地埋式处理厂上盖建筑管道污染防护结构制造技术

技术编号:39632341 阅读:12 留言:0更新日期:2023-12-07 12:33
本实用新型专利技术提供一种地埋式处理厂上盖建筑管道污染防护结构,消除了管道穿越楼板造成污染的问题,实现管道便利布置和维护。本实用新型专利技术包括上盖建筑和地埋式处理厂,上盖建筑位于地埋式处理厂的上方;上盖建筑设置有给排水管道;其特征在于:还包括管沟和管沟盖板;管沟固定设置于上盖建筑的底部,且位于上盖建筑一层楼面的下方;给排水管道在穿越上盖建筑的一层楼面后,敷设在管沟内;管沟的顶部设置有管沟盖板和一层楼面的楼板;管沟的底部设置有集水检查井,且管沟的底面坡向集水检查井。且管沟的底面坡向集水检查井。且管沟的底面坡向集水检查井。

【技术实现步骤摘要】
地埋式处理厂上盖建筑管道污染防护结构


[0001]本技术涉及一种地埋式处理厂上盖建筑管道污染防护结构。

技术介绍

[0002]我国土地资源日益匮乏,地下空间开发利用是城市可持续发展的必然选择。国内污水处理厂存在环境差、噪声响等问题,形成“避邻”效应。为此,国内许多城市开始建设全地埋式处理厂,有甚至尝试将自来水厂也由地埋平铺式的建设改为竖向全地埋模式,使地上土地价值的得以再利用。未来的一段时间,地埋式水处理厂(含自来水处理厂)+地面空间开发上盖工业厂房或商业建筑,将会引领处理厂的新发展。
[0003]地埋式处理厂+上盖建筑,在上盖建筑中往往存在较多的上下水管道,而这些管道进出建筑物时,当在没有地下建筑物时,可直接通过室内埋地引出室外;但若存在地下建筑时,需要穿越楼板进入地下层,以管道悬吊方式引出室外。但由于管道存在堵塞、腐蚀、老化等现象,易形成管道泄漏,造成对地下处理系统污染,特别对埋地自来水厂是不允许污水泄漏至处理水池中;又如一些建筑:配电室、控制室或者有防水要求的房间,禁止给排水管道穿越,这些地下设施对上盖建筑管道布置造成了困难。
[0004]因此,有必要设计一种地埋式处理厂上盖建筑管道污染防护措施,解决管道穿越楼板造成污染等问题,推动实现处理厂地埋的建设模式。

