一种圆柱滚子双端面研磨用的研磨装置及研磨方法制造方法及图纸

一种圆柱滚子双端面研磨用的研磨装置及研磨方法，它涉及一种研磨装置及研磨方法

【技术实现步骤摘要】
一种圆柱滚子双端面研磨用的研磨装置及研磨方法


[0001]本专利技术涉及一种研磨装置，具体涉及一种圆柱滚子双端面研磨用的研磨装置，属于双端面研磨机

。

技术介绍

[0002]对于精度等级较高的圆柱滚子
(
如Ⅱ级精度以上的圆柱滚子
)
，双端面采用磨削加工的方式很难达到国家标准对圆柱滚子端面圆跳动和表面粗糙度的质量要求，因此可采用研磨双端面的办法来弥补和提高质量要求
。
圆柱滚子双端面的研磨可在双面研磨机中采用行星研磨方式进行研磨加工，行星研磨的典型设备有
MB43100
或
MB4363
研磨机，圆柱滚子放在行星轮内，在行星轮的带动下进行研磨
。
[0003]但现有研磨机中的行星轮在直径方向上开设有若干排研磨孔
(
如图1所示
)
，每个研磨孔中各放入一个圆柱滚子进行研磨；虽然行星轮在工作时既具有自转又有公转，但这种研磨方式中圆柱滚子相对行星轮的位置不发生变化，导致每排圆柱滚子承受研磨盘的线速度不同，每排圆柱滚子的研磨量也不同，进而导致同一行星轮中不同排上的研磨孔所加工出的圆柱滚子存在散差
。
[0004]多年来，很多技术人员进行了多种尝试解决上述问题，例如仅在行星轮某一排的研磨孔中装入圆柱滚子，其他排上的研磨孔不放滚子，以降低散差，但这样的操作方式大大降低加工的效率
。
[0005]综上所述，如何针对上述技术问题，提出一种研磨装置，这也就成为了目前本领域内技术人员所亟待解决的问题
。

