一种减反膜及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种减反膜及其制备方法，制备方法包括如下步骤：将3‑

【技术实现步骤摘要】
一种减反膜及其制备方法


[0001]本专利技术涉及减反膜
，具体涉及一种减反膜及其制备方法
。

技术介绍

[0002]减反射膜简称减反膜，它的主要功能是减少透镜或光学元器件表面多余的反射光，从而提高元件的透光率，因此减反膜又称增透膜
。
目前减反膜广泛应用于显示面板
、
太阳能电池
、
光学镜头
、
建筑玻璃等领域
。
目前已有许多类型的减反膜可供使用，以满足光学
、
能源等领域的需求
。
然而随着科技进步和社会发展，人们对减反膜性能的要求越来越高，不仅需要有优异的光学性能，还要求具备优异的疏水性
、
耐摩擦性和自洁性等；除此之外，还对减反膜的工作范围有所需求，比如能够在某个特定的波长区域内具有减反作用
。
因此，不管从减反膜的庞大产量还是从广泛用途上，研究出高性能多功能的减反膜是当今以及未来一个极具潜力的课题
。
[0003]减反膜的研究依赖于其制备工艺，高质量的减反膜有利于其性能研究和应用的发展
。
随着社会进步和科学技术的发展，越来越多的制备工艺应用到减反膜的研究上
。
根据其工作原理主要分为物理气相沉积法
(PhysicalVaporDeposition
，
PVD)、
化学气相沉积法
(Chemical VaporDeposition
，
CVD)<br/>以及溶胶
‑
凝胶法
(Sol
‑
Gel)。
[0004]溶胶
‑
凝胶法
(Sol
‑
Gel)
是指利用在溶剂中的易水解的金属化合物
(
无机盐或金属醇盐
)
等物质与水发生反应，通过水解和缩聚过程形成溶胶，再将这种溶胶涂覆在基底上形成液膜，最后通过热处理等方式将液膜转化成无定形或晶态薄膜的方法
。
其中溶胶的粘度
、
水量和镀膜工艺参数
(
提拉速度
、
浸渍速度及时间
)
等因素都会影响单层膜的厚度及结构
。
溶胶
‑
凝胶法自
20
世纪
80
年代以来就用来制备多种薄膜，该方法具有成本低
、
操作简单
、
可定量掺杂且厚度可控等一系列优点，因此在减反膜的制备上也得到了广泛应用
。
溶胶
‑
凝胶法制备的薄膜不仅适用于大面积的生产而且不需要任何后续处理可以直接使用
。
[0005]中国专利文献
CN202110681570.1
公开了一种基于磁控溅射的
GaAs
太阳能电池用减反射膜及其制备方法与应用
。
所述减反射膜包括
ZnO
层及
SiO2层，所述
ZnO
层及
SiO2层交替堆叠，所述
ZnO
层及
SiO2层的光学厚度分别为各层对应材料参考波长的
0.1
～
0.25
倍；所述
ZnO
层的折射率为
1.9
～
2.1
，所述
SiO2层的折射率为
1.4
～
1.6。
本专利技术制备的减反射膜在宽光谱范围内与太阳光谱有较好的匹配性
(300
～
1400nm
范围内最优平均反射率低至
7.05
％
)
，减反射效果较常规的减反射膜体系有所提升
。
[0006]现有的减反膜在实际使用中放置于室外，容易遭受风吹日晒并吸附空气中的水分和灰尘，导致使用一段时间后减反性能下降
。

技术实现思路

[0007]为了解决现有技术存在的不足，本专利技术的目的在于提供一种减反膜及其制备方法，制备得到的减反膜能够减少玻璃定向反射，增加内反射效应，促进其有效吸收太阳光能，提高太阳光线的透过率，最大限度提高光电转换效能，经过双面处理的光伏玻璃的光透
过率可达
94.2
％～
96.8
％，且不易吸水不易沾尘具有自洁性
。
[0008]为了实现上述目的，本专利技术采用如下技术方案：
[0009]一种减反膜的制备方法，包括如下步骤：
[0010](1)
将3‑
(2,3
‑
环氧丙氧
)
丙基三甲氧基硅烷
、
六甲基二硅氮烷加入到甲醇中，持续通入
N2，搅拌反应，得到改性有机硅；
[0011](2)
将四甲氧基硅烷
、
改性有机硅混合均匀得到混合液，然后加入甲醇
、
氨水
、
去离子水，搅拌均匀，得到改性
SiO2前驱溶胶；
[0012](3)
将二乙醇胺加入到异丙醇中，搅拌混合均匀，然后加入乙酸锌，搅拌反应至溶液完全澄清，得到
ZnO
前驱溶胶；
[0013](4)
将步骤
(3)
所得
ZnO
前驱溶胶加入到步骤
(2)
所得改性
SiO2前驱溶胶中，搅拌均匀，调节溶胶
pH
，密封老化，加热回流，得到改性
SiO2‑
ZnO
复合溶胶；
[0014](5)
将改性
SiO2‑
ZnO
复合溶胶通过浸渍提拉法在透明衬底上制备双面改性涂层，然后进行退火处理，即在透明衬底上得到减反膜
。
[0015]优选的，步骤
(1)
中，3‑
(2,3
‑
环氧丙氧
)
丙基三甲氧基硅烷
、
六甲基二硅氮烷的摩尔比为1：
1。
[0016]优选的，步骤
(1)
中，搅拌反应条件为
40
～
60℃
下搅拌
18
～
24h。
[0017]优选的，步骤
(2)
中，四甲氧基硅烷
、
改性有机硅的摩尔比为
10
：
0.1
～
0.4
；混合液
、
甲醇
、
氨水
、
去离子水的体积比为1：5～
10
：
0.2
～
0.5
：
0.1
；搅拌条件为
40
～
60℃
下搅拌4～
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种减反膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
(1)
将3‑
(2,3
‑
环氧丙氧
)
丙基三甲氧基硅烷
、
六甲基二硅氮烷加入到甲醇中，持续通入
N2，搅拌反应，得到改性有机硅；
(2)
将四甲氧基硅烷
、
改性有机硅混合均匀得到混合液，然后加入甲醇
、
氨水
、
去离子水，搅拌均匀，得到改性
SiO2前驱溶胶；
(3)
将二乙醇胺加入到异丙醇中，搅拌混合均匀，然后加入乙酸锌，搅拌反应至溶液完全澄清，得到
ZnO
前驱溶胶；
(4)
将步骤
(3)
所得
ZnO
前驱溶胶加入到步骤
(2)
所得改性
SiO2前驱溶胶中，搅拌均匀，调节溶胶
pH
，密封老化，加热回流，得到改性
SiO2‑
ZnO
复合溶胶；
(5)
将改性
SiO2‑
ZnO
复合溶胶通过浸渍提拉法在透明衬底上制备双面改性涂层，然后进行退火处理，即在透明衬底上得到减反膜
。2.
根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤
(1)
中，3‑
(2,3
‑
环氧丙氧
)
丙基三甲氧基硅烷
、
六甲基二硅氮烷的摩尔比为1：
1。3.
根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤
(1)
中，搅拌反应条件为
40
～
60℃
下搅拌
18
～
24h。4.
根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤
(2)
中，四甲氧基硅烷
、
改性有机硅的摩尔比为
10
：
0.1
～<...

【专利技术属性】
技术研发人员：定发，王树平，文勇，
申请(专利权)人：深圳市长松科技有限公司，
类型：发明
国别省市：