一种分子束外延系统取片装置及方法制造方法及图纸

本发明专利技术提出了一种分子束外延系统取片装置及方法，该分子束外延系统取片装置包括

【技术实现步骤摘要】
一种分子束外延系统取片装置及方法


[0001]本专利技术涉及分子束外延
(MBE)

，尤其涉及一种分子束外延系统取片装置及方法
。

技术介绍

[0002]MBE
技术是一种高级材料生长方法，可以实现多种超精细结构的生长，并能在线控制生长过程
。
在高端红外探测器材料的制备中，
MBE
技术被广泛应用，对满足红外探测器的高分辨率
、
多波段和高灵敏度的性能要求具有重要意义
。
[0003]MBE
系统通过各种泵和液氮冷屏来维持内部的高真空状态
。
源炉部分装入高纯度的原材料，通过加热产生分子束，然后定向运动到具有一定温度的衬底表面
。
分子束在衬底上沉积，并发生一系列物理化学反应，从而生长出外延薄膜材料
。
整个外延过程在超高真空环境下进行，这样可以防止材料氧化，并保证表面的洁净度
。
[0004]然而，传统的碲镉汞薄膜样品取片过程存在一些问题
。
首先，样本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种分子束外延系统取片装置，其特征在于，包括
Load Lock
和用于为加载或卸载样品提供操作空间的内部取片盒，所述内部取片盒顶部可选择地进行密封，所述内部取片盒顶部设置有甩胶装置，所述
Load Lock
和所述内部取片盒保持在真空条件下进行样品的光刻胶涂覆
。2.
根据权利要求1所述的分子束外延系统取片装置，其特征在于，以密封连接方式设置在所述内部取片盒顶部的为可开合的盖体，所述
Load Lock
和所述内部取片盒进行光刻胶涂覆所保持的真空条件由所述
Load Lock
的抽真空装置来提供
。3.
根据权利要求2所述的分子束外延系统取片装置，其特征在于，所述
Load Lock
和所述内部取片盒保持在真空条件下进行样品的光刻胶涂覆是通过下述方式来实现的：在所述内部取片盒内设置有用于拿取样品的取样装置，所述取样装置连接有用于将样品正面对准甩胶装置的翻转装置
。4.
根据权利要求3所述的分子束外延系统取片装置，其特征在于，所述翻转装置包括水平设置在所述内部取片盒的水平旋杆，所述水平旋杆端部设置有能够沿其轴心旋转动力装置；所述水平旋杆中部连接有可伸缩旋杆；所述可伸缩旋杆远离水平旋杆的...

【专利技术属性】
技术研发人员：周睿，李震，王丹，邢伟荣，折伟林，
申请(专利权)人：中国电子科技集团公司第十一研究所，
类型：发明
国别省市：