一种线栅偏振器及其制造方法技术

本发明专利技术涉及线栅偏振器技术领域，特别是涉及一种线栅偏振器及其制造方法

【技术实现步骤摘要】
一种线栅偏振器及其制造方法


[0001]本专利技术涉及线栅偏振器
，特别是涉及一种线栅偏振器及其制造方法
。

技术介绍

[0002]光刻技术的最新发展已经使得形成具有在光的波长水平上的间距的微结构图案成为可能
。
具有如此小的间距图案的构件和产品不仅在半导体领域而且在光学领域被广泛使用和有用；例如，采用金属材料制成的金属线以规定的间距排列成格子状的线栅型偏振器中，其间距比入射光的间距小很多
(
例如为一半以下
)。
它反射了大部分平行于金属线振荡的电场矢量分量的光，几乎透射了垂直于金属线的电场矢量分量的光，因此可以当作线栅偏振片使用并产生单偏振光
。
由于线栅偏振片可以反射和再利用非透射光，因此从有效利用光的观点出发也是比较理想的
。
[0003]然而，现有技术下的线栅偏振器，由于金属线大多暴露在外，缺乏有效的保护，不仅容易与空气中的水分反应引起氧化，而且还容易受外力作用变形
、
塌陷，同时还容易藏垢纳污
。
而上述各种本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种线栅偏振器，其特征在于：包括透明基板
(1)
，所述透明基板
(1)
上布置有金属线栅
(2)
，所述金属线栅
(2)
的外围封闭围设有围坝
(3)
，所述围坝
(3)
密封盖设有用于密封所述金属线栅
(2)
的透明保护板
(4)。2.
根据权利要求1所述的线栅偏振器，其特征在于：所述金属线栅
(2)
包括同向间隔分布的电介质凸起
(21)
，以及沉积于所述电介质凸起
(21)
顶部和
/
或侧壁的金属线
(22)
；所述围坝
(3)
与所述电介质凸起
(21)
采用纳米压印光刻工艺一体成型
。3.
根据权利要求2所述的线栅偏振器，其特征在于：所述围坝
(3)
的宽度设置为1～
5mm
，所述电介质凸起
(21)
的间距设置为
50
～
150nm
；所述围坝
(3)
的顶面高于所述金属线
(22)
的顶面，且所述围坝
(3)
与所述透明保护板
(4)
之间设置有粘结层
(33)。4.
根据权利要求1所述的线栅偏振器，其特征在于：所述金属线栅
(2)
包括同向平行间隔分布于所述透明基板
(1)
上的金属线
(22)
，所述围坝
(3)
包括金属围坝
(31)
，以及设置于所述金属围坝
(31)
顶面的掩膜围坝
(32)
，所述掩膜围坝
(32)
的顶面高于所述金属线
(22)
的顶面，所述掩膜围坝
(32)
通过粘结层
(33)
与所述透明保护板
(4)
密封紧固
。5.
根据权利要求4所述的线栅偏振器，其特征在于：所述金属围坝
(31)
的宽度大于所述金属线
(22)
的宽度，且所述金属围坝
(31)
与所述掩膜围坝
(32)
的宽度相同且均设置为1～
5mm。6.
根据权利要求1所述的线栅偏振器，其特征在于：所述透明基板
(1)
和所述透明保护板
(4)
的材质均为玻璃或石英，且至少可透过波长为
380
～
780nm
的可见光
。7.
根据权利要求1所述的线栅偏振器，其特征在于：所述透明保护板
(4)
与所述围坝
(3)
密封后的腔体内填充有用于保护金属线栅
(2)
的惰性气体
。8.
一种线栅偏振器的制造方法，制造如权利要求2至3任意一项所述的线栅偏振器，其特征在于，还包括以下加工步骤：
1)
提供一压印模板
(5)
，所述压印模板
(5)
设置有凹凸微结构图案
(51)
和环形凹槽
(52)
，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：娄飞，
申请(专利权)人：深圳市雕拓科技有限公司，
类型：发明
国别省市：