一种液晶模组杂质定位方法技术

本发明专利技术公开了一种液晶模组杂质定位方法

【技术实现步骤摘要】
一种液晶模组杂质定位方法、除杂方法及除杂系统


[0001]本专利技术涉及液晶模组除杂
，尤其涉及一种液晶模组杂质定位方法
、
除杂方法及除杂系统
。

技术介绍

[0002]液晶显示模组由液晶面板及背光板组成
。
液晶电视的显示部件就是液晶模组，液晶模组是液晶电视最主要的核心部件
。
在液晶模组的生产线上，由于生产线中不可避免的存在胶带
、
面框屑
、
金属漆
、
木屑
、
扩散板等杂质，背光板与液晶面板进行组装为液晶模组的过程中，生产线中的杂质容易混入到液晶模组中进而影响液晶模组的显示质量，从而需要对液晶模组进行杂质检测
。
[0003]现有的液晶模组检测方式主要以人工感官为主，在生产线上将液晶模组以纯色背景点亮，通过人工肉眼感官的形式进行检测，这样的检测方式，不仅识别率较低，检测效率低，同时极大程度的损害检测者的眼睛；而当检测到液晶模组存在杂质时，同样采取人工除杂的方式进行杂质剔除操作，对于在液晶模组表面的杂质，采用简单的吹扫等方式即可处理，但是对于液晶面板与背光板之间的杂质，则需要人为拆解液晶模组，再进行具体定位清理，这样的除杂方式不仅浪费大量人力，而且除杂效率低，除杂精准率低
。

