杂环取代的制造技术

本发明专利技术属于农药技术领域，公开了杂环取代的

【技术实现步骤摘要】
杂环取代的N
‑
吡啶基苯并噻唑类化合物及制备方法与应用


[0001]本专利技术属于农药
，涉及一类杂环取代的
N
‑
吡啶基苯并噻唑类化合物及其制备方法与应用
。

技术介绍

[0002]杂草导致农作物产量和品质下降的重要原因之一，农田杂草普遍具有强大的繁殖能力，农田杂草的种子具有长寿性
、
顽强性
、
早熟性以及易脱落的性质，不易灭除，具有极强的生命力
。
杂草主要通过与作物争夺养料
、
水分
、
阳光和空间，妨碍田间通风透光，增加病虫害传播，从而降低作物的产量和质量
。
部分杂草还会分泌抑制性物质，阻碍作物的正常生长
。
过多的杂草生长还会影响水利设施的正常运行，妨碍农事操作，增加生产费用
。
[0003]目前对于杂草的防治主要通过恶化杂草生长环境的方式控制杂草的生长，如：通过轮作灭草
、
精选种子
、
合理密植以密控草
、
淹灌灭草等农业防除的方式控制杂草；通过深翻
、
耙茬
、
苗前耙地和苗期中耕灭草等机械防除的方式控制杂草；以菌灭草
、
以虫灭草
、
植物治草等生物防除的方式控制杂草；通过化学除草的方式控制杂草
。
[0004]化学除草具有灭草及时
、
见效快
、
效果好的特点，除草剂防治杂草的作用机制主要包括：抑制光合作用
、
抑制呼吸作用
、
抑制核酸与氨基酸生物合成
、
抑制类胡萝卜素的生物合成
、
干扰植物激素作用
、
抑制脂类合成
、
对生物膜的破坏作用
、
对植物生长的抑制作用等
。
目前市售的除草剂主要包括三氮苯类
、
酰胺类
、
脲类
、
二硝基苯胺类
、
二苯醚类
、
苯氧羧酸类
、
氨基甲酸酯类以及有机磷等
。
[0005]然而现有除草剂存在除草广谱性不足
、
除草效果较差
、
药害易发生以及土壤残留较多的问题，同时随着除草剂的广泛使用，杂草对现有化学除草剂的抗性日益增强，因此开发具有新颖化学结构和作用机制的除草剂具有重要意义
。

技术实现思路

[0006]为解决现有除草剂存在的除草广谱性不足
、
除草效果较差
、
存在药害以及土壤残留较多的问题，本专利技术提供
N
‑
吡啶基苯并噻唑类化合物及其制备方法与应用
。
该
N
‑
吡啶基苯并噻唑类化合物由杂环取代，在
1.5
～
9.0g/ha
的施用量下对阔叶杂草和禾本科杂草均具有较好的防效，且对常见大田作物冬小麦
、
水稻和玉米具有作物安全性
。
[0007]为实现本专利技术的技术目的，一方面，本专利技术提供一种
N
‑
吡啶基苯并噻唑类化合物，化学结构式如式
(I)
所示：
[0008][0009]式
(I)
中：
[0010]Q
为杂环；
[0011]R1选自
H、F、Cl
中的任意一种；优选地，
R1为
F
；
[0012]R2选自氢
、
卤素中的任意一种；优选地，
R2为
Cl
或
F
；
[0013]R3选自卤素
、C1～
C4烷基
、C1～
C4卤代烷基
、C1～
C4烷氧基
、C1～
C4卤代烷氧基
、NO2中的任意一种；优选地，
R3为
F、Cl、CF3、NO2中的任意一种
。
[0014]杂环
Q
选自
Q1
～
Q4
中的任意一种，
Q1
～
Q4
的结构式如下所示：
[0015][0016]Q1
中的
R4选自氢
、C1～
C4烷基
、C1～
C4卤代烷基中的任意一种；优选地，
R4为
CF3。
[0017]Q1
中的
R5选自氢
、C1～
C4烷基
、C1～
C4卤代烷基
、C2～
C5链烯基
、C3～
C5炔基中的任意一种；优选地，
R5为
CH3。
[0018]Q2
中的
R6选自氢
、C1～
C4烷基
、C1～
C4卤代烷基
、
氰基
C1～
C4烷基中的任意一种；优选地，
R6为
CH3。Q2
中的
R7选自氢
、C1～
C4烷基
、C1～
C4卤代烷基
、
氰基
C1～
C4烷基中的任意一种；优选地，
R7为
CH3。Q2
中的
Y
选自
O、S
中的任意一种；优选地，
Y
为
S。
[0019]Q3
中的
R8选自氢
、C1～
C4烷基
、
氰基
C1～
C4烷基
、C2～
C5链烯基
、C3～
C5炔基
、C1～
C4卤代烷基
、C2～
C5卤代链烯基
、C3～
C5卤代炔基
、C1～
C4烷基羰基
、C1～
C4烷氧基羰基中的任意一种；优选地，
R8为
CH3、CH2C≡CH。
[0020]Q4
中的
R9选自氢
、C1～
C4烷基
、
氰基
C1～
C4烷基
、C2～
C5链烯基
、C3～
C5炔基
、C1～
C4卤代烷基
、C2～
C5卤代链烯基
、C3～
C5卤代炔基
、C1～
C4烷基羰基
、C1～
C4烷氧基羰基中的任意一种；优选地，
R9为
CH3、CHF2、CF3中的任意一种
。
[0021]Q4
中的
R
本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种杂环取代的
N
‑
吡啶基苯并噻唑类化合物，其特征在于，化学结构如式
(I)
所示：式
(I)
中：
Q
为杂环；
R1选自
H、
卤素中的任意一种；
R2选自
H、
卤素中的任意一种；
R3选自卤素
、
烷基
、
卤代烷基
、
烷氧基
、
卤代烷氧基
、NO2中的任意一种；所述杂环
Q
选自
Q1
～
Q4
中的任意一种；所述
Q1
中的
R4选自氢
、
烷基
、
卤代烷基中的任意一种；所述
Q1
中的
R5选自氢
、
烷基
、
卤代烷基
、
链烯基
、
炔基中的任意一种；所述
Q2
中的
R6选自氢
、
烷基
、
卤代烷基
、
氰基烷基中的任意一种；所述
Q2
中的
R7选自氢
、
烷基
、
卤代烷基
、
氰基烷基中的任意一种；所述
Q2
中的
Y
选自
O、S
中的任意一种；所述
Q3
中的
R8选自氢
、
烷基
、
氰基烷基
、
链烯基
、
炔基
、
卤代烷基
、
卤代链烯基
、
卤代炔基
、
烷基羰基
、
烷氧基羰基中的任意一种；所述
Q4
中的
R9选自氢
、
烷基
、
氰基烷基
、
链烯基
、
炔基
、
卤代烷基
、
卤代链烯基
、
卤代炔基
、
烷基羰基
、
烷氧基羰基中的任意一种；所述
Q4
中的
R
10
选自氢
、
烷基
、
卤代烷基
、
链烯基
、
炔基中的任意一种
。2.
根据权利要求1所述的杂环取代的
N
‑
吡啶基苯并噻唑类化合物，其特征在于，所述烷基为
C1～
C4烷基；所述卤代烷基为
C1～
C4卤代烷基；所述烷氧基为
C1～
C4烷氧基；所述卤代烷氧基为
C1～
C4卤代烷氧基；...

【专利技术属性】
技术研发人员：魏少鹏，姬志勤，
申请(专利权)人：西北农林科技大学，
类型：发明
国别省市：