【技术实现步骤摘要】
本申请涉及但不限于半导体集成电路设计自动化技术，尤指一种获取opc中雅可比矩阵的方法、实现opc的方法及装置。
技术介绍
1、在电子设计自动化(eda)行业中，分辨率增强技术通常是指用于提高半导体芯片设计工具中图像处理和分析步骤的技术。这些技术的目的是改善芯片设计的精度、可靠性和性能。光刻是半导体芯片制造过程中的一个关键步骤，用于将设计的芯片图形投影到硅片上。然而，由于光刻机制和光刻材料的物理特性，图形在硅片上的呈现可能会受到多种因素的影响，如光照衍射、折射等。为了解决这些问题并确保芯片制造的精确性和可行性，需要对原始设计进行修正，这就是光学邻近修正(opc，optical proximity correction)技术发挥作用的地方。opc使用计算机算法来调整设计图形的几何形状，以纠正光刻过程中的畸变，以便最终在硅片上获得所需的图形。这些修正通常包括调整线条的宽度、间距和形状，以适应光刻过程的特定要求。
2、在半导体制造领域，有三种常见的光学邻近修正技术，分别是基于规则的opc(rule-based opc)、基于模型的opc(model-based opc)以及逆向光刻技术(ilt，inverselithography technology)。其中，基于模型的opc使用数学模型和计算机算法，以了解光刻制程中的畸变如何发生，并根据这些模型进行掩膜上的微调。为了达到opc效果，保证芯片设计的精度、可靠性和性能，会消耗大量的运算用时。
技术实现思路
1、本申请提供一种获取
2、本专利技术实施例提供了一种获取光学邻近修正opc中雅可比矩阵的方法，包括：
3、对设计掩模划分得到的线段进行聚类分组，将对仿真结果互不相干的线段划分为同一类，并记录每个线段所影响的测量点；其中，设计掩模是芯片设计对应的掩模图形；
4、针对同一类的线段，分别将同属一类的线段进行偏移，对偏移后得到的掩模进行仿真，并根据仿真结果计算偏移后的掩模与设计掩模上每个测量点的差异；
5、根据所有类的计算结果获取每个测量点关于每个线段的导数，以组成雅可比矩阵。
6、在一种示例性实例中，所述方法之前还包括：
7、将组成所述设计掩模的线段切割划分成预设长度的线段，并对所述设计掩模进行仿真。
8、在一种示例性实例中，所述测量点的位置和参数预先设置。
9、在一种示例性实例中，所述两个线段所包含的测量点互不相同，所述两个线段是对仿真结果互不相干的线段。
10、在一种示例性实例中，所述针对同一类的线段，所有线段都按照预设偏移量进行偏移。
11、在一种示例性实例中，所述同一类的线段中的不同线段的偏移量相同。
12、本申请实施例还提供一种计算机可读存储介质，存储有计算机可执行指令，所述计算机可执行指令用于执行上述任一项所述的获取opc中雅可比矩阵的方法。
13、本申请实施例再提供一种获取opc中雅可比矩阵的设备，包括存储器和处理器，其中，存储器中存储有以下可被处理器执行的指令：用于执行上述任一项所述的获取opc中雅可比矩阵的方法的步骤。
14、本申请实施例又提供一种获取opc中雅可比矩阵的装置，包括：分组模块、处理模块、获取模块、
15、分组模块，用于对设计掩模划分得到的线段进行聚类分组，将对仿真结果互不相干的线段划分为同一类，并记录每个线段所影响的测量点；其中，设计掩模是芯片设计对应的掩模图形；
16、处理模块，用于针对同一类的线段，分别将同属一类的线段进行偏移，对偏移后得到的掩模进行仿真，并根据仿真结果计算偏移后的掩模与设计掩模上每个测量点的差异；
17、获取模块，用于根据所有类的计算结果获取每个测量点关于每个线段的导数，以组成雅可比矩阵。
18、在一种示例性实例中，还包括：预处理模块，用于将组成所述设计掩模的线段切割划分成预设长度的线段，并对所述设计掩模进行仿真。
19、本申请实施例还提供一种实现opc的方法，包括：
20、将组成设计掩模的线段切割以划分成预设长度的线段，并对设计掩模进行仿真；其中，设计掩模是芯片设计对应的掩模图形；
21、对设计掩模划分得到的线段进行聚类分组，将对仿真结果互不相干的线段划分为同一类，并记录每个线段所影响的测量点；
22、针对同一类的线段，分别将同属一类的线段进行偏移，对偏移后得到的掩模进行仿真，并根据仿真结果计算偏移后的掩模与设计掩模上每个测量点的差异；
23、根据所有类的计算结果获取每个测量点关于每个线段的导数，以组成雅可比矩阵；
24、根据雅可比矩阵进行最优化求解以获得所有线段偏移的量，对最优化求解后的掩模进行仿真，并根据仿真结果计算最优化求解后的掩模与设计掩模上每个测量点的差异；
25、根据最优化求解后的掩模与设计掩模的差异确定出未满足优化结束条件，返回所述针对同一类的线段，分别将同属一类的线段进行偏移的步骤，直至满足优化结束条件，将最优化求解后的掩模作为设计图的掩模版。
26、在一种示例性实例中，当所述最优化求解后的掩模与设计掩模上所有测量点处的差异的平方和大于预设阈值时，确定出所述未满足优化结束条件；当所述最优化求解后的掩模与设计掩模上所有测量点处的差异的平方和小于或等于预设阈值时，确定出所述满足优化结束条件。
27、本申请实施例还提供一种计算机可读存储介质，存储有计算机可执行指令，所述计算机可执行指令用于执行上述任一项所述的实现opc的方法。
