一种基于制造技术

本发明专利技术涉及一种基于

【技术实现步骤摘要】
一种基于FPGA的ELCMV优化计算方法


[0001]本专利技术属于通信抗干扰
，具体涉及一种基于
FPGA
的
ELCMV
优化计算方法
。

技术介绍

[0002]基于特征空间的线性约束最小方差
(ELCMV)
波束形成器是一种稳健抗干扰工具，它通过对阵列信号相关矩阵的特征值进行分解
,
形成信号子空间和噪声子空间
,
然后将预设导向矢量向信号子空间投影
,
并结合
LCMV
算法获得权矢量
。
这种投影运算使权矢量的范数变小
,
输出噪声功率变小
,
而期望信号和干扰信号的输出功率则不变
,
从而抑制了噪声功率输出
,
具有较快的收敛速度和较强的稳健性
。
[0003]这一方法不仅需要对采样协方差矩阵
R
进行特征分解，同时要对协方差矩阵
R
进行求逆运算，在用
FPGA
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种基于
FPGA
的
ELCMV
优化计算方法，其特征在于，该方法通过对采样协方差矩阵进行特征值分解，然后通过乘加运算求得权矢量，再利用计算得到的权矢量进行阵列信号抗干扰
。2.
如权利要求1所述的方法，其特征在于，包括以下步骤：对采样协方差矩阵
R
进行特征值分解
,
得到：式中：为
R
的
M
个特征值，对应的特征向量分别为
τ1,
τ2,...,
τ
M
；
Λ
s
＝
diag[
λ1,...,
λ
p+1
]
；
Λ
n
＝
diag[
λ
p+2
,...,
λ
M
]
；
U
s
＝
[
τ1,
τ2,...,
τ
p+1
]
；
U
n
＝
[
τ
p+2
,...,
τ
M
]
，

【专利技术属性】
技术研发人员：牟明崎，李永翔，李鹏，
申请(专利权)人：天津津航计算技术研究所，
类型：发明
国别省市：