一种去除硅溶胶杂质的离心机制造技术

本实用新型专利技术公开了一种去除硅溶胶杂质的离心机，涉及硅溶胶处理技术领域

【技术实现步骤摘要】
一种去除硅溶胶杂质的离心机


[0001]本技术属于涉及硅溶胶处理
，特别是涉及一种去除硅溶胶杂质的离心机
。

技术介绍

[0002]硅溶胶是纳米尺度的二氧化硅颗粒分散于水中的交替溶液，其中分散截止也可以是醇等有机溶剂，一般情况下指水体系，所以也称之为二氧化硅水溶液
。
[0003]硅溶胶制作工艺中，杂质的去除为不可或缺的一步，目前采用夜里离心机对其去除，快捷高效，但是存在离心机位置固定，对其底部清理不便
。
[0004]为此，本技术提出一种去除硅溶胶杂质的离心机，以解决上述问题
。

技术实现思路

[0005]为解决上述技术问题，本技术是通过以下技术方案实现的：
[0006]本技术为一种去除硅溶胶杂质的离心机，包括
[0007]支撑组件，其所述支撑组件包括底板，所述底板上侧端部固定有支架，所述支架外侧从上到下依次安装有限位板和安装板，且所述限位板和安装板的两侧边缘之间固定有加强梁，所述支架顶端活动安装有中轴，其所述中轴周侧端部固定有连接臂；
[0008]所述支撑组件用于该离心机的支撑定位以及活动调节
。
[0009]进一步地，所述连接臂一端固定有驱动组件，其所述驱动组件可拆卸连接有安装架
。
[0010]进一步地，所述安装架内部安装有机体，且所述机体周侧与所述安装架上侧通过三角板固定
。
[0011]进一步地，所述安装架下侧拐角处固定有支脚，其所述支脚底端与底板呈齐平设置
。
[0012]进一步地，所述机体上端设置有进料口，且所述机体下端设置有出料口
。
[0013]进一步地，所述底板两端设置有安装孔，且所述底板通过螺栓结构与外界安装面之间固定
。
[0014]本技术具有以下有益效果：
[0015]本技术通过设置支撑组件对离心机的机体的辅助支撑，实现机体的位置调节目的，进一步便于工作人员的清理作业，其具体为：
[0016]清理状态下，将支脚端掀起，安装架与机体整体向上旋转，直至驱动组件与限位板抵触，此时机体的出料口朝外，便于工作人员进行清理；在此过程中，中轴相对支架的转动用于辅助机体位置的调整
。
附图说明
[0017]为了更清楚地说明本技术实施例的技术方案，下面将对实施例描述所需要使
用的附图作简单的介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图
。
[0018]图1为本技术整体结构一侧示意图；
[0019]图2为本技术整体结构另一侧示意图；
[0020]图3为本技术中的机体旋转后的示意图
。
[0021]附图中，各标号所代表的部件列表如下：
[0022]1、
支撑组件；
11、
底板；
12、
支架；
13、
中轴；
14、
限位板；
15、
安装板；
16、
加强梁；
2、
支臂；
3、
驱动组件；
4、
安装架；
5、
支脚；
6、
机体
。
具体实施方式
[0023]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚
、
完整的描述
。
[0024]请参阅图1‑3所示，本技术为一种去除硅溶胶杂质的离心机，包括
[0025]支撑组件1，其支撑组件1包括底板
11
，底板
11
上侧端部固定有支架
12
，支架
12
外侧从上到下依次安装有限位板
14
和安装板
15
，且限位板
14
和安装板
15
的两侧边缘之间固定有加强梁
16
，支架
12
顶端活动安装有中轴
13
，其中轴
13
周侧端部固定有连接臂2；
[0026]支撑组件1用于该离心机的支撑定位以及活动调节；
[0027]本申请所述涉及的去除硅溶胶杂质的离心机中，其重点在于对支撑结构的改变，即将原有的组装架支撑改进为支撑组件1进行支撑，其使用原理为：离心作业状态下，机体6在重力作用下有下沉趋势，此时支撑组件1与支脚5共同作用，通过安装架4对机体6进行支撑；
[0028]而在清理状态下，将支脚5端掀起，安装架4与机体6整体向上旋转，直至驱动组件3与限位板
14
抵触，此时机体6的出料口朝外，便于工作人员进行清理；在此过程中，中轴
13
相对支架
12
的转动用于辅助机体6位置的调整
。
[0029]其中如图1所示，连接臂2一端固定有驱动组件3，其驱动组件3可拆卸连接有安装架4；
[0030]安装架4内部安装有机体6，且机体6周侧与安装架4上侧通过三角板固定；
[0031]本申请所述涉及的去除硅溶胶杂质的离心机中，驱动组件3为常规电机驱动结构，驱动组件3用于机体6内部元件的旋转，安装架4与机体6固定之后，进一步在支脚5的支撑作用下被抬起至远离安装面
。
[0032]其中如图2所示，安装架4下侧拐角处固定有支脚5，其支脚5底端与底板
11
呈齐平设置；
[0033]机体6上端设置有进料口，且机体6下端设置有出料口；
[0034]本申请所述涉及的去除硅溶胶杂质的离心机中，支脚5作为辅助支撑结构，但是支脚5与外界安装面之间缺乏约束结构，从而支脚5为活动支撑端；机体6为该离心机的离心作业结构，而离心结构为现有成熟技术，其离心结构不作为本申请改进点，故在此不对其内部原理结构进行详细描述
。
[0035]其中如图3所示，底板
11
两端设置有安装孔，且底板
11
通过螺栓结构与外界安装面
之间固定；
[0036]本申请所述涉及的去除硅溶胶杂质的离心机中，底板
11
作为整体的固定端，底板
11
通过螺栓结构与外界安装面之间固定位置之后，该离心机整体位置固定
。
[0037]在本技术的描述中，需要说明的是，术语“竖直”、“上”、“下”、“水平”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位
、
以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制
。
[0038]在本技术的描述中，还需要说明的是，除非另有明本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种去除硅溶胶杂质的离心机，其特征在于，包括支撑组件
(1)
，其所述支撑组件
(1)
包括底板
(11)
，所述底板
(11)
上侧端部固定有支架
(12)
，所述支架
(12)
外侧从上到下依次安装有限位板
(14)
和安装板
(15)
，且所述限位板
(14)
和安装板
(15)
的两侧边缘之间固定有加强梁
(16)
，所述支架
(12)
顶端活动安装有中轴
(13)
，其所述中轴
(13)
周侧端部固定有连接臂
(2)
；所述支撑组件
(1)
用于该离心机的支撑定位以及活动调节
。2.
根据权利要求1所述的一种去除硅溶胶杂质的离心机，其特征在于，所述连接臂
(2)
一端固定有驱动组件
(3)
，其所述驱动组件
(...

【专利技术属性】
技术研发人员：高文，秦健，
申请(专利权)人：山东宝来纳米科技有限公司，
类型：新型
国别省市：