【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本公开涉及基板处理方法以及基板处理装置。
技术介绍
1、以往已知有一种批次(batch)式的处理装置，其使用磷酸对氮化硅膜进行蚀刻去除。批次式的处理装置一并处理多个基板，因此能够以较高的吞吐量(throughput)处理基板。处理装置进行冲洗(rinse)处理，该冲洗处理将附着于多个基板的磷酸置换成冲洗液。接着，处理装置进行干燥处理，该干燥处理使冲洗处理后的多个基板一并干燥。
2、此外，公开了专利文献1、2作为与本专利技术相关的技术。
3、现有技术文献
4、专利文献
5、专利文献1：日本特表2016-502275号公报
6、专利文献2：日本特开2020-141063号公报
技术实现思路
1、专利技术所要解决的课题
2、然而，近年来形成于基板的三维结构(例如图案(pattern))变得细致，当对多个基板一并进行干燥处理时，会导致三维结构的崩坏。
3、因此，本专利技术的目的在于提供一种能够抑制三维结构的崩坏的技术。
4、用于解决课题的手段
5、第一方式的基板处理方法具备如下工序：磷酸处理工序，使多个基板浸渍于处理槽内的磷酸；粗冲洗处理工序，在所述磷酸处理工序之后，以在多个所述基板的图案内残留有所述磷酸的程度，将附着于多个所述基板的所述磷酸的一部分置换成第一冲洗液；以及叶片干燥处理工序，在所述粗冲洗处理工序之后，使多个所述基板逐片地干燥。
6、第二方式的基板处理方法是涉
7、第三方式的基板处理方法是涉及第一或第二方式所述的基板处理方法，所述粗冲洗处理工序包括：温度降低工序，使所述第一冲洗液的温度降低。
8、第四方式的基板处理方法是涉及第一至第三方式中的任一方式所述的基板处理方法，在所述粗冲洗处理工序与所述叶片干燥处理工序之间还具备粗干燥处理工序，该粗干燥处理工序用于去除附着于多个所述基板中的未形成有所述图案的图案外区域的液体的至少一部分。
9、第五方式的基板处理方法是涉及第四方式所述的基板处理方法，在所述粗干燥处理工序中，将多个所述基板暴露于蒸发潜热比所述第一冲洗液小的第二冲洗液的蒸气的气氛(atmosphere)。
10、第六方式的基板处理方法是涉及第一至第五方式中的任一方式所述的基板处理方法，所述磷酸处理工序包括如下工序：使多个所述基板下降并浸渍于所述处理槽内的所述磷酸；以及使多个所述基板以第一上升速度上升，从而将多个所述基板从所述处理槽捞起，所述粗冲洗处理工序包括如下工序：使多个所述基板下降并浸渍于所述第一冲洗液；以及使多个所述基板以所述第一上升速度以下的第二上升速度上升，从而将多个所述基板从所述第一冲洗液捞起。
11、第七方式的基板处理方法是涉及第一至第六方式中的任一方式所述的基板处理方法，所述基板处理方法具备如下工序：第一工序，在所述粗冲洗处理工序之后，将多个所述基板搬运至第一载体；第二工序，在所述第一工序之后，将所述第一载体搬运至叶片式的处理装置的装载端口；第三工序，在所述第二工序与所述叶片干燥处理工序之间，将多个所述基板从所述装载端口的所述第一载体逐片地搬运至叶片处理部；以及第四工序，在所述叶片干燥处理工序之后，将基板从所述叶片处理部搬运至所述装载端口的第二载体。
12、第八方式的基板处理方法是涉及第七方式所述的基板处理方法，所述第一载体包括：吸水部件，其与多个所述基板各自中的未形成有所述图案的图案外区域的一部分接触。
13、第一方式的基板处理装置具备：磷酸处理部，其具有处理槽，使多个基板浸渍于所述处理槽内的磷酸；粗冲洗处理部，其以在多个所述基板的图案的内部残留有所述磷酸的程度，将附着于多个所述基板的所述磷酸的一部分置换成冲洗液；以及叶片处理部，其将多个所述基板逐片地干燥。
14、第二方式的基板处理装置是涉及第一方式所述的基板处理装置，所述基板处理装置具备：姿势变换部，其使多个所述基板的姿势在水平姿势与立起姿势之间变换，所述磷酸处理部使立起姿势的多个所述基板浸渍于所述处理槽内的所述磷酸，所述叶片处理部对水平姿势的基板进行干燥处理。
15、专利技术效果
16、根据第一方式的基板处理方法以及第一和第二方式的基板处理装置，由于磷酸难以蒸发，因此能够在粗冲洗处理工序与叶片干燥处理工序之间抑制基板的干燥。因此，能够抑制因干燥导致的图案的崩坏。
17、根据第二方式的基板处理方法，能够有效地抑制基板的干燥。
18、根据第三方式的基板处理方法，由于在初期第一冲洗液的温度高，因此能够抑制基板的急速冷却，能够抑制因急速冷却导致的基板的损伤。此外，使第一冲洗液的温度降低，由此图案内的磷酸难以被置换成第一冲洗液。因此，容易使磷酸残留于图案内。
19、根据第四方式的基板处理方法，能够使附着于基板的图案外区域的液体减少。因此，能够抑制液体附着于基板的搬运装置。
20、根据第五方式的基板处理方法，第二冲洗液的蒸气作用于图案外区域，由此能够将附着于图案外区域的液体置换成第二冲洗液。第二冲洗液容易蒸发，因此能够有效地去除图案外区域的液体。此外，在蒸气的作用下难以将图案内部的磷酸置换成第二冲洗液，因此能够使图案内部的磷酸残留。因此，能够适当地抑制图案的崩坏。
21、根据第六方式的基板处理方法，以较低的第二上升速度使多个基板上升，因此能够使附着于粗冲洗处理后的各基板的图案外区域的第一冲洗液的量减少。因此，能够抑制液体附着于基板的搬运装置。
22、根据第七方式的基板处理方法，第一载体收纳粗冲洗处理工序后的基板，因此虽然第一载体会有湿润的可能性，然而叶片干燥处理工序后的基板被收纳至与第一载体不同的第二载体。因此，能够避免液体附着于叶片干燥处理工序后的基板。
23、根据第八方式的基板处理方法，吸收附着于图案外区域的液体，因此能够抑制液体附着于用于搬运基板的搬运装置。
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1.一种基板处理方法，其特征在于，具备如下工序：
2.根据权利要求1所述的基板处理方法，其特征在于，
3.根据权利要求1或2所述的基板处理方法，其特征在于，
4.根据权利要求1至3中的任一项所述的基板处理方法，其特征在于，
5.根据权利要求4所述的基板处理方法，其特征在于，
6.根据权利要求1至5中的任一项所述的基板处理方法，其特征在于，
7.根据权利要求1至6中的任一项所述的基板处理方法，其特征在于，
8.根据权利要求7所述的基板处理方法，其特征在于，
9.一种基板处理装置，其特征在于，具备：
10.根据权利要求9所述的基板处理装置，其特征在于，
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种基板处理方法，其特征在于，具备如下工序：
2.根据权利要求1所述的基板处理方法，其特征在于，
3.根据权利要求1或2所述的基板处理方法，其特征在于，
4.根据权利要求1至3中的任一项所述的基板处理方法，其特征在于，
5.根据权利要求4所述的基板处理方法，其特征在于，
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