【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于制冷剂泄漏检测的传感器组件
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于
2022
年4月
11
日提交的美国申请第
17/717,455
号和于
2021
年4月
26
日提交的美国临时申请第
63/179,820
号的权益和优先权
。
以上申请的全部公开内容通过引用并入本文
。
[0003]所附权利要求中阐述的本专利技术总体上涉及空气调节系统,并且更特别地涉及但不限于空气调节系统中使用的泄漏检测系统和传感器
。
技术介绍
[0004]在常规空气调节和制冷系统的热泵和制冷循环中,烃基制冷剂已经被用作工作流体
。
在
20
世纪,诸如氯氟烃
(CFC)、
氢氯氟烃
(HCFC)
和氢氟烃
(HFC)
的碳氟化合物由于其有利的热力学性质
、
其不可燃性和其无毒性而在空气调节和制冷系统中变得普遍
。
然而,尽管许多
CFC
和
HCFC
的惰性性质使得它们多年来成为空气调节和制冷系统中的制冷剂的优选选择,但是同样的惰性性质有助于它们在大气中的长生命周期
。
在
20
世纪
80
年代早期在极地区域的平流层中发现臭氧洞之后,空气调节和制冷系统采用不消耗臭氧的氢氟烃
(H ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.
一种制冷剂传感器组件,包括:主体,所述主体包括外部表面;凹入部分,所述凹入部分形成在所述主体中并且包括所述外部表面;封闭的聚集空间,所述封闭的聚集空间位于所述凹入部分的下方;开口,所述开口通过所述凹入部分形成并且使所述凹入部分与所述聚集空间邻接;以及制冷剂传感器,所述制冷剂传感器设置在所述聚集空间中
。2.
根据权利要求1所述的制冷剂传感器组件,其中,所述凹入部分包括弯曲的
、
大致凸起的形状,所述凹入部分具有面向上的开口端和与所述面向上的开口端相对定位的底部
。3.
根据权利要求2所述的制冷剂传感器组件,其中,所述凹入部分包括大致半球形形状
。4.
根据权利要求2所述的制冷剂传感器组件,其中,所述凹入部分包括碗形状
。5.
根据权利要求2所述的制冷剂传感器组件,其中,所述凹入部分包括第一容积;并且所述聚集空间包括小于所述凹入部分的第一容积的第二容积
。6.
根据权利要求5所述的制冷剂传感器组件,其中,所述聚集空间包括与所述开口相对的底部;并且其中,所述制冷剂传感器设置在所述聚集空间的底部处
。7.
一种制冷机单元,包括:冷藏隔室,所述冷藏隔室包括顶壁
、
底壁和多个侧壁;以及根据权利要求6所述的制冷剂传感器组件,所述制冷剂传感器组件设置在所...
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