一种狭缝涂布装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种狭缝涂布装置，包括：基台，基台上设置有涂布基底；涂布头机构，涂布头机构能够移动，且涂布头机构能够沿其移动方向挤出涂布液并将涂布液涂布于涂布基底上以形成液态膜；清洁机构，清洁机构能够移动，且清洁机构能够在涂布头机构挤出涂布液前对涂布基底进行清洁；反溶剂喷吹机构，反溶剂喷吹机构能够移动，反溶剂喷吹机构能够喷出反溶剂气体氛围，且反溶剂喷吹机构能够将反溶剂气体氛围喷吹至液态膜上

【技术实现步骤摘要】
一种狭缝涂布装置


[0001]本技术涉及涂布设备
，特别涉及一种狭缝涂布装置
。

技术介绍

[0002]狭缝涂布作为一种精密的溶液法成膜技术，具有涂布速度快
、
精度高
、
湿厚均匀，是化学方法制备高质量薄膜的重要方法，具有成本低等优势，再研发
、
中试和量产的系列高端通用产品，广泛应用于平板显示
(LCD、OLED、QLED)、
触摸屏
、
薄膜太阳能电池
(OPV、
钙钛矿
)、IC
先进封装
(FOWLP、FOPLP)、
氢能源电池
、
传感器
、
柔性及印刷电子
、
智能玻璃等高科技领域
。
[0003]其中，涂布溶液与基底的浸润是成膜质量好坏的第一步，因此常常通过基底处理
、
溶液修饰等方法改变涂布溶液与基底的浸润效果
。
此外，涂布基底的清洁度会显著影响溶液法成膜的质量以及后续产品性能，当前常规的提本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种狭缝涂布装置，其特征在于，包括：基台，所述基台上设置有涂布基底；涂布头机构，所述涂布头机构能够移动，且所述涂布头机构能够沿其移动方向挤出涂布液并将所述涂布液涂布于所述涂布基底上以形成液态膜；清洁机构，所述清洁机构能够移动，且所述清洁机构能够在所述涂布头机构挤出所述涂布液前对所述涂布基底进行清洁；反溶剂喷吹机构，所述反溶剂喷吹机构能够移动，所述反溶剂喷吹机构能够喷出反溶剂气体氛围，且所述反溶剂喷吹机构能够将所述反溶剂气体氛围喷吹至所述液态膜上；还包括至少一个移动机构，所述涂布头机构
、
所述清洁机构和所述反溶剂喷吹机构均设置于所述移动机构上；所述涂布基底为水平结构，所述移动机构能够带所述涂布头机构
、
所述清洁机构和所述反溶剂喷吹机构沿水平方向从所述涂布基底的一端移动至另一端；或，所述涂布基底为倾斜结构，所述移动机构能够带所述涂布头机构
、
所述清洁机构和所述反溶剂喷吹机构沿倾斜方向从所述涂布基底的较高一端移动至较低一端
。2.
根据权利要求1所述的狭缝涂布装置，其特征在于，所述清洁机构包括清洁臂和清洁部，所述清洁臂的一端与所述移动机构固定连接，所述清洁臂的另一端与所述清洁部转动连接，所述清洁部与所述涂布基底能够形成第一预设角度，且所述清洁部能够对所述涂布基底进行清洁
。3.
根据权利要求2所述的狭缝涂布装置，其特征在于，所述清洁部为吹风除尘件
、
吸风除尘件或静电除尘件
...

【专利技术属性】
技术研发人员：李卫东，赵政晶，赵志国，赵东明，秦校军，
申请(专利权)人：华能新能源股份有限公司，
类型：新型
国别省市：