28、本申请实施例再提供一种实现opc的设备，包括存储器和处理器，其中，存储器中存储有以下可被处理器执行的指令：用于执行上述任一项所述的实现opc的方法的步骤。
29、本申请实施例又提供一种实现opc的装置，包括：预处理模块、分组模块、处理模块、获取模块、
30、预处理模块，用于将组成设计掩模的线段切割以划分成预设长度的线段，并对设计掩模进行仿真；其中，设计掩模是芯片设计对应的掩模图形；
31、分组模块，用于对设计掩模划分得到的线段进行聚类分组，将对仿真结果互不相干的线段划分为同一类，并记录每个线段所影响的测量点；
32、处理模块，用于针对同一类的线段，分别将同属一类的线段进行偏移，对偏移后得到的掩模进行仿真，并根据仿真结果计算偏移后的掩模与设计掩模上每个测量点的差异；
33、获取模块，用于根据所有类的计算结果获取每个测量点关于每个线段的导数，以组成雅可比矩阵；根据雅可比矩阵进行最优化求解以获得所有线段偏移的量，对最优化求解后的掩模进行仿真，并根据仿真结果计算最优化求解后的掩模与设计掩模上每个测量点的差异；
34、判断模块，用于根据最优化求解后的掩模与设计掩模的差本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种获取光学邻近修正OPC中雅可比矩阵的方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的方法，所述方法之前还包括：
3.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述测量点的位置和参数预先设置。
4.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述两个线段所包含的测量点互不相同，所述两个线段是对仿真结果互不相干的线段。
5.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述针对同一类的线段，所有线段都按照预设偏移量进行偏移。
6.根据权利要求5所述的方法，其中，所述同一类的线段中的不同线段的偏移量相同。
7.一种计算机可读存储介质，存储有计算机可执行指令，所述计算机可执行指令用于执行权利要求1～权利要求6任一项所述的获取OPC中雅可比矩阵的方法。
8.一种获取OPC中雅可比矩阵的设备，包括存储器和处理器，其中，存储器中存储有以下可被处理器执行的指令：用于执行权利要求1～权利要求6任一项所述的获取OPC中雅可比矩阵的方法的步骤。
9.一种获取OPC中雅可比矩阵的装置，其特征在于，包括：分组模块、处理模块、
10.根据权利要求9所述的装置，还包括：预处理模块，用于将组成所述设计掩模的线段切割划分成预设长度的线段，并对所述设计掩模进行仿真。
11.一种实现OPC的方法，其特征在于，包括：
12.根据权利要求11所述的方法，其中，当所述最优化求解后的掩模与设计掩模上所有测量点处的差异的平方和大于预设阈值时，确定出所述未满足优化结束条件；当所述最优化求解后的掩模与设计掩模上所有测量点处的差异的平方和小于或等于预设阈值时，确定出所述满足优化结束条件。
13.一种计算机可读存储介质，存储有计算机可执行指令，所述计算机可执行指令用于执行权利要求11或12所述的实现OPC的方法。
14.一种实现OPC的设备，包括存储器和处理器，其中，存储器中存储有以下可被处理器执行的指令：用于执行权利要求11或12所述的实现OPC的方法的步骤。
15.一种实现OPC的装置，其特征在于，包括：预处理模块、分组模块、处理模块、获取模块、
...【技术特征摘要】
1.一种获取光学邻近修正opc中雅可比矩阵的方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的方法，所述方法之前还包括：
3.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述测量点的位置和参数预先设置。
4.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述两个线段所包含的测量点互不相同，所述两个线段是对仿真结果互不相干的线段。
5.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述针对同一类的线段，所有线段都按照预设偏移量进行偏移。
6.根据权利要求5所述的方法，其中，所述同一类的线段中的不同线段的偏移量相同。
7.一种计算机可读存储介质，存储有计算机可执行指令，所述计算机可执行指令用于执行权利要求1～权利要求6任一项所述的获取opc中雅可比矩阵的方法。
8.一种获取opc中雅可比矩阵的设备，包括存储器和处理器，其中，存储器中存储有以下可被处理器执行的指令：用于执行权利要求1～权利要求6任一项所述的获取opc中雅可比矩阵的方法的步骤。
9.一种获取opc中雅可比...
【专利技术属性】
技术研发人员：黄继辉，周鑫，
申请(专利权)人：弈芯科技杭州有限公司，
类型：发明
国别省市：
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