【技术实现步骤摘要】
一种青蒿素纳米乳剂及其制备方法和应用
[0001]本专利技术涉及药物
,尤其涉及一种青蒿素纳米乳剂及其制备方法和应用
。
技术介绍
[0002]光敏性皮肤病
(Photosensitive skindisease)
是多种因素
(
遗传因素
、
环境因素
、
职业与性别因素
、
食物与药物因素等
)
导致的免疫功能失调的慢性顽固性皮肤疾病,以曝光部位出现红斑
、
丘疹
、
灼热瘙痒,常伴有烧灼
、
刺痛
、
瘙痒为特征,临床上涵盖日晒伤
、
痤疮
、
日光性荨麻疹
、
红斑狼疮
、
光化性痒疹以及多形性日光疹等
。
光敏性皮肤病的发病率逐年上升,主要是由于环境污染的加剧,光过敏体质使用了带有致敏物的化妆品
、
面膜等物品,使曝光部位的皮肤屏障功能受到严重损伤,对紫外线耐受性降低,加重皮肤损害
。
随着可见光
、
长波紫外线
(ultravioletA,UVA)、
中波紫外线
(ultravioletB,UVB)
的剂量在表皮或真皮的累积,表皮细胞可出现萎缩
、
坏死,甚至诱发皮肤肿瘤
。
由于本病好发于暴露部位,严重影响了患者的生活质量和精神心理健康,甚至出 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.
一种青蒿素纳米乳剂,其特征在于,由包括如下重量份数的组分制备得到:
20
‑
100
份油相
、40
‑
160
份乳化剂
、40
‑
160
份助乳化剂
、1
‑5份青蒿素
。2.
根据权利要求1所述的青蒿素纳米乳剂,其特征在于,所述油相包括辛癸酸甘油酯
、
油酸乙酯和橄榄油中的一种或几种;所述乳化剂包括蓖麻油聚烃氧酯
RH40、
司盘
80
和司盘
20
中的一种或几种;所述助乳化剂包括聚乙二醇
400、
丙二醇和聚甘油油酸酯中的一种或几种
。3.
根据权利要求1所述的青蒿素纳米乳剂,其特征在于,所述油相
、
乳化剂与助乳化剂质量比为
2:(3
‑
7):(3
‑
7)。4.
根据权利要求1所述的青蒿素纳米乳剂,其特征在于,所述青蒿素在青蒿素纳米乳...
【专利技术属性】
技术研发人员:赵一丁,卢亮,宗时宇,刘洋,杨晓宇,方琳,徐蕊瑶,
申请(专利权)人:陕西省中医医院,
类型:发明
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。