一种低辐射强度制造技术

技术编号:39721158 阅读:8 留言:0更新日期:2023-12-17 23:27
本发明专利技术提供了一种低辐射强度

【技术实现步骤摘要】
一种低辐射强度、高力学强度的聚氨酯涂层、其制备方法及应用


[0001]本专利技术属于有机涂层
,尤其涉及一种低辐射强度

高力学强度的聚氨酯涂层

其制备方法及应用


技术介绍

[0002]战机座舱盖主要由聚甲基丙烯酸甲酯
(PMMA)
或聚碳酸酯
(PC)
材料制成,在8~
14
μ
m
的大气窗口波段内存在较高热辐射强度,随着探测技术的不断发展,极易被探测设备所捕捉,影响战机安全

目前普遍采用在座舱盖表面溅射
ITO
等半导体膜层的方式,来降低辐射强度

但受制于座舱盖基材较差的耐磨性能,在复杂的飞行环境中,如沙漠,戈壁等风沙地区,半导体膜层极易受到侵蚀磨损,导致座舱盖雾度增加,辐射强度升高,威胁飞行安全

需要在其上涂覆涂层进行保护,而常规涂层辐射强度高,无法满足使用需求

[0003]聚氨酯弹性体是一种分子主链含有氨酯
(

NH

COO

)
基特征基团的嵌段共聚物,由作为软段的低聚物多元醇和作为硬段的多异氰酸酯与扩链剂通过化学反应交替连接而构成

特殊的微相分离和软硬两相结构,赋予了聚氨酯弹性体模量可灵活调节的优异性质
。20
世纪
50
年代后这种材料被应用于民用和军用飞机的座舱盖,风挡等部位

[0004]现有的低辐射强度聚氨酯涂层的力学性能都很难达到要求,而满足物理力学性能要求的成膜物质其辐射强度偏高

如在方案
CN102732145A

CN114773975A
中均采用添加填料和改变涂层工艺的方法来获得较低辐射率涂层,但该方法难以应用到光学级聚氨酯涂层中

因此,开发出一种在保证低辐射强度的同时保持高力学强度的聚氨酯透明涂料是十分必要的


技术实现思路

[0005]本专利技术的目的在于提供一种低辐射强度

高力学强度的聚氨酯涂层

其制备方法及应用,本专利技术中的聚氨酯涂层能够在保证低辐射强度
(8

14um
波段内
)
的同时,有效提高涂层的力学性能,同时兼备高透光性和较强的附着力

[0006]本专利技术提供一种低辐射强度

高力学强度的聚氨酯涂层,包括以下重量份数的制备原料:
[0007]聚多元醇
16

20
重量份

交联剂
0.5
~2重量份

异氰酸酯6~8重量份

流平剂
0.1

0.2
重量份

润湿剂
0.05

0.2
重量份

抗氧化剂
0.2

0.4
重量份

紫外助剂
0.3

0.4
重量份

光稳定剂
0.3

0.4
重量份

爽滑剂
0.1

0.15
重量份

催化剂
0.01

0.03
重量份

溶剂
70

75
重量份;
[0008]所述交联剂由环氧环己烷与异丙醇胺反应得到

[0009]优选的,所述环氧环己烷的重量份数为
70

75
份,异丙醇胺的重量份数为
25

30


[0010]优选的,所述环氧环己烷与异丙醇胺反应的温度为
135

150℃
;反应的时间为6~
8
小时

[0011]优选的,所述聚多元醇为聚烯烃多元醇;所述聚多元醇的分子量为
1000

3000g/mol。
[0012]优选的,所述异氰酸酯为
4,4'

二环己基甲烷二异氰酸酯

六亚甲基二异氰酸酯三聚体,异佛尔酮二异氰酸酯三聚体中的一种或几种

[0013]优选的,所述流平剂为短链氟碳改性聚合物流平剂

短链氟碳改性聚丙烯酸酯类流平剂和改性硅烷类流平剂中的一种或几种;
[0014]所述润湿剂为聚醚改性硅氧烷类润湿剂;
[0015]所述光稳定剂为光稳定剂
770

[0016]所述抗氧化剂为抗氧化剂
264、
抗氧化剂
168
和抗氧化剂
1010
中的一种或几种;
[0017]所述紫外助剂为紫外助剂
531

[0018]所述爽滑剂为有机硅类爽滑剂;
[0019]所述催化剂为二月桂酸二丁基锡;
[0020]所述溶剂为环己酮

二氧六环和二甲苯中的一种或几种

[0021]本专利技术提供如上文所述的低辐射强度

高力学强度的聚氨酯涂层的制备方法,包括以下步骤:
[0022]A)
将聚多元醇在真空条件下进行脱水;
[0023]B)
将脱水后的聚多元醇

交联剂

异氰酸酯

流平剂

润湿剂

光稳定剂

抗氧化剂

紫外助剂

爽滑剂

催化剂和溶剂搅拌混合,得到聚氨酯涂料;
[0024]C)
将聚氨酯涂料涂覆后固化,得到低辐射强度

高力学强度的聚氨酯涂层

[0025]优选的,所述步骤
A)
中真空脱水的温度为
100

140℃
;真空脱水的时间为1~3小时

[0026]优选的,所述步骤
C)
中固化的温度为
50

70℃
;固化的时间为6~
10
小时

[0027]本专利技术提供如上文所述的低辐射强度

高力学强度的聚氨酯涂层在飞机防护涂层中的应用

[0028]本专利技术提供了一种低辐射强度

高力学强度的聚氨酯涂层,包括以本文档来自技高网
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种低辐射强度

高力学强度的聚氨酯涂层,包括以下重量份数的制备原料:聚多元醇
16

20
重量份

交联剂
0.5
~2重量份

异氰酸酯6~8重量份

流平剂
0.1

0.2
重量份

润湿剂
0.05

0.2
重量份

抗氧化剂
0.2

0.4
重量份

紫外助剂
0.3

0.4
重量份

光稳定剂
0.3

0.4
重量份

爽滑剂
0.1

0.15
重量份

催化剂
0.01

0.03
重量份

溶剂
70

75
重量份;所述交联剂由环氧环己烷与异丙醇胺反应得到
。2.
根据权利要求1所述的聚氨酯涂层,其特征在于,所述环氧环己烷的重量份数为
70

75
份,异丙醇胺的重量份数为
25

30

。3.
根据权利要求2所述的聚氨酯涂层,其特征在于,所述环氧环己烷与异丙醇胺反应的温度为
135

150℃
;反应的时间为6~8小时
。4.
根据权利要求1所述的聚氨酯涂层,其特征在于,所述聚多元醇为聚烯烃多元醇;所述聚多元醇的分子量为
1000

3000g/mol。5.
根据权利要求1所述的聚氨酯涂层,其特征在于,所述异氰酸酯为
4,4'

二环己基甲烷二异氰酸酯

六...

【专利技术属性】
技术研发人员:赵晓礼刘津藏希宇杨小牛
申请(专利权)人:中国科学院长春应用化学研究所
类型:发明
国别省市:

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