调色剂和双组分显影剂制造技术

一种调色剂，其难以产生调色剂聚集块，无论使用环境如何，均表现出稳定的带电性能，并且即使在连续进行大量打印期间，带电性能的波动也小

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】调色剂和双组分显影剂


[0001]本公开涉及用于使用于电子照相法和静电记录法等的静电图像显影的调色剂和双组分显影剂
。

技术介绍

[0002]近年来，电子照相全彩色复印机变得广泛普及并开始应用于印刷市场
。
在印刷市场中，需要高速度
、
高图像品质和高稳定性
。
[0003]为了增加电子照相复印机的速度，需要用较少的热量来使调色剂定影，并且降低由于定影期间的热导致的调色剂的熔融粘度是重要的
。
此外，为了实现高图像品质，调色剂的带电速度必须高，并且无论使用环境，带电性能都必须稳定
。
此外，在印刷市场中，需要即使在长时间的连续使用中仍具有高稳定性的复印机，其中图像品质和图像浓度的变化小
。
[0004]为了改善调色剂的定影性能，进行了各种研究以调整调色剂的熔融粘度
。
例如，专利文献1公开了一种通过降低调色剂树脂在恒定温度范围内的熔融粘度来提高定影性能的调色剂
。
[0005]为了使调色剂的带电特性稳定，研究了本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.
一种调色剂，其特征在于，其包括：包含粘结剂树脂的调色剂颗粒，和在所述调色剂颗粒的表面的二氧化硅细颗粒
S1
，其中所述调色剂的重均粒径为
4.0
μ
m
以上且
15.0
μ
m
以下，在所述二氧化硅细颗粒
S1
的
29
Si
‑
NMR
测量中，观察到对应于所述二氧化硅细颗粒
S1
的峰，在对于所述二氧化硅细颗粒
S1
的通过
29
Si
‑
NMR
·
CP/MAS
法获得的光谱中，存在对应于所述二氧化硅细颗粒
S1
的
D1
单元结构的峰
、
对应于所述二氧化硅细颗粒
S1
的
D2
单元结构的峰
、
和对应于所述二氧化硅细颗粒
S1
的
Q
单元结构的峰，并且将对应于所述
D1
单元结构的峰的峰面积
、
对应于所述
D2
单元结构的峰的峰面积
、
和对应于所述
Q
单元结构的峰的峰面积分别表示为
S
CP
D1、S
CP
D2
和
S
CP
Q
，和在对于所述二氧化硅细颗粒
S1
的通过
29
Si
‑
NMR
·
DD/MAS
法获得的光谱中，存在对应于所述二氧化硅细颗粒
S1
的
D1
单元结构的峰
、
对应于所述二氧化硅细颗粒
S1
的
D2
单元结构的峰
、
和对应于所述二氧化硅细颗粒
S1
的
Q
单元结构的峰，并且将对应于所述
D1
单元结构的峰的峰面积
、
对应于所述
D2
单元结构的峰的峰面积
、
和对应于所述
Q
单元结构的峰的峰面积分别表示为
S
DD
D1、S
DD
D2
和
S
DD
Q
的情况下，由下式
(1)
给出的
A
与由下式
(2)
给出的
B
之比
(A/B)
为
4.0
以上且
14.0
以下，
A
＝
{(S
CP
D1+S
CP
D2)/S
CP
Q}
×
100B
＝
...

【专利技术属性】
技术研发人员：村山隆二，北村伸，高桥徹，辻本大祐，松尾龙一郎，佐野仁思，藤田信幸，山田修嗣，军司由香，小堀尚邦，小川吉宽，大森淳彦，香川浩辉，安立启介，杉田朋子，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：