技术实现思路

[0004]本专利技术提供了一种液晶模组杂质定位方法
、
除杂方法及除杂系统，以解决现有技术中通过人工肉眼感官的形式进行检测，不仅识别率较低，检测效率低，同时极大程度的损害检测者的眼睛，对于液晶面板与背光板之间的杂质，则需要人为拆解液晶模组，再进行具体定位清理，这样的除杂方式不仅浪费大量人力，而且除杂效率低，除杂精准率低的问题
。
[0005]本专利技术采用的技术方案是：提供一种液晶模组杂质定位方法，包括如下步骤：
[0006]构建
CCD
相机矩阵，多个
CCD
相机以
M*N
矩阵式排布；
[0007]每个
CCD
相机以其前置的光学成像系统的放大倍率覆盖液晶模组一定区域，使
CCD
相机的图像与液晶模组物面形成一一对应的映射关系，并保证
CCD
相机矩阵对整个液晶模组物面完全覆盖；
[0008]对多个
CCD
相机的图像进行裁剪和拼接形成完整图像，裁剪和拼接后的完整图像的每个像素坐标与液晶模组物面的每个物面坐标具有固定的一一映射关系；
[0009]通过
CCD
相机矩阵判断生产线上的液晶模组上是否存在杂质，判断为有杂质时对杂质进行定位，确定杂质在液晶模组物面上的二维坐标
。
[0010]进一步的，所述对多个
CCD
相机的图像进行裁剪和拼接形成完整图像，裁剪和拼接后的完整图像的每个像素坐标与液晶模组物面的每个物面坐标具有固定的一一映射关系的方法包括：
[0011]分别对
CCD
相机矩阵中的各个相机进行视觉标定，获取相机参数标定以及相机位置之间的关系；
[0012]根据每个
CCD
相机的内参数据，将每个
CCD
相机获取的图像投影至相机矩阵坐标系下，相机矩阵坐标系以相机矩阵在液晶模组的竖直投影点作为坐标原点；
[0013]采用双线性插值算法分别对每个
CCD
相机获取的图像进行预处理；
[0014]根据每个
CCD
相机的外参数据，采用尺度不变特征转换特征对经过预处理的所有图像进行匹配，以进行图像拼接获取拼接图；
[0015]使拼接图尺寸与液晶模组尺寸大小相同，拼接图的二维坐标系与液晶模组的二维坐标系平行，杂质处于拼接图中的二维坐标即为杂质处于液晶模组上的二维坐标
。
[0016]进一步的，所述根据每个
CCD
相机的外参数据，采用尺度不变特征转换特征对经过预处理的所有图像进行匹配，以进行图像拼接获取拼接图的方法包括：
[0017]分别检测经过预处理的所有图像的尺度不变特征转换特征，以获取每幅图像的特征点集；
[0018]根据每个
CCD
相机的外参数据获取两两相邻的图像，采用最近邻算法对相邻的两个图像进行匹配，以获取匹配点；
[0019]根据每幅图像的灰度信息对匹配点进行提纯；
[0020]采用非线性最小二乘法对经过提纯的匹配点对进行运算，以获取两两对齐的图像；
[0021]采用直方图均衡化法对两两对齐的图像进行拼接处理
。
[0022]进一步的，所述通过
CCD
相机矩阵判断生产线上的液晶模组上是否存在杂质的方法包括：
[0023]将生产线上液晶模组交替以纯白
、
纯黑两种背景进行点亮，通过
CCD
相机矩阵获取液晶模组各次级区域的杂质存在情况，当纯色背景出现遮挡，则表明该液晶模组存在杂质
。
[0024]进一步的，所述的液晶模组杂质定位方法还包括：判断杂质类别及处于液晶模组表面或者内部
。
[0025]进一步的，所述判断杂质类别及处于液晶模组表面或者内部的方法包括：
[0026]根据杂质处于生产线上液晶模组的二维坐标调用拉曼检测装置至相同的二维坐标位置；
[0027]将拉曼检测装置的聚焦点所处的二维坐标系设定为液晶模组表面区域；
[0028]根据拉曼检测装置的聚焦点相较于装置自身距离计算拉曼检测装置相较于液晶模组表面的
Z
轴坐标；
[0029]在拉曼检测装置移动到适宜检测位置时，采集杂质的拉曼光谱；
[0030]调用拉曼光谱库中的各类杂质拉曼光谱数据进行液晶模组杂质类别判别；所述杂质类别为无粘性杂质或有粘性杂质；
[0031]调用拉曼光谱库中的单类杂质拉曼光谱数据进行液晶模组杂质位置判别，判定该杂质处于液晶模组的表面或者内部
。
[0032]本专利技术还公开一种液晶模组除杂方法，包括如下步骤：
[0033]构建
CCD
相机矩阵，多个
CCD
相机矩阵式实时获取生产线上液晶模组各次级区域的杂质存在情况；
[0034]当
CCD
相机检测到生产线上当前液晶模组存在杂质时，将拍摄的同帧图像传输至杂质定位模块，杂质定位模块对多幅图像进行拼接，拼接尺寸与液晶模组自身尺寸相同，并