技术实现思路

[0006]本专利技术针对上述现有技术的不足，提供一种圆柱滚子双端面研磨用的研磨装置
。
[0007]本专利技术的技术方案是：一种圆柱滚子双端面研磨用的研磨装置，包括上研磨盘
、
下研磨盘
、
内齿齿圈
、
中心轮和若干个行星轮，内齿齿圈
、
中心轮和若干个行星轮布置在上研磨盘和下研磨盘之间
。
[0008]若干个行星轮通过圆周阵列的方式布置在内齿齿圈和中心轮之间；每个行星轮上开有若干个滚子研磨孔，且若干个滚子研磨孔的圆心在同一个圆上
。
[0009]每个滚子研磨孔内可布置若干个圆柱滚子，滚子研磨孔内同轴布置有隔离套；若干个圆柱滚子通过圆周阵列的方式布置在隔离套外圆周面和滚子研磨孔内圆周面之间；隔离套的轴向长度小于圆柱滚子的长度
。
[0010]进一步地，滚子研磨孔的半径为
R1，圆柱滚子的直径为
φ
，隔离套外圆周面的半径为
R2；且
R1‑
R2‑
φ
＝
0.2mm。
[0011]进一步地，行星轮的数量为4～8个
。
[0012]进一步地，每个行星轮上滚子研磨孔的数量为5～7个
。
[0013]本专利技术还提供了一种圆柱滚子双端面的研磨方法，该方法具体按以下步骤进行：
[0014]步骤一：确定隔离套的直径：根据将待加工圆柱滚子的直径不同，加工出不同直径的隔离套；
[0015]步骤二：将若干个待加工的圆柱滚子贴近滚子研磨孔的内圆周面摆放一周；
[0016]步骤三：将隔离套同轴放置于滚子研磨孔内，根据圆柱滚子的研磨余量选取研磨参数进行研磨加工
。
[0017]本专利技术与现有技术相比具有以下效果：
[0018]1、
本专利技术的结构简单，行星轮
300
上开有若干个滚子研磨孔
310
，滚子研磨孔
310
内同轴布置有隔离套
320
；将若干个圆柱滚子布置在隔离套
320
外圆周面和滚子研磨孔
310
内圆周面之间
。
在端面研磨中，每个滚子研磨孔
310
内圆柱滚子的位置可相对行星轮发生变化，所获得到研磨盘的线速度相同，使得每个圆柱滚子的研磨量相同，进而降低圆柱滚子的散差，若干个行星轮
300
中都放入圆柱滚子，提高加工的效率，并且保证加工散差
≤0.005um
，远低于国家标准
。
附图说明
[0019]图1是但现有研磨机中的行星轮的结构示意图；
[0020]图2是本专利技术的结构示意图；
[0021]图3是本专利技术行星轮
300
的结构示意图；
[0022]图4是图3中Ⅰ处的局部放大图；
[0023]图5是本专利技术工作时的示意图
。
[0024]图中：
100、
内齿齿圈；
200、
中心轮；
300、
行星轮；
310、
滚子研磨孔；
320、
隔离套
。
具体实施方式
[0025]为使得本专利技术的专利技术目的
、
特征
、
优点能够更加的明显和易懂，下面将结合本专利技术实施方式中的附图，对本专利技术实施方式中的技术方案进行清楚
、
完整地描述
。
[0026]具体实施方式一：结合图1至图4说明本实施方式，本实施方式的一种圆柱滚子双端面研磨用的研磨装置包括上研磨盘
、
下研磨盘
、
内齿齿圈
100、
中心轮
200
和若干个行星轮
300
，内齿齿圈
100、
中心轮
200
和若干个行星轮
300
布置在上研磨盘和下研磨盘之间
。
[0027]若干个行星轮
300
通过圆周阵列的方式布置在内齿齿圈
100
和中心轮
200
之间
。
[0028]每个行星轮
300
上开有若干个滚子研磨孔
310
，且若干个滚子研磨孔
310
的圆心在同一个圆上
。
[0029]每个滚子研磨孔
310
内可布置若干个圆柱滚子，滚子研磨孔
310
内同轴布置有隔离套
320
；若干个圆柱滚子通过圆周阵列的方式布置在隔离套
320
外圆周面和滚子研磨孔
310
内圆周面之间；隔离套
320
的轴向长度小于圆柱滚子的长度
。
[0030]具体实施方式二：结合图1至图4说明本实施方式，本实施方式中滚子研磨孔
310
的半径为
R1，圆柱滚子的直径为
φ
，隔离套
320
外圆周面的半径为
R2；且
R1‑
R2‑
φ
＝
0.2mm。本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种圆柱滚子双端面研磨用的研磨装置，包括上研磨盘
、
下研磨盘
、
内齿齿圈
(100)、
中心轮
(200)
和若干个行星轮
(300)
，内齿齿圈
(100)、
中心轮
(200)
和若干个行星轮
(300)
布置在上研磨盘和下研磨盘之间，其特征在于：所述若干个行星轮
(300)
通过圆周阵列的方式布置在内齿齿圈
(100)
和中心轮
(200)
之间；每个行星轮
(300)
上开有若干个滚子研磨孔
(310)
，且若干个滚子研磨孔
(310)
的圆心在同一个圆上；每个滚子研磨孔
(310)
内可布置若干个圆柱滚子，滚子研磨孔
(310)
内同轴布置有隔离套
(320)
；若干个圆柱滚子通过圆周阵列的方式布置在隔离套
(320)
外圆周面和滚子研磨孔
(310)
内圆周面之间；所述隔离套
(320)
的轴向长度小于圆柱滚子的长度
。2.
根据权利要求1所述的一种圆柱滚子双端面研磨用的研磨装置，其特征在于：所述滚子研磨孔
(310)
的半径为
R1，圆柱滚...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙铁明，张岩，孙园坤，李俊茹，张新玲，胡静，汤志伟，黄春林，胡冰涛，
申请(专利权)人：哈尔滨轴承制造有限公司，
类型：发明
国别省市：