显示面板及其制备方法、显示装置制造方法及图纸

本公开是关于显示技术领域，具体而言，涉及一种显示面板及其制备方法、显示装置。该制备方法包括：提供衬底基板；在衬底基板形成金属导电层和绝缘层，在绝缘层形成转接孔；形成转接孔的方法包括：在绝缘层上形成光刻胶层，在光刻胶层位于显示区域内部分形成第一凹槽和第二凹槽；第二凹槽与第一凹槽间隔设置、并具有预设尺寸；获得第二凹槽在光刻胶层的实际位置，并将实际位置与预设位置进行对比，获得比对结果；根据比对结果以及预设尺寸，获得第一凹槽的相对位置偏差参数；结合相对位置偏差参数，在绝缘层对应第一凹槽位置形成转接孔；剥离光刻胶层。该制备方法优化作为偏差监控的套刻标识，以提升套刻监控精度，以及，提升显示面板质量。

【技术实现步骤摘要】

本公开涉及显示，具体而言，涉及一种显示面板及其制备方法、显示装置。

技术介绍

1、现有显示面板中，直拼工艺产品无法通过原有ovl mark(套刻标识)进行监控，需设计面内图形通过相对位置偏差进行监控。然而，转接孔层因图案较小且受到光的衍射无法实现小尺寸的图案，从而容易导致出现ovl(套刻)监控偏差，不利于产品补正，进而会影响产品的品质。

2、需要说明的是，在上述
技术介绍
部分公开的信息仅用于加强对本公开的背景的理解，因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。

技术实现思路

1、本公开的目的在于克服上述现有技术的不足，提供一种显示面板及其制备方法、显示装置。

2、根据本公开的一个方面，本公开提供一种显示面板的制备方法，包括：

3、提供一衬底基板；

4、在所述衬底基板上形成金属导电层；

5、在所述金属导电层上形成绝缘层，并通过构图工艺在所述绝缘层形成转接孔，使得所述转接孔贯穿所述绝缘层、暴露部分所述金属导电层；所述绝缘层与所述金属导电层的本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，通过构图工艺在所述光刻胶层位于显示区域内部分形成第一凹槽和第二凹槽的方法中，所述第二凹槽对应所述显示区域内的开口区域。

3.根据权利要求1或2所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述第二凹槽在所述衬底基板的正投影为矩形；所述第二凹槽的宽边的尺寸小于曝光机的分辨率。

4.根据权利要求3所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述第二凹槽的长边的尺寸大于等于14μm。

5.根据权利要求3所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述金属导电层包括...

【技术特征摘要】

1.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，通过构图工艺在所述光刻胶层位于显示区域内部分形成第一凹槽和第二凹槽的方法中，所述第二凹槽对应所述显示区域内的开口区域。

3.根据权利要求1或2所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述第二凹槽在所述衬底基板的正投影为矩形；所述第二凹槽的宽边的尺寸小于曝光机的分辨率。

4.根据权利要求3所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述第二凹槽的长边的尺寸大于等于14μm。

5.根据权利要求3所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述金属导电层包括阵列分布的多个导电图形，所述导电图形在所述衬底基板的正投影与所述第二凹槽在所述衬底基板的正投影无交叠。

6.根据权利要求5所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述导电图形为栅极和/或源漏极。

7.根据权利要求1或2所述的显示面板的制备方法，其特征在于，通过构图工艺在所述光刻胶层位于显示区域内部分形成第一凹槽和第二凹槽的方法中，形成的所述第二凹槽的数量为多个。

8.根据权利要求1或2所述的显示面板的制备方法，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：唐辉，王尖，宋子科，易小强，荣孟欣，陈照宇，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：