基板处理方法以及基板处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术的课题为抑制基板从批处理部朝单片处理部移动时的基板的损伤

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】基板处理方法以及基板处理装置


[0001]本专利技术所公开的技术为一种基板处理的技术
。
在此，成为处理对象的基板例如包括半导体晶圆
、
液晶显示设备用玻璃基板
、
有机
EL(electrolumine scence
；电致发光
)
显示设备等平面显示器
(FPD
；
flat panel display)
用基板
、
光盘用基板
、
磁盘用基板
、
光磁盘用基板
、
光罩用玻璃基板
、
陶瓷基板
、
场发射显示器
(FED
；
field emission display)
用基板或者太阳电池用基板等
。

技术介绍

[0002]以往已知有一种批次式的处理装置
(
以下亦称为批处理部
)
，使用磷酸蚀刻基板上的氮化硅膜
(
例如参照专利文献
1本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.
一种基板处理方法，使用批处理部以及单片处理部进行基板处理，所述批处理部对复数片基板进行处理，所述单片处理部对一片所述基板进行处理，其中，所述基板处理方法具备：在所述批处理部中使复数片所述基板浸渍于药液的工序；在所述批处理部中以清洗液洗净被浸渍于所述药液后的所述基板的工序；在所述批处理部中以异丙醇置换所述基板上的所述清洗液的至少一部分的工序；使已以所述异丙醇置换所述清洗液后的所述基板移动至所述单片处理部的工序；以及在所述单片处理部中使所述基板干燥的工序
。2.
如权利要求1所记载的基板处理方法，其中，所述异丙醇包括稀释异丙醇
。3.
如权利要求1或2所记载的基板处理方法，其中，以所述异丙醇置换所述基板上的所述清洗液的工序为将喷雾状的所述异丙醇吹附至所述基板的工序
。4.
如权利要求1至3中任一项所记载的基板处理方法，其中，进一步具备：使已以所述异丙醇置换所述清洗液后的所述基板的姿势从铅垂姿势变换成水平姿势的工序
。5.
如权利要求1至4中任一项所记载的基板处理方法，其中，进一步具备：在所述单片处理部中，使所述基板干燥的工序...

【专利技术属性】
技术研发人员：松永恭幸，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：