【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体，特别是涉及一种半导体工艺配方的比较方法和装置。
技术介绍
1、伴随着各行业对半导体芯片加工制造要求越来越精细化、高端化、品质化，半导体制造设备对芯片处理的工艺配方配置也变得越来越复杂与精细。工艺工程师为了提升芯片制造的精细度与品质化，需要对工艺配方不断的进行比较与调优，最终验证出最佳工艺配方配置，以此来满足客户对品质的需求。在工艺配方多样性的今天，如何从成百上千乃至上万个配方参数中快速分析出两个配方的不同参数因素显得十分复杂与困难。
2、目前，相关技术中在对两个半导体工艺配方进行比较时，一般采用将相同工艺序号的工艺步骤进行比较的方法，但该方法得到的工艺配方比较结果准确性较低。
技术实现思路
1、鉴于上述问题，提出了本专利技术实施例以便提供一种克服上述问题或者至少部分地解决上述问题的一种半导体工艺配方的比较方法和装置。
2、第一方面，本专利技术实施例公开了一种半导体工艺配方的比较方法，包括：
3、获取第一配方和第二配方；所述第一配方包...
【技术保护点】
1.一种半导体工艺配方的比较方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的半导体工艺配方的比较方法，其特征在于，所述将所述第一工艺步骤的第一配置项与至少一个第二工艺步骤对应的第二配置项进行匹配，包括：
3.根据权利要求2所述的半导体工艺配方的比较方法，其特征在于，所述方法还包括：
4.根据权利要求2所述的半导体工艺配方的比较方法，其特征在于，所述根据匹配结果，生成针对第一工艺步骤的记录信息和第二工艺步骤的记录信息并进行记录，包括：
5.根据权利要求2所述的半导体工艺配方的比较方法，其特征在于，所述从未完成比较的第一配...
【技术特征摘要】
1.一种半导体工艺配方的比较方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的半导体工艺配方的比较方法，其特征在于，所述将所述第一工艺步骤的第一配置项与至少一个第二工艺步骤对应的第二配置项进行匹配，包括：
3.根据权利要求2所述的半导体工艺配方的比较方法，其特征在于，所述方法还包括：
4.根据权利要求2所述的半导体工艺配方的比较方法，其特征在于，所述根据匹配结果，生成针对第一工艺步骤的记录信息和第二工艺步骤的记录信息并进行记录，包括：
5.根据权利要求2所述的半导体工艺配方的比较方法，其特征在于，所述从未完成比较的第一配置项中确定当前进行比较的目标第一配置项，包括：
6.根据权利要求5所述的半导体工艺配方的比较方法，其特征在于，所述方法还包括：
7.根据权利要求6所述的半导体工艺配方的比较方法，其特征在于，所述根据匹配结果，生成针对第一工艺步骤的记录信息和第二工...
【专利技术属性】
技术研发人员：张军，刘亚欣，蒋丽娜，
申请(专利权)人：北京北方华创微电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。