衬底处理方法及处理液技术

本发明专利技术涉及一种衬底处理方法及处理液

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】衬底处理方法及处理液


[0001]本专利技术涉及一种处理衬底的衬底处理方法及用于衬底的干燥的处理液
。
衬底例如为半导体晶圆
、
液晶显示器用衬底
、
有机
EL(Electroluminescence
，电致发光
)
用衬底
、FPD(Flat Panel Display
，平板显示器
)
用衬底
、
光显示器用衬底
、
磁盘用衬底
、
光盘用衬底
、
磁光盘用衬底
、
光罩用衬底
、
太阳电池用衬底
。

技术介绍

[0002]专利文献1揭示了处理衬底的衬底处理方法
。
衬底具备形成有图案的图案形成区域
。
在图案形成区域形成固化膜
。
固化膜包含升华性物质
。
升华性物质例如为第三丁醇
。
固化膜包含第1部分与第2部分
。
第1部分及第2部分均位于图案形成区域上
。
第1部分位于图案的上方
。
第1部分相当于固化膜的表层部
。
第2部分位于第1部分的下方
。
第2部分位于与图案相同的高度位置
。
第2部分嵌入至相邻的图案彼此之间
。
第2部分嵌入至相邻的凸部彼此之间
。
[0003]专利文献1的衬底干燥方法包含第1升华步骤与第2升华步骤
。
第1升华步骤向固化膜供给第1气体，使第1部分升华
。
在第1升华步骤结束时，第1部分被从图案形成区域去除，而第2部分残留于图案形成区域
。
在第1升华步骤之后，第2升华步骤向第2部分供给第2气体，使第2部分升华
。
第2气体具有较第1气体的温度低的温度
。
在第2升华步骤结束时，第2部分被从图案形成区域去除
。
因此，在第2升华步骤结束时，固化膜全部被从衬底去除，衬底得到干燥
。
[0004]专利文献1还包含衬底加热步骤
。
在第1升华步骤及第2升华步骤结束后，执行衬底加热步骤
。
即，在固化膜全部升华后，执行衬底加热步骤
。
衬底加热步骤向衬底供给第3气体来加热衬底
。
由此，抑制衬底周围的气体结露于衬底
。
从而衬底周围的气体不易结露于衬底上
。
[0005]如上所述，在专利文献1中，第1升华步骤及第2升华步骤是用来使图案形成区域上的固化膜升华的步骤
。
而衬底加热步骤并非用来使固化膜升华的步骤
。
[0006]先前技术文献
[0007]专利文献
[0008]专利文献1：日本专利特开
2014
‑
11426
公报

