一种可高效过滤抛光液的双面晶片抛光机制造技术

本发明专利技术公开了一种可高效过滤抛光液的双面晶片抛光机，包括箱体

【技术实现步骤摘要】
一种可高效过滤抛光液的双面晶片抛光机


[0001]本专利技术涉及晶片双面抛光
，具体涉及一种可高效过滤抛光液的双面晶片抛光机
。

技术介绍

[0002]随着光电子信息技术的不断发展，对作为光电子器件基片材料的单晶硅
、
蓝宝石等光电子晶片的表面粗糙度
、TTV
等指标的要求越来越高，在对晶片的多道加工工序过程中抛光尤为重要，而双面抛光机的抛光加工作为晶片超光滑表面加工最有效的技术手段之一
。
[0003]申请号为
CN201810996937.7
的中国专利提供了一种双面抛光机与抛光方法
。
该双面抛光机包括机架
、
上抛光盘
、
下抛光盘
、
中心齿轮
、
外齿轮和驱动组件，上抛光盘
、
下抛光盘
、
中心齿轮
、
外齿轮分别独立地设置于机架上，中心齿轮设置于外齿轮的中心位置处，中心齿轮与外齿轮之间具有容纳空间，用于啮合放置晶片的游星轮，容纳空间位于上抛光盘与下抛光盘之间，驱动组件包括：第一驱动装置，设置于机架上并与上抛光盘连接，用于驱动上抛光盘转动；第二驱动装置，设置于机架上并与下抛光盘连接，用于驱动下抛光盘与上抛光盘同向转动；第三驱动装置，设置于机架上并与中心齿轮连接，用于驱动中心齿轮转动；第四驱动装置，设置于机架上并与外齿轮连接，用于驱动外齿轮转动
。
[0004]晶片双面抛光机在抛光一段时间后，循环使用的抛光液会存在大量杂质，会堵塞过滤系统以及过滤不佳，导致杂质混在抛光液中对正在抛光温度晶片造成影响，导致晶片破损或者晶片抛光不平，同时无法对处理后的抛光液循环前的温度调整
。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的在于提供一种可高效过滤抛光液的双面晶片抛光机，可用于提高过滤效率以及效果，并且采用了分次过滤方式提高过滤的效果，还可起到对处理后的抛光液进行温度控制，同时还可提高了所需过滤的效率，以解决上述
技术介绍
中提出的问题
。
[0006]为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：一种可高效过滤抛光液的双面晶片抛光机，包括箱体
、
收集机构
、
吸附机构
、
安装框
、
防护机构
、
驱动机构
、
调节机构
、
顶磨机构和下磨盘以及加热机构，所述箱体内腔的下方设置有对废液集液输送的收集机构，所述箱体内腔底部的一端设置有对废液双级过滤的吸附机构，所述安装框贯穿安装于箱体顶部的一端，所述防护机构设置于安装框的上方，所述驱动机构设置于安装框的下方，所述调节机构设置于箱体的顶部，所述顶磨机构设置于调节机构底部的一端，所述下磨盘设置于驱动机构的内部，所述箱体顶部的另一端设置有对循环使用抛光液预热的加热机构
。
[0007]优选的，所述收集机构包括收集斗
、
连接管
、
压力筒
、
第一电动推杆
、
活塞
、
滤芯
、
泵机
、
软管和排液管；
[0008]所述收集斗栓接于安装框的底端，所述连接管分别连通于收集斗内腔的底部，所述压力筒连通于连接管的排液端，所述第一电动推杆安装于压力筒的顶端，所述活塞栓接
于第一电动推杆的输出端，所述活塞位于压力筒内腔的上部，所述泵机栓接于箱体内腔的底部，所述软管连通于泵机的排液端，所述泵机的进液端通过管道与滤芯的底端法兰连接，所述滤芯法兰连通于压力筒的底端，所述排液管连通于软管的排液端
。
[0009]优选的，所述吸附机构包括存液箱
、
放置板
、
凹槽
、
凸块
、
过滤膜和过滤网；
[0010]所述存液箱放置于箱体内腔底部的一端，所述放置板安装于存液箱内腔的上部，所述凹槽分别开设于放置板顶部的四周，所述凸块插于凹槽的内部，所述过滤膜栓接于凸块的顶端，所述过滤网栓接于过滤膜的顶部，所述排液管位于存液箱内腔的上方；
[0011]所述加热机构包括加热盒
、
加热管
、
可控硅温度控制器
、
出液软管和输送管，所述加热盒安装于箱体顶部的另一端，所述加热管安装于加热盒内腔的中部，所述加热管位于加热盒内的输送管外侧，所述可控硅温度控制器贯穿安装于加热盒一侧的上部，所述输送管通过水泵连通于存液箱内腔一侧的下部，所述软管连通于输送管的排液端，所述出液软管的另一端与注液管的顶端连通
。
[0012]优选的，所述防护机构包括滑槽
、
滑块和挡圈，所述滑槽分别开设于安装框内壁的两侧，所述滑块滑动连接于滑槽的内部，所述挡圈安装于滑块的内侧
。
[0013]优选的，所述驱动机构包括电机
、
第一齿轮
、
传动柱
、
第二齿轮
、
第一齿圈和第二齿圈；
[0014]所述电机栓接于箱体内腔底部的另一端，所述第一齿轮键连接于电机的输出轴，所述第二齿轮啮合于第一齿轮的一侧，所述传动柱贯穿安装于第二齿轮的内壁，所述传动柱与箱体内腔的底部转动连接，所述传动柱的顶端开设有锥形槽；所述第一齿圈焊接于传动柱表面的上部，所述第二齿圈安装于安装框内腔的底部，所述下磨盘栓接于第二齿圈内腔的底部
。