根据拼接图像的杂质位置信息对应液晶模组的杂质位置信息，生成基于液晶模组中心点的二维坐标；
[0035]判别杂质类别及判断杂质存在的位置为液晶模组表面或液晶模组内部，所述杂质类别为无粘性杂质或有粘性杂质；
[0036]调用机械臂进行除杂，并针对不同杂质类别及杂质位置进行分别清除处理
。
[0037]进一步的，所述...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种液晶模组杂质定位方法，其特征在于，包括如下步骤：构建
CCD
相机矩阵，多个
CCD
相机以
M*N
矩阵式排布；每个
CCD
相机以其前置的光学成像系统的放大倍率覆盖液晶模组一定区域，使
CCD
相机的图像与液晶模组物面形成一一对应的映射关系，并保证
CCD
相机矩阵对整个液晶模组物面完全覆盖；对多个
CCD
相机的图像进行裁剪和拼接形成完整图像，裁剪和拼接后的完整图像的每个像素坐标与液晶模组物面的每个物面坐标具有固定的一一映射关系；通过
CCD
相机矩阵判断生产线上的液晶模组上是否存在杂质，判断为有杂质时对杂质进行定位，确定杂质在液晶模组物面上的二维坐标
。2.
根据权利要求1所述的液晶模组杂质定位方法，其特征在于，所述对多个
CCD
相机的图像进行裁剪和拼接形成完整图像，裁剪和拼接后的完整图像的每个像素坐标与液晶模组物面的每个物面坐标具有固定的一一映射关系的方法包括：分别对
CCD
相机矩阵中的各个相机进行视觉标定，获取相机参数标定以及相机位置之间的关系；根据每个
CCD
相机的内参数据，将每个
CCD
相机获取的图像投影至相机矩阵坐标系下，相机矩阵坐标系以相机矩阵在液晶模组的竖直投影点作为坐标原点；采用双线性插值算法分别对每个
CCD
相机获取的图像进行预处理；根据每个
CCD
相机的外参数据，采用尺度不变特征转换特征对经过预处理的所有图像进行匹配，以进行图像拼接获取拼接图；使拼接图尺寸与液晶模组尺寸大小相同，拼接图的二维坐标系与液晶模组的二维坐标系平行，杂质处于拼接图中的二维坐标即为杂质处于液晶模组上的二维坐标
。3.
根据权利要求2所述的液晶模组杂质定位方法，其特征在于，所述根据每个
CCD
相机的外参数据，采用尺度不变特征转换特征对经过预处理的所有图像进行匹配，以进行图像拼接获取拼接图的方法包括：分别检测经过预处理的所有图像的尺度不变特征转换特征，以获取每幅图像的特征点集；根据每个
CCD
相机的外参数据获取两两相邻的图像，采用最近邻算法对相邻的两个图像进行匹配，以获取匹配点；根据每幅图像的灰度信息对匹配点进行提纯；采用非线性最小二乘法对经过提纯的匹配点对进行运算，以获取两两对齐的图像；采用直方图均衡化法对两两对齐的图像进行拼接处理
。4.
根据权利要求1所述的液晶模组杂质定位方法，其特征在于，所述通过
CCD
相机矩阵判断生产线上的液晶模组上是否存在杂质的方法包括：将生产线上液晶模组交替以纯白
、
纯黑两种背景进行点亮，通过
CCD
相机矩阵获取液晶模组各次级区域的杂质存在情况，当纯色背景出现遮挡，则表明该液晶模组存在杂质
。5.
根据权利要求1‑4任意一项所述的液晶模组杂质定位方法，其特征在于，还包括：判断杂质类别及处于液晶模组表面或者内部
。6.
根据权利要求5所述的液晶模组杂质定位方法，其特征在于，所述判断杂质类别及处于液晶模组表面或者内部的方法包括：
根据杂质处于生产线上液晶模组的二维坐标调用拉曼检测装置至相同的二维坐标位置；将拉曼检测装置的聚焦点所处的二维坐标系设定为液晶模组表面区域；根据拉曼检测装置的聚焦点相较于装置自身距离计算拉曼检测装置相较于液晶模组表面的
Z
轴坐标；在拉曼检测装置移动到适宜检测位置时，采集杂质的拉曼光谱；调用拉曼光谱库中的各类杂质拉曼光谱数据进行液晶模组杂质类别判别；所述杂质类别为无粘性杂质或有粘性杂质；调用拉曼光谱库中的单类杂质拉曼光谱数据进行液晶模组杂质位置判别，判定该杂质处于液晶模组的表面或者内部
。7.
一种液晶模组除杂方法，其特征在于，包括如下步骤：构建
CCD
相机矩阵，多个
CCD
相机矩阵式实时获取生产线上液晶模组各次级区域的杂质存在情况；当
CCD
相机检测到生产线上当前液晶模组存在杂质时，将拍摄的同帧图像传输至杂质定位模块，杂质定位模块对多幅图像进行拼接，拼接尺寸与液晶模组自身尺寸相同，并根据拼接图像的杂质位置信息对应液晶模组的杂质位置信息，生成基于液晶模组中心点的二维坐标；判别杂质类别及判断杂质存在的位置为液晶模组表面或液晶模组内部，所述杂质类别为无粘性杂质或有粘性杂质；调用机械臂进行除杂，并针对不同杂质类别及杂质位置进行分别清除处理
