【技术实现步骤摘要】
多层复合屏蔽罩结构真空灭弧室及真空断路器
[0001]本专利技术属于真空绝缘
，具体涉及一种多层复合屏蔽罩结构真空灭弧室及真空断路器
。
技术介绍
[0002]目前，中国电力系统处于高度发展阶段，真空作为绝缘和灭弧介质具有绝缘性能优良
、
开断能力强的特点，且不会产生环境污染
。
真空断路器体积小
、
重量轻
、
结构简单
、
使用寿命长，适合频繁操作和快速开断，因此，真空断路器得到了广泛应用
。
[0003]真空断路器有很多优势，熄弧过程在密封的真空容器中完成，电弧和炽热气体不会向外界喷溅，不会污染周围环境
。
真空的绝缘强度高，熄弧能力强，触头的行程短，一般均在几个厘米以内，因此操作功率小，整个断路器体积小
、
重量轻，使得真空断路器在箱式变电站
、
开关柜等装置中成为首选
。
熄弧时间短，电弧电压低，电弧能量小，触头的电磨损小，因而分断次数多，电寿...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.
一种多层复合屏蔽罩结构真空灭弧室，其特征在于：包括多个彼此独立
、
间隔设置在真空灭弧室内不同位置的复合屏蔽罩结构，分别实现灭弧室不同部位的电容施加，形成多级电容分布
。2.
根据权利要求1所述的一种多层复合屏蔽罩结构真空灭弧室，其特征在于：包括真空灭弧室瓷壳结构
(206)、
动侧触头结构
(205)
和静侧触头结构
(204)
，连接静侧触头结构
(204)
的静端导电杆
(202)
，设置在静端导电杆
(202)
外端部的静端端部盖板
(201)
和复合静侧端部屏蔽罩结构
(301)
，设置在静端导电杆
(202)
中部的复合静侧连接屏蔽罩结构
(302)
；连接动侧触头结构
(205)
的动端导电杆
(207)、
设置在动端导电杆
(207)
外端部的动端端部盖板
(208)
和复合动侧端部屏蔽罩结构
(310)
，设置在动端导电杆
(207)
中部的复合动侧连接屏蔽罩结构
(308)
；设置在静侧触头结构
(204)
和动侧触头结构
(205)
外部的复合中央主屏蔽罩结构
(307)。3.
根据权利要求1所述的一种多层复合屏蔽罩结构真空灭弧室，其特征在于：所述复合中央主屏蔽罩结构
(307)
包括内侧中央屏蔽罩
(306)、
中央陶瓷介质填充层
(304)、
中央叠加金属层
(305)
和外侧中央主屏蔽罩
(303)
；复合中央主屏蔽罩结构
(307)
在内侧中央屏蔽罩
(306)
和外侧中央主屏蔽罩
(303)
的基础上，在内侧中央屏蔽罩
(306)
和外侧中央屏蔽罩
(303)
之间间隔设置一层或多层中央叠加金属层
(305)
和中央陶瓷介质填充层
(304)
，实现电容的施加，其中，在相邻层的中央叠加金属层
(305)
之间均设置有中央陶瓷介质填充层
(304)
，在内侧中央屏蔽罩
(306)
和外侧中央主屏蔽罩
(303)
与中央叠加金属层
(305)
之间设置有中央陶瓷介质填充层
(304)。4.
根据权利要求1所述的一种多层复合屏蔽罩结构真空灭弧室，其特征在于：所述复合静侧连接屏蔽罩结构
(302)
包括静端内侧连接屏蔽罩
(313)、
静侧陶瓷介质填充层
(312)、
静侧叠加金属层
(311)
和静侧外侧连接屏蔽罩
(317)
；复合静侧连接屏蔽罩结构
(302)
中的静侧内侧连接屏蔽罩
(313)
和静侧外侧连接屏蔽罩
(317)
，用于连接屏蔽罩的绝缘和屏蔽功能；在此基础上，在静侧内侧连接屏蔽罩
(313)
和静侧外侧连接屏蔽罩
(317)
之间间隔设置一层或多层静侧叠加金属层
(311)
和静侧陶瓷介质填充层
(312)
，实现电容的施加，其中，在相邻层的静侧叠加金属层
(311)
之间均设置有静侧陶瓷介质填充层
(312)
，在静侧内侧连接屏蔽罩
(313)
和静侧外侧连接屏蔽罩
(317)
与静侧叠加金属层
(311)
之间设置有静侧陶瓷介质填充层
(312)。5.
根据权利要求1所述的一种多层复合...
【专利技术属性】
技术研发人员：马慧，周天嘉，李元钊，刘志远，耿英三，赵科，李洪涛，肖焓艳，
申请(专利权)人：国网江苏省电力有限公司电力科学研究院，
类型：发明
国别省市：
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