[0015]优选的，所述调节机构包括支撑组件和推拉组件，所述支撑组件设置于箱体的顶部，所述推拉组件设置于箱体的顶部
[0016]优选的，所述支撑组件包括支柱
、
横板
、
注液管和第二电动推杆，所述支柱转动连接于箱体的顶部，所述横板安装于支柱的顶端，所述第二电动推杆安装于横板顶部一端，所述注液管贯穿安装于横板顶部一端，所述注液管位于第二电动推杆的一侧，所述注液管与出液软管相连通
。
[0017]优选的，所述推拉组件包括第三电动推杆
、
连接块
、
连接板和连接槽，所述连接板焊接于支柱表面的上部，所述连接槽开设于连接板的顶部，所述连接块滑动连接于连接槽的内部，所述第三电动推杆的输出端与连接块的顶部转动连接，所述第三电动推杆栓接于箱体顶部的另一端；所述箱体背面的端部安装有限位板，所述限位板位于连接板的背面
。
[0018]优选的，所述顶磨机构包括磨料组件和送液组件，所述磨料组件设置于第二电动推杆的输出端，所述送液组件设置于磨料组件的外侧
[0019]优选的，所述磨料组件包括连接杆
、
连接盘和上磨盘，所述连接杆栓接于第二电动推杆的输出端，所述连接盘转动连接于连接杆的底端，所述上磨盘栓接于连接盘的底端；所述连接盘的底部中间端安装有锥形块；
[0020]所述送液组件包括本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种可高效过滤抛光液的双面晶片抛光机，其特征在于：包括箱体
(1)、
收集机构
(2)、
吸附机构
(3)、
安装框
(4)、
防护机构
(5)、
驱动机构
(6)、
调节机构
(7)、
顶磨机构
(8)
和下磨盘
(9)
以及加热机构
(10)
，所述箱体
(1)
内腔的下方设置有对废液集液输送的收集机构
(2)
，所述箱体
(1)
内腔底部的一端设置有对废液双级过滤的吸附机构
(3)
，所述安装框
(4)
贯穿安装于箱体
(1)
顶部的一端，所述防护机构
(5)
设置于安装框
(4)
的上方，所述驱动机构
(6)
设置于安装框
(4)
的下方，所述调节机构
(7)
设置于箱体
(1)
的顶部，所述顶磨机构
(8)
设置于调节机构
(7)
底部的一端，所述下磨盘
(9)
设置于驱动机构
(6)
的内部，所述箱体
(1)
顶部的另一端设置有对循环使用抛光液预热的加热机构
(10)。2.
根据权利要求1所述的一种可高效过滤抛光液的双面晶片抛光机，其特征在于：所述收集机构
(2)
包括收集斗
(21)、
连接管
(22)、
压力筒
(23)、
第一电动推杆
(24)、
活塞
(25)、
滤芯
(26)、
泵机
(27)、
软管
(28)
和排液管
(29)
；所述收集斗
(21)
栓接于安装框
(4)
的底端，所述连接管
(22)
分别连通于收集斗
(21)
内腔的底部，所述压力筒
(23)
连通于连接管
(22)
的排液端，所述第一电动推杆
(24)
安装于压力筒
(23)
的顶端，所述活塞
(25)
栓接于第一电动推杆
(24)
的输出端，所述活塞
(25)
位于压力筒
(23)
内腔的上部，所述泵机
(27)
栓接于箱体
(1)
内腔的底部，所述软管
(28)
连通于泵机
(27)
的排液端，所述泵机
(27)
的进液端通过管道与滤芯
(26)
的底端法兰连接，所述滤芯
(26)
法兰连通于压力筒
(23)
的底端，所述排液管
(29)
连通于软管
(28)
的排液端
。3.
根据权利要求2所述的一种可高效过滤抛光液的双面晶片抛光机，其特征在于：所述吸附机构
(3)
包括存液箱
(31)、
放置板
(32)、
凹槽
(33)、
凸块
(34)、
过滤膜
(35)
和过滤网
(36)
；所述存液箱
(31)
放置于箱体
(1)
内腔底部的一端，所述放置板
(32)
安装于存液箱
(31)
内腔的上部，所述凹槽
(33)
分别开设于放置板
(32)
顶部的四周，所述凸块
(34)
插于凹槽
(33)
的内部，所述过滤膜
(35)
栓接于凸块
(34)
的顶端，所述过滤网
(36)
栓接于过滤膜
(35)
的顶部，所述排液管
(29)
位于存液箱
(31)
内腔的上方；所述加热机构
(10)
包括加热盒
(101)、
加热管
(102)、
可控硅温度控制器
(103)、
出液软管
(104)
和输送管
(105)
，所述加热盒
(101)
安装于箱体
(1)
顶部的另一端，所述加热管
(102)
安装于加热盒
(101)
内腔的中部，所述加热管
(102)
位于加热盒
(101)
内的输送管
(105)
外侧，所述可控硅温度控制器
(103)
贯穿安装于加热盒
(101)
一侧的上部，所述输送管
(105)
通过水泵连通于存液箱
(31)
内腔一侧的下部，所述出液软管
(104)
连通于输送管
(105)
的排液端
。4.
根据权利要求1所述的一种可高效过滤抛光液的双面晶片抛光机，其特征在于：...

【专利技术属性】
技术研发人员：奂微微，郭军，顾德进，刘媛，杨锋，
申请(专利权)人：湖北五方晶体有限公司，
类型：发明
国别省市：