一种精馏塔三氯氢硅补充方法技术

本发明专利技术公开了一种精馏塔三氯氢硅补充方法，涉及多晶硅精馏技术领域，包括以下步骤：

【技术实现步骤摘要】
一种精馏塔三氯氢硅补充方法


[0001]本专利技术涉及多晶硅精馏
，更具体地说涉及一种精馏塔三氯氢硅补充方法
。

技术介绍

[0002]三氯氢硅是一种无机化合物，化学式为
SiHCl3。
为无色液体，溶于苯
、
乙醚
、
庚烷等多数有机溶剂，在多晶硅行业中，其主要用于生产半导体硅
、
单晶硅和多晶硅的原料
。
在多晶硅冷氢化停车检修期间以及精馏塔采出不足的时候，需要不断向精馏原料储罐补充三氯氢硅，补充三氯氢硅的作用是保证精馏塔分离产出的精制三氯 氢硅产量，满足还原生产多晶硅的原料需求
。
[0003]现有技术中，使用转料泵将三氯氢硅转料至精馏原料储罐，精馏原料储罐再输送至精馏塔，转料泵由现场操作人员启动，流量由操作人员进行手阀控制，流量控制不平稳并且需要频繁调整，导致转料流量波动的同时影响精馏原料储罐中三氯氢硅的组分含量，进而影响精馏塔操作，使精馏塔控制温度变化较大，轻组分产品从塔釜损失较多，影响塔釜产品的质量，影响塔顶产品的收率...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种精馏塔三氯氢硅补充方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1、
在
DCS
控制系统中设定精馏原料储罐中三氯氢硅需求含量；
S2、DCS
控制系统根据设定的三氯氢硅需求含量
、
精馏原料储罐中补充的氢化液流量
、
精馏原料储罐中补充的系统循环物料流量，生成补料储罐向精馏原料储罐输送的三氯氢硅补充流量；
S3、
将生成的三氯氢硅补充流量，输出给补料储罐和精馏原料储罐之间的流量计Ⅰ的泵出口流量设定值；
S4、DCS
控制系统控制补料储罐和精馏原料储罐之间的流量调节阀Ⅰ动作，调节流量计Ⅰ的值至泵出口流量设定值，将补料储罐内的三氯氢硅精确输送至精馏原料储罐中；
S5、
将精馏原料储罐内的物料输送至精馏塔，经精馏塔精馏后将精馏物料输送至下游工序
。2.
如权利要求1所述的精馏塔三氯氢硅补充方法，其特征在于，所述补料储罐和精馏原料储罐之间的管路上设置有流量计Ⅰ，所述精馏原料储罐还连接有氢化液补充管路和系统循环物料补充管路，所述氢化液补充管路和系统循环物料补充管路上分别设置有流量计Ⅱ和流量计Ⅲ。3.
如权利要求2所述的精馏塔三氯氢硅补充方法，其特征在于，所述
S2
步骤中，精馏原料储罐中三氯氢硅的含量为：其中，
TCS
为三氯氢硅
。4.
如权利要求3所述的精馏塔三氯氢硅补充方法，其特征在于，所述
S2
步骤中，流量计Ⅰ的流量即为补料储罐向精馏原料储罐输送的三氯氢硅补充流量，所述流量计Ⅰ的流量：其中，
TCS
为三氯氢硅
。5.
如权利要求1所述的精馏塔三氯氢硅补充方法，其特征在于，所述
S2
步骤中，生成三氯氢硅补充流量后，利用滤波模块将生成的三氯氢硅补充流量做平滑滤波处理
。6.
...

【专利技术属性】
技术研发人员：王峰，明勇，杨定勇，唐勇，蒲易君，冯波，谭林枫，龚悦，
申请(专利权)人：四川永祥新能源有限公司，
类型：发明
国别省市：