【技术实现步骤摘要】
一种多方向源电容耦合等离子体源装置及其处理方法
[0001]本专利技术涉及晶体
、
半导体制造
，尤其涉及一种多方向源电容耦合等离子体源装置及其处理方法
。
技术介绍
[0002]随着等离子体在晶体加工
、
半导体制造等领域的广泛应用，以介质阻挡放电
、
电感耦合等离子体放电和电容耦合等离子体放电为代表的等离子体装置得到广泛地关注
。
目前半导体
、
集成电路工业应用中，如何实现等离子体对薄膜涂覆以及材料刻蚀的工艺均匀性是关键性问题
。
在真空腔内的低压环境下，通过射频电源对通入气体激发放电从而产生电子
、
离子
、
自由基团等活性粒子，形成等离子体
。
等离子体与被刻蚀或涂敷材料表面发生各种化学
、
物理等活性反应，从而增强材料表面的性能
。
等离子体均匀性越好，对材料处理的效果越均匀稳定
。
因此，相比于介质阻挡放电和...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.
一种多方向源电容耦合等离子体源装置，其特征在于，包括：真空腔体
(1)
，所述真空腔体
(1)
外部具有由石英玻璃材料制造形成包覆所述真空腔体
(1)
的绝缘外壳，绝缘外壳内部中空且设有电容电极；电容电极
(2)
，由电极材料按照圆形结构制成，每个方向的所述电容电极
(2)
设置为多个并列等距排列，所述电容电极
(2)
通过由导电金属形成的第一连接点
(1
‑4，7‑
10
，
13
‑
16
，
19
‑
22)
与绝缘外壳外部连接；控制开关
(3)
，其与所述第一连接点
(1
‑4，7‑
10
，
13
‑
16
，
19
‑
22)
通过导线相连接，通过控制其断开与闭合实现最终放电的所述电容电极
(1)
的控制；真空泵
(4)
，其用于对所述真空腔体
(1)
抽气实现高真空度；两个导气管
(5)
，为中空管道结构，两个所述导气管
(5)
的一端均与所述真空腔体
(1)
连接，另一端分别与所述真空泵
(4)、
所述气瓶
(7)
相连接；真空计
(6)
，其通过与相应的所述导气管
(5)
一侧连接与所述真空腔体
(1)
的真空度测量；气瓶
(7)
，其通过与相应的所述导气管
(5)
一侧连接对所述真空腔体
(1)
充入气体作为电容耦合等离子体装置放电的工作气体；射频电源
(8)
，其通过所述控制开关
(3)
以及第一连接点
(1
‑4，7‑
10
，
13
‑
16
，
19
‑
22)
与多个所述电容电极
(2)
连接，接地端与所述真空腔体
(1)
的第二连接点
(5
‑6，
11
‑
12
，
17
‑
18
，
23
‑
24)
相连接，从而对真空腔体内充入的工作气体电离，产生等离子体
。2.
根据权利要求1所述的一种多方向源电容耦合等离子体源装置，其特征在于，所述第一连接点
(1
‑4，7‑
10
，
13
‑
16
，
19
‑
22)
和所述第二连接点
(5
‑6，
11
‑
12
，
17
‑
18
，
23
‑
24)
均采用导电金属制成，并为圆形结构，其中，所述第一连接点
(1
‑4，7‑
10
，
13
‑
16
，
19
‑
22)
通过连接部件与所述控制开关
(3)
连接
。3.
根据权利要求2所述的一种多方向源电容耦合等离子体源装置，其特征在于，所述连接部件包括开设在所述第一连接点上的外螺纹
(9)
和与所述第一连接点可拆卸连接的旋紧环
(10)
，所述旋转环内圈开设内螺纹
(11)
，内螺纹
(11)
与外螺纹
(9)
相互配合可使得所述旋紧环
(10)
与所述第一连接点螺纹连接，所述第一连接点一端开设滑槽
(12)
，所述滑槽
(12)
内滑动连接两个对称的夹板
(13)
，所述夹板
(13)
采用导电金属制成，所述滑槽
(12)
内固定连接矩形块
(19)
，所述矩形块
(19)
贯穿两个所述夹板
(13)
，在所述矩形块
(19)
上套设压簧
(14)
，所述压簧
(14)
的两端分别与两个所述夹板
(13)
连接，使得所述夹板
(13)
远离中心，在所述夹板
(13)
远离中心的两个边缘设置为圆角结构，在所述夹板
(13)
远离中心的两个侧面上固定弧形块
(15)
，在所述夹板<...
【专利技术属性】
技术研发人员：欧阳文冲，吴征威，周凡，卢伏，
申请(专利权)人：中国科学技术大学，
类型：发明
国别省市：
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