测量光学装置效率的方法制造方法及图纸

本公开内容的实施方式涉及测量光学装置的效率的测量系统和方法

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】测量光学装置效率的方法


[0001]本公开内容的实施方式总体而言涉及光学装置
。
更具体地，本公开内容的实施方式涉及测量光学装置的衍射效率的测量系统和方法
。

技术介绍

[0002]包括波导组合器和平面光学装置
(
例如超表面和平面透镜
)
的光学装置用于各种感测应用
(
例如，脸部识别传感器
)。
产生的光穿过光学装置传播，直到光以衍射图案离开光学装置
。
提高光学装置的衍射效率以及在光学装置的视场上获得均匀分布是有利的
。
此外，以大数值孔径测量衍射图案的衍射级是有利的
。
然而，同时测量所有衍射级的效率是困难的
。
[0003]因此，本领域需要的是测量光学装置的衍射效率的测量系统和方法
。

技术实现思路

[0004]在一个实施方式中，提供了一种测量系统
。
测量系统包括光源，该光源被配置为投射光束，物镜设置在光束中
。
光束包括衍射光束
。
测量系统进一步包括镜，该镜可操作以将衍射光束从物镜引导穿过两个或更多个中继透镜，及传感器，该传感器设置在两个或更多个中继透镜附近
。
两个或更多个中继透镜将具有衍射图案的衍射光束引导至传感器
。
测量系统进一步包括照明源，该照明源与光源相对设置
。
[0005]在另一实施方式中，提供了一种测量系统
。
测量系统包括光源，该光源被配置为投射光束，光束包括衍射光束
。
测量系统进一步包括照明源，该照明源被配置为提供白光，及传感器，该传感器设置成与光源和照明源相对
。
测量系统进一步包括镜，该镜可操作以将具有衍射图案的衍射光束引导至传感器
。
[0006]在又另一实施方式中，提供了一种方法
。
该方法包括将光学装置定位在测量系统中
。
该方法进一步包括通过捕捉光学装置上的基准标记将光学装置与光源对准
。
该方法进一步包括将光束从光源引导至光学装置
。
光学装置将光束衍射成衍射光束
。
方法进一步包括引导衍射光束穿过物镜，使用镜和一或多个中继透镜将衍射光束引导至传感器，和使用传感器测量由衍射光束形成的衍射图案的衍射效率
。
附图说明
[0007]为了可以详细了解本公开内容的上述特征的方式，可参照实施方式对简要概述于上的本公开内容进行更特定的描述，其中一些实施方式描绘在随附附图中
。
然而，应注意，随附附图仅示出示例性实施方式，因此随附附图不应被认为是对范围的限制，因为本公开内容可以允许其他等效的实施方式
。
[0008]图
1A
是根据实施方式的光学装置的示意性俯视图
。
[0009]图
1B
是根据实施方式的光学装置的示意性侧视图
。
[0010]图2是根据实施方式的衍射图案的示意性俯视图
。
[0011]图
3A
是根据实施方式的测量系统的配置的示意性截面图
。
[0012]图
3B
是根据实施方式的测量系统的配置的示意性截面图
。
[0013]图4是根据实施方式的测量系统的示意性截面图
。
[0014]图5是根据实施方式的利用测量系统测量一或多个光学装置的衍射效率的方法的流程图
。
[0015]图6是根据实施方式的利用测量系统测量一或多个光学装置的衍射效率的方法的流程图
。
[0016]为了便于理解，在可能的情况下，已使用相同的附图标记来表示图中共同的相同元件
。
可以设想的是，一个实施方式的元件和特征可以有益地并入其他实施方式中而无需进一步叙述
。
具体实施方式
[0017]本公开内容的实施方式涉及测量光学装置的衍射效率的测量系统和方法
。
[0018]图
1A
是根据实施方式的光学装置
100
的示意性俯视图
。
图
1B
是根据实施方式的光学装置
100
的示意性侧视图
。
光学装置
100
可以是可操作以在感测应用中使用的任何光学装置
(
例如，脸部识别传感器
)。
例如，光学装置
100
可以是波导组合器或平面光学装置，例如超表面或平面透镜
。
[0019]光学装置
100
包括设置在基板
104
上的多个光学装置结构
102。
光学装置结构
102
可以是具有次微米尺寸
(
例如纳米尺寸
)
的纳米结构
。
尽管图
1A
和
1B
将光学装置结构
102
描绘为具有正方形或矩形横截面，但光学装置结构
102
的横截面可以具有其他形状，包括但不限于圆形
、
三角形
、
椭圆形
、
正多边形
、
不规则多边形
、
和
/
或不规则形状的横截面
。
尽管在基板
104
上仅示出了二十五个光学装置结构
102
，但是可以在基板
104
上设置任意数量的光学装置结构
102。
在一些实施方式中，光学装置结构
102
可以是倾斜的，其中多个光学装置结构
102
中的至少一个侧壁
106
相对于基板
104
倾斜
。
光学装置
100
包括设置在基板
104
上的基准标记
110。
[0020]基板
104
可以是本领域中使用的任何基板，并且根据基板
104
的用途可以是不透明的或透明的
。
基板
104
包括任何合适的材料，只要基板
104
可以充分地透射预定波长或波长范围内的光并且可以用作多个光学装置结构
102
的充分支撑物
。
基板
104
包括但不限于非晶电介质晶体电介质
、
二氧化硅
(
例如熔融二氧化硅
)、
氧化镁
、
聚合物
、
硅
(Si)、
二氧化硅
(SiO2)、
石英
、
碳化硅...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.
一种测量系统，包括：光源，所述光源被配置为投射光束；物镜，所述物镜设置在所述光束中，所述光束包括衍射光束；镜，所述镜可操作以将所述衍射光束从所述物镜引导穿过两个或更多个中继透镜；传感器，所述传感器设置在所述两个或更多个中继透镜附近，其中所述两个或更多个中继透镜将具有衍射图案的所述衍射光束引导至所述传感器；和照明源，所述照明源与所述光源相对设置
。2.
如权利要求1所述的测量系统，进一步包括自动对焦系统
。3.
如权利要求2所述的测量系统，其中所述自动对焦系统包括自动对焦模块和第三镜
。4.
如权利要求1所述的测量系统，进一步包括管透镜，所述管透镜被配置为引导所述衍射光束以形成实像
。5.
如权利要求1所述的测量系统，其中光学装置被配置为设置在所述光源和所述物镜之间，其中所述光束能操作以传播穿过所述光学装置且所述光束能操作以被所述光学装置衍射
。6.
如权利要求1所述的测量系统，其中所述镜是分色镜
。7.
如权利要求1所述的测量系统，其中所述传感器是
2D LIDAR
传感器
。8.
如权利要求1所述的测量系统，其中所述物镜具有在约
0.5
和约
1.0
之间的数值孔径
(NA)。9.
如权利要求1所述的测量系统，其中所述衍射光束在所述衍射图案中产生多个光点，其中所述传感器能操作以测量每个光点的光点强度
。10.
一种测量系统，包括：光源，所述光源被配置为投射光束，所述光束包括衍射光束；照明源，所述照明源被配置为提供白光；传感器，所述传感器设置成与所述光源和所述照明源相对；和镜，所述镜能操作以将具有衍射图案的所述衍射光束引导至所述传感器
。11.
如权利要求
10
所述的测量系统，其中光学装置被配置为设置在所述光源和所述传感器之间，其中所述光束能操作以传播穿过所述光学装置且所述光束能...

【专利技术属性】
技术研发人员：傅晋欣，孙阳阳，大东和也，卢多维克，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：