技术实现思路

[0009][
专利技术要解决的问题
][0010]在以往的衬底处理方法中，也存在无法效率良好地处理衬底的情况
。
例如，在以往的衬底处理方法中，也存在固化膜难以迅速地升华的情况
。
例如，在以往的衬底处理方法中，也存在使固化膜升华需要较长时间的情况
。
[0011]进而，在以往的衬底处理方法中，也存在无法得当地处理衬底的情况
。
例如，在以往的衬底处理方法中，也存在形成于衬底表面的图案倒坏的情况
。
例如，图案微细时，存在
以往的衬底处理方法无法充分地抑制图案的倒坏的情况
。
[0012]本专利技术是鉴于所述情况而完成的，其第1目的在于，提供一种能效率良好地处理衬底的衬底处理方法
。
另外，本专利技术的第2目的在于，提供一种能得当地处理衬底的衬底处理方法及处理液
。
[0013][
解决问题的技术手段
][0014]本专利技术为了达成第1目的，采取如下构成
。
即，本专利技术是一种衬底处理方法，其处理衬底，衬底具有上表面，所述上表面包含形成有图案的图案形成区域
、
及未形成所述图案的非图案形成区域；所述衬底处理方法包含：处理液供给步骤，是向衬底的所述上表面供给包含升华性物质与溶剂的处理液，在衬底的所述上表面上形成所述处理液的液膜；固化膜形成步骤，是使所述溶剂从所述液膜蒸发，在衬底的所述上表面上形成固化膜，所述固化膜包含所述升华性物质，且具有位于所述图案形成区域上的第1固化膜
、
及位于所述非图案形成区域上的第2固化膜；升华步骤，是朝向所述第1固化膜吹出第1气体，使所述第1固化膜升华；及去除步骤，是从衬底去除所述第2固化膜
。
[0015]衬底具有上表面
。
上表面包含图案形成区域与非图案形成区域
。
图案形成区域是形成有图案的衬底的上表面的部分
。
非图案形成区域是未形成图案的衬底的上表面的部分
。
[0016]衬底处理方法处理所述衬底
。
衬底处理方法包含处理液供给步骤与固化膜形成步骤
。
处理液供给步骤向衬底供给处理液
。
处理液包含升华性物质与溶剂
。
处理液供给步骤在衬底的上表面上形成处理液的液膜
。
固化膜形成步骤使溶剂从液膜蒸发
。
固化膜形成步骤在衬底的上表面上形成固化膜
。
固化膜包含升华性物质
。
固化膜具有第1固化膜与第2固化膜
。
第1固化膜位于图案形成区域上
。
第2固化膜位于非图案形成区域上
。
[0017]衬底处理方法包含升华步骤
。
升华步骤朝向第1固化膜吹出第1气体
。
升华步骤使第1固化膜升华
。
通过第1固化膜升华，第1固化膜从图案形成区域脱离
。
由此，升华步骤既保护了形成于图案形成区域的图案，又使图案形成区域干燥
。
[0018]衬底处理方法包含去除步骤
。
去除步骤从衬底去除第2固化膜
。
由此，去除步骤使非图案形成区域干燥
。
[0019]这里，第2固化膜位于非图案形成区域上
。
即，第2固化膜不位于图案形成区域上
。
因此，即便促进第2固化膜的去除，也无使图案倒坏的风险
。
由此，去除步骤能从衬底效率良好地去除第2固化膜
。
[0020]总而言之，衬底处理方法除了升华步骤以外，还包含去除步骤
。
升华步骤使第1固化膜升华
。
去除步骤将第2固化膜去除
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.
一种衬底处理方法，其处理衬底，衬底具有上表面，所述上表面包含形成有图案的图案形成区域
、
及未形成所述图案的非图案形成区域；所述衬底处理方法包含：处理液供给步骤，是向衬底的所述上表面供给包含升华性物质与溶剂的处理液，在衬底的所述上表面上形成所述处理液的液膜；固化膜形成步骤，是使所述溶剂从所述液膜蒸发，在衬底的所述上表面上形成固化膜，所述固化膜包含所述升华性物质，且具有位于所述图案形成区域上的第1固化膜
、
及位于所述非图案形成区域上的第2固化膜；升华步骤，是朝向所述第1固化膜吹出第1气体，使所述第1固化膜升华；及去除步骤，是从衬底去除所述第2固化膜
。2.
根据权利要求1所述的衬底处理方法，其中在所述升华步骤结束后，所述去除步骤开始
。3.
根据权利要求1所述的衬底处理方法，其中执行所述去除步骤的期间与执行所述升华步骤的期间的至少一部分重叠
。4.
根据权利要求3所述的衬底处理方法，其中在所述升华步骤开始后，所述去除步骤开始
。5.
根据权利要求1所述的衬底处理方法，其中所述去除步骤是将所述第2固化膜变成气相
。6.
根据权利要求1所述的衬底处理方法，其中所述去除步骤是朝向所述第2固化膜吹出第2气体
。7.
根据权利要求6所述的衬底处理方法，其中所述第2气体的流量大于所述第1气体的流量
。8.
根据权利要求6所述的衬底处理方法，其中所述去除步骤是通过所述第2气体加热所述第2固化膜
。9.
根据权利要求6所述的衬底处理方法，其中所述第2气体具有较所述第1气体的温度高的温度
。10.
根据权利要求6所述的衬底处理方法，其中所述第2气体具有高于所述升华性物质的熔点的温度
。11.
根据权利要求1所述的衬底处理方法，其中所述去除步骤是加热所述第2固化膜
。12.
根据权利要求
11
...

【专利技术属性】
技术研发人员：佐佐木悠太，塙洋祐，国枝省吾，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：