一种电镀金属Ｇａ和Ｇａ合金的溶液体系及其制备方法技术

一种电镀金属Ｇａ和Ｇａ合金的溶液体系，由金属盐、导电盐、络合剂、有机酸、有机添加剂和溶剂水组成，各组份在溶液体系中的含量为：金属盐（０．０５～０．５）ｍｏｌ／Ｌ、导电盐（１．０～４．０）ｍｏｌ／Ｌ、络合剂（０．１～０．８）ｍｏｌ／Ｌ、有机酸（０．５～３．０）ｍｏｌ／Ｌ、有机添加剂（４～２０）ｇ／Ｌ；该溶液体系用饱和浓度的碱性溶液调节ｐＨ值为１～６的范围内。本发明专利技术的优点是：该溶液体系具有良好的覆盖能力和分散能力、使用寿命长，制备的Ｇａ薄膜光亮、均匀、无缺陷，金属薄膜的厚度和成份可通过控制沉积条件任意改变；且制备方法简单实用、设备投资小、成本低，适合于大规模产业化应用。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种电镀金属Ｇａ和Ｇａ合金的溶液体系，其特征在于：由金属盐、导电盐、络合剂、有机酸、有机添加剂和溶剂水组成，各组份在溶液体系中的含量为：金属盐（０．０５～０．５）ｍｏｌ／Ｌ、导电盐（１．０～４．０）ｍｏｌ／Ｌ、络合剂（０．１～０．８）ｍｏｌ／Ｌ、有机酸（０．５～３．０）ｍｏｌ／Ｌ、有机添加剂（４～２０）ｇ／Ｌ；该溶液体系用饱和浓度的碱性溶液调节ｐＨ值为１～６的范围内。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：敖建平，张超，孙顶，孙国忠，何青，周志强，
申请(专利权)人：南开大学，
类型：发明
国别省市：12[中国|天津]