基板处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种对基板进行处理的基板处理装置，其包括：一并处理多张基板的分批式处理部；处理一张基板的单片式处理部；将通过上述分批式处理部完成了处理的多张基板的姿势变换成水平姿势的姿势变换部；从上述分批式处理部向上述姿势变换部搬送基板的第一搬送部；将通过上述姿势变换部成为水平姿势的基板搬送至上述单片式处理部的第二搬送部；以及在直至通过上述姿势变换部进行姿势变换的期间使多张基板浸渍于纯水中的浸渍槽。多张基板浸渍于纯水中的浸渍槽。多张基板浸渍于纯水中的浸渍槽。

【技术实现步骤摘要】
基板处理装置


[0001]本专利技术涉及对半导体基板、液晶显示用或有机EL(Electroluminescence，电致发光)显示装置等FPD(Flat Panel Display，平板显示器)用基板、光掩模用玻璃基板、光盘用基板等基板进行预定的处理的基板处理装置。

技术介绍

[0002]以往，作为这种装置，有具备分批式模块、单片式模块、以及旋转机构的装置。例如，参照日本国特表2016－502275号公报。分批式模块对多张基板一并进行处理。单片式模块对逐张基板进行处理。一般地，与分批式模块的干燥处理比较，单片式模块的干燥处理中，基板受到影响的处理环境气体的空间较小，颗粒性能高。因此，单片式模块比分批式模块容易提高干燥性能。因此，例如，在分批式模块进行蚀刻处理以及冲洗处理，然后在单片式模块进行干燥处理。
[0003]在分批式模块中，在使多张基板为铅垂姿势的状态下进行处理。另一方面，在单片式模块中，在使基板为水平姿势的状态下进行处理。因此，在分批式模块完成处理的铅垂姿势的基板在被搬送到单片式模块之前，通过旋转机构变换成水平姿势。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基板处理装置，其对基板进行处理，该基板处理装置的特征在于，包括：分批式处理部，其将多张基板以铅垂姿势的状态一并处理；单片式处理部，其将一张基板以水平姿势的状态处理；姿势变换部，其保持通过上述分批式处理部完成了处理的多张基板，且将其从铅垂姿势变换成水平姿势；第一搬送部，其将通过上述分批式处理部完成了处理的多张基板搬送到上述姿势变换部；第二搬送部，其将通过上述姿势变换部成为水平姿势的基板搬送到上述单片式处理部；以及浸渍槽，其容纳通过上述姿势变换部变换姿势的多张基板，并在直至进行姿势变换的期间使多张基板浸渍于纯水中。2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，还具备使上述浸渍槽和成为水平姿势的上述多张基板相对升降的升降机构，在上述第二搬送部接收基板时，仅使上述多张基板中的成为搬送对象的基板以位于离上述浸渍槽的液面靠上方的方式进行移动。3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，上述姿势变换部具备：槽内载体，其使多张基板的面成为与预定的排列方向正交的姿势，并收纳多张基板；以及旋转机构，其使上述槽内载体绕与上述排列方向正交的水平轴在上述浸渍槽内的液面下旋转。4.根据权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，上述升降机构具备升降机，该升降机具备：沿上述浸渍槽的内侧面伸出的背板部；以及设于上述背板部的下端部且沿水平方向伸出并支撑上述槽内载体的支撑部，使上述升降机移动到下沉位置、旋转位置、交接位置以及搬送位置，上述下沉位置是将上述槽内载体整体支撑于上述浸渍槽的液面下的位置，上述旋转位置是比上述下沉位置靠下方且上述支撑部从上述槽内载体的下表面分离的位置，上述交接位置在与上述第一搬送部之间交接基板的位置，上述搬送位置是仅使成为上述搬送对象的基板位于离上述浸渍槽的液面靠上方的位置。5.根据权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，上述旋转机构具备：一对旋转轴，其能够遍及与上述槽内载体中的与上述排列方向正交的侧面连结的连结位置和从上述侧面分离的开放位置移动；以及旋转驱动部，其为了变换上述槽内载体中的多张基板的姿势而旋转驱动位于上述连结位置的上述一对旋转轴。6.根据权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，具备使上述一对旋转轴移动至上述连结位置和上述开放位置的进退驱动机构，在上述进退驱动机构使上述一对旋转轴进入上述连结位置，且使上述升降机移动到上
述旋转位置的状态下，通过上述旋转驱动部变换上述槽内载体中的多张基板的姿势。7.根据权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，上述槽内载体在底面具备开口，上述升降机设于上述支撑部不封闭上述开口的位置，具备推杆，该推杆支撑多张基板的下缘，呈与上述开...

【专利技术属性】
技术研发人员：前川直嗣，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：