【技术实现步骤摘要】
一种用于肖特基二极管生产的清洗装置
[0001]本技术涉及肖特基二极管清洗装置领域,特别涉及一种用于肖特基二极管生产的清洗装置
。
技术介绍
[0002]肖特基二极管是一种利用金属与半导体接触形成的金属半导体结原理制作的,肖特基二极管又被称为表面势垒二极管,同时肖特基二极管是一种热载流子二极管,肖特基二极管在进行生产时,需要进行清理,进而会使用到清洗装置
。
[0003]现有技术的清洗装置通常包括清洗箱
、
输送带
、
承载带
、
喷头组件和支撑板等,承载带位于输送带上,将肖特基二极管放置在承载带上的承载槽内部,输送带从清洗箱穿过,喷头组件位于清洗箱的顶部,输送带使肖特基二极管输送至清洗箱的内部,且位于喷头组件的下方,然后喷头对肖特基二极管进行冲洗
。
[0004]但在对肖特基二极管冲洗的过程中,其冲洗的水会流淌到各处,进而会存在浪费水源的情况,不便于对肖特基二极管冲洗的水进行回收利用,存在一定的局限性
。
技术实现思路
[0005]本技术的目的在于提供一种用于肖特基二极管生产的清洗装置,以解决上述
技术介绍
中提出的问题
。
[0006]为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:一种用于肖特基二极管生产的清洗装置,包括:
[0007]清洗箱,其用于肖特基二极管的生产清洗,所述清洗箱的两侧均固定连接有支撑板;
[0008]所述支撑板上设置有收集机构;
[0009]所述收集机构包 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.
一种用于肖特基二极管生产的清洗装置,包括:清洗箱
(1)
,其用于肖特基二极管的生产清洗,所述清洗箱
(1)
的两侧均固定连接有支撑板
(2)
;其特征在于:所述支撑板
(2)
上设置有收集机构
(3)
;所述收集机构
(3)
包括两个收集框
(31)、
两个连接管
(32)、
两个输送管
(33)、
容纳箱
(34)
和出水管
(35)
,所述收集框
(31)
的内腔通过连接管
(32)
和输送管
(33)
与容纳箱
(34)
的内腔相连通,两个收集框
(31)
分别位于清洗箱
(1)
的两侧
。2.
根据权利要求1所述的一种用于肖特基二极管生产的清洗装置,其特征在于,所述连接管
(32)
固定穿插连接于收集框
(31)
的底端,所述出水管
(35)
固定穿插连接于容纳箱
(34)
的底端,所述支撑板
(2)
的顶端开设有通槽,所述连接管
(32)
与通槽的内腔滑动穿插连接
。3.
根据权利要求1所述的一种用于肖特基二极管生产的清洗装置,其特征在于,所述输送管
(33)
固定穿插连接于容纳箱
(34)
的一侧,所述输送管
(33)
的一端固定连接有连接筒
(4)
,所述连接管
(32)
与连接筒
(4)
的内腔滑动穿插连接
。...
【专利技术属性】
技术研发人员:郏金鹏,张苏,
申请(专利权)人:江苏芯格诺电子科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
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