。8.
根据权利要求7所述的液晶模组除杂方法，其特征在于，所述
CCD
相机矩阵以
2*2
矩阵式排布
。9.
根据权利要求7所述的液晶模组除杂方法，其特征在于，所述构建
CCD
相机矩阵的方法包括：每个
CCD
相机以其前置的光学成像系统的放大倍率覆盖液晶模组一定区域，使
CCD
相机的像面与液晶模组物面形成一一对应的映射关系；多个
CCD
相机按位置分区域覆盖不同区域的液晶模组物面，相邻
CCD
所覆盖的液晶模组物面区域部分重叠，以保证多个
CCD
相机对整个液晶模组物面完全覆盖
。10.
根据权利要求9所述的液晶模组除杂方法，其特征在于，所述杂质定位模块对多幅图像进行拼接的方法包括：分别对
CCD
相机矩阵中的各个相机进行视觉标定，获取相机参数标定以及相机位置之间的关系；根据每个
CCD
相机的内参数据，将每个
CCD
相机获取的图像投影至相机矩阵坐标系下，相机矩阵坐标系以相机矩阵在液晶模组的竖直投影点作为坐标原点；采用双线性插值算法分别对每个
CCD
相机获取的图像进行预处理；根据每个
CCD
相机的外参数据，采用尺度不变特征转换特征对经过预处理的所有图像进行匹配，以进行图像拼接获取拼接图；使拼接图尺寸与液晶模组尺寸大小相同，拼接图的二维坐标系与液晶模组的二维坐标系平行，杂质处于拼接图中的二维坐标即为杂质处于液晶模组上的二维坐标
。
11.
根据权利要求
10
所述的液晶模组除杂方法，其特征在于，所述根据每个
CCD
相机的外参数据，采用尺度不变特征转换特征对经过预处理的所有图像进行匹配，以进行图像拼接获取拼接图的方法包括：分别检测经过预处理的所有图像的尺度不变特征转换特征，以获取每幅图像的特征点集；根据每个
CCD
相机的外参数据获取两两相邻的图像，采用最近邻算法对相邻的两个图像进行匹配，以获取匹配点；根据每幅图像的灰度信息对匹配点进行提纯；采用非线性最小二乘法对经过提纯的匹配点对进行运算，以获取两两对齐的图像；采用直方图均衡化法对两两对齐的图像进行拼接处理
。12.
根据权利要求
11
所述的液晶模组除杂方法，其特征在于，所述判别杂质类别及判断杂质存在的位置为液晶模组表面或液晶模组内部的方法包括：将生产线上液晶模组交替以纯白
、
纯黑两种背景进行点亮，通过
CCD
相机矩阵获取液晶模组各次级区域的杂质存在情况，当纯色背景出现遮挡，则表明该液晶模组存在杂质
。13.
根据权利要求
12
所述的液晶模组除杂方法，其特征在于，所述判别杂质类别及判断杂质存在的位置为液晶模组表面或液晶模组内部的方法还包括：根据杂质处于生产线上液晶模组的二维坐标调用拉曼检测装置至相同的二维坐标位置；将拉曼检测装置的聚焦点所处的二维坐标系设定为液晶模组表面区域；根据拉曼检测装置的聚焦点相较于装置自身距离计算拉曼检测装置相较于液晶模组表面的
Z
轴坐标；在拉曼检测装置移动到适宜检测位置时，采集杂质的拉曼光谱；调用拉曼光谱库中的各类杂质拉曼光谱数据进行液晶模组杂质类别判别；所述杂质类别为无粘性杂质或有粘性杂质；调用拉曼光谱库中的单类杂质拉曼光谱数据进行液晶模组杂质位置判别，判定该杂质处于液晶模组的表面或者内部
。14.
根据权利要求
13
所述的液晶模组除杂方法，其特征在于，所述调用机械臂进行除杂，并针对不同杂质类别及杂质位置进行分别清除处理的方法包括：通过拉曼检测装置对杂质距离进行判定后，分为液晶模组表面杂质及液晶模组内部杂质；针对表面杂质，再一次通过拉曼检测装置对其类别进行判定，若为无粘性杂质，调用吹扫机械臂进行除杂；若是有粘性杂质，调用针对性机械臂进行除杂；针对内部杂质，首先调用组装机械臂将背光板与液晶面板进行拆解，完成拆解后，再一次通过拉曼检测装置对其类别进行判定，若为无粘性杂质，调用吹扫机械臂进行除杂；若是有粘性杂质，调用针对性机械臂进行除杂，所述针对性机械臂包括除胶剂机械臂
、
除漆剂机械臂；完成除杂后再次调用组装机械臂进行重组装
。15.
根据权利要求
14
所述的液晶模组除杂方法，其特征在于，判断为表面杂质时，调用机械臂进行除杂的方法包括：针对表面杂质，将杂质在以液晶模组中心点为原点的二...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘浩，陈宫傣，张国宏，闫晓剑，王毅，贾利红，
申请(专利权)人：四川启睿克科技有限公司，
类型：发明
国别省市：