.01μm2~10μm2。

9、[3]根据[1]或[2]所述的二氧化硅玻璃多孔体,其中,利用bet法求出的比表面积为0.01m2/g~0.1m2/g。

10、[4]根据[1]~[3]中任一项所述的二氧化硅玻璃多孔体,其中,堆积密度为0.3g/cm3~2g/cm3。

11、[5]根据[1]~[4]中任一项所述的二氧化硅玻璃多孔体,其中,锂(li)、铝(al)、铬(cr)、锰(mn)、镍(ni)、铜(cu)、钛(ti)、钴(co)、锌(zn)、银(ag)、镉(cd)、铅(pb)、钠(na)、镁(mg)、钾(k)、钙(ca)和铁(fe)的各金属杂质的含量分别为0.5质量ppm以下。

12、[6]一种喷淋板,由[1]~[5]中任一项所述的二氧化硅玻璃多孔体构成。

13、[7]一种二氧化硅玻璃多孔体的制造方法,所述二氧化硅玻璃多孔体具有多个气泡,上述多个气泡包含非连通气泡和连通气泡且利用压汞法求出的上述气泡的平均气泡直径为10μm~150μm,所述制造方法包括如下步骤:使将硅化合物进行火焰水解所生成的二氧化硅粒子沉积而得到灰料体;将上述灰料体在非活性气体气氛下致密化而得到二氧化硅玻璃致密体;以及,在与得到上述二氧化硅玻璃致密体时相比至少为低压或高温的条件下将上述二氧化硅玻璃致密体多孔化。

14、根据本专利技术,能够在在不进行机械加工的情况下得到具有耐清洗性的喷淋板。

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【技术保护点】

1.一种二氧化硅玻璃多孔体,其具有多个气泡,

2.根据权利要求1所述的二氧化硅玻璃多孔体,其中,使用孔径分析仪即Perm-Porometer求出的气体透过系数为0.01μm2~10μm2。

3.根据权利要求1或2所述的二氧化硅玻璃多孔体,其中,利用BET法求出的比表面积为0.01m2/g~0.1m2/g。

4.根据权利要求1~3中任一项所述的二氧化硅玻璃多孔体,其中,堆积密度为0.3g/cm3~2g/cm3。

5.根据权利要求1~4中任一项所述的二氧化硅玻璃多孔体,其中,锂Li、铝Al、铬Cr、锰Mn、镍Ni、铜Cu、钛Ti、钴Co、锌Zn、银Ag、镉Cd、铅Pb、钠Na、镁Mg、钾K、钙Ca和铁Fe的各金属杂质的含量分别为0.5质量ppm以下。

6.一种喷淋板,由权利要求1~5中任一项所述的二氧化硅玻璃多孔体构成。

7.一种二氧化硅玻璃多孔体的制造方法,是制造如下二氧化硅玻璃多孔体的方法,所述二氧化硅玻璃多孔体具有多个气泡,所述多个气泡包含非连通气泡和连通气泡,利用压汞法求出的所述气泡的平均气泡直径为10μm~150μm,

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【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种二氧化硅玻璃多孔体,其具有多个气泡,

2.根据权利要求1所述的二氧化硅玻璃多孔体,其中,使用孔径分析仪即perm-porometer求出的气体透过系数为0.01μm2~10μm2。

3.根据权利要求1或2所述的二氧化硅玻璃多孔体,其中,利用bet法求出的比表面积为0.01m2/g~0.1m2/g。

4.根据权利要求1~3中任一项所述的二氧化硅玻璃多孔体,其中,堆积密度为0.3g/cm3~2g/cm3。

5.根据权利要求1~4中任一项所述的二氧化硅...

【专利技术属性】
技术研发人员:佐佐木寿弥
申请(专利权)人:AGC株式会社
类型:发明
国别省市:

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