技术实现思路

[0005]本技术的目的在于克服现有技术中存在的上述不足,而提供一种结构设计合理的地埋式处理厂上盖建筑管道污染防护结构,消除了管道穿越楼板造成污染的问题,实现管道便利布置和维护。
[0006]本技术解决上述问题所采用的技术方案是:一种地埋式处理厂上盖建筑管道污染防护结构,包括上盖建筑和地埋式处理厂,上盖建筑位于地埋式处理厂的上方;上盖建筑设置有给排水管道;其特征在于:还包括管沟和管沟盖板;管沟固定设置于上盖建筑的底部,且位于上盖建筑一层楼面的下方;给排水管道在穿越上盖建筑的一层楼面后,敷设在管沟内; 管沟的顶部设置有管沟盖板和一层楼面的楼板;管沟的底部设置有集水检查井,且管沟的底面坡向集水检查井。
[0007]本技术所述的管沟由混凝土制成。
[0008]本技术所述的给排水管道在穿越上盖建筑的外部隔墙时,在穿越处设置有穿墙防水套管,排水管道设置在穿墙防水套管中。
[0009]本技术所述的管沟盖板为轻质混凝土盖板或钢盖板。
[0010]本技术所述的集水检查井的上方为管沟盖板。
[0011]本技术所述的上盖建筑位于地面以上,地埋式处理厂位于地面以下。
[0012]本技术所述的地埋式处理厂为污水处理厂或供水处理厂;所述的上盖建筑为工业建筑、住宅或商业建筑。
[0013]本技术所述的集水检查井为多个,间隔一段距离设置。
[0014]本技术所述的管沟的顶部间隔一段距离设置有多块一层楼面的楼板。
[0015]本技术当一层楼面设有梁时,管沟和给排水管道比梁低,给排水管道走到梁底部。
[0016]本技术与现有技术相比,具有以下优点和效果:通过在楼面下设置管沟,消除了上盖建筑管道穿越地下楼板因管道泄漏造成污染或顶部无法布置管道的问题;设置管沟,对管道进行汇总布置,有利于管道集中管理,降低了管道布置的困难;同时还避免了采用建筑中间夹层方式,减少夹层的投资;管沟上设置盖板及集水井,方便定期巡检,及时发现管道泄漏,消除了埋地管道无法准确找到泄漏点,并需要大量二次开挖和回填的问题。
附图说明
[0017]图1为本技术实施例的平面结构示意图。
[0018]图2为本技术实施例的剖面结构示意图。
具体实施方式
[0019]下面结合附图并通过实施例对本技术作进一步的详细说明,以下实施例是对本技术的解释而本技术并不局限于以下实施例。
[0020]本技术实施例包括上盖建筑1、地埋式处理厂2、管沟3、给排水管道4和管沟盖板5。
[0021]上盖建筑1位于地面以上,地埋式处理厂2位于地面以下,上盖建筑1位于地埋式处理厂2的上方。地埋式处理厂2可为污水处理厂或供水处理厂(自来水厂)。上盖建筑1可为工业建筑、住宅、商业建筑等。
[0022]管沟3由混凝土制成,其两侧以及底部三面为混凝土沟壁。管沟3固定设置于上盖建筑1的底部,且位于上盖建筑1的一层楼面9下方。上盖建筑1设置有给排水管道4,给排水管道4在穿越上盖建筑1的一层楼面9后,敷设在管沟3内,与地埋式处理厂2隔离,消除了给排水管道4泄漏造成对地埋式处理厂2污染,实现上盖建筑1管道便利布置。给排水管道4在穿越上盖建筑1的外部隔墙时,在穿越处设置有穿墙防水套管8,排水管道4设置在穿墙防水套管8中,防止室外地下水返渗至管沟3内。当一层楼面9设有梁时,管沟3和给排水管道4可以比梁低,给排水管道4走到梁底部;部分小管道也可走到梁中间,但需核算是否满足结构承重要求,沟底与梁底预留一定空隙,用于放坡排水。
[0023]管沟3的顶部设置有管沟盖板5,管沟盖板5可为轻质混凝土盖板或钢盖板,便于打开给排水管道4检修。管沟3的顶部还间隔一段距离设置有多块一层楼面9的楼板6,减轻管沟3对整个一层楼面9的受力破坏。
[0024]管沟3的底部设置有集水检查井7,集水检查井7为多个,间隔一段距离设置,集水检查井7可为300(深)。管沟3的底面具有一定坡度坡向集水检查井7,当给排水管道4泄漏时,泄漏水汇集至集水检查井7,通过定期巡检打开管沟盖板5,检查给排水管道4是否存在泄漏。设计时,集水检查井7的上方应为管沟盖板5。
[0025]管沟3应有一定的富裕宽度,在管道布置后,有足够的空间用于管道维修。
[0026]此外,需要说明的是,本说明书中所描述的具体实施例,其零、部件的形状、所取名
称等可以不同,本说明书中所描述的以上内容仅仅是对本技术结构所作的举例说明。凡依据本技术专利构思所述的构造、特征及原理所做的等效变化或者简单变化,均包括于本技术专利的保护范围内。本技术所属
的技术人员可以对所描述的具体实施例做各种各样的修改或补充或采用类似的方式替代,只要不偏离本技术的结构或者超越本权利要求书所定义的范围,均应属于本技术的保护范围。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种地埋式处理厂上盖建筑管道污染防护结构,包括上盖建筑和地埋式处理厂,上盖建筑位于地埋式处理厂的上方;上盖建筑设置有给排水管道;其特征在于:还包括管沟和管沟盖板;管沟固定设置于上盖建筑的底部,且位于上盖建筑一层楼面的下方;给排水管道在穿越上盖建筑的一层楼面后,敷设在管沟内; 管沟的顶部设置有管沟盖板和一层楼面的楼板;管沟的底部设置有集水检查井,且管沟的底面坡向集水检查井。2.根据权利要求1所述的地埋式处理厂上盖建筑管道污染防护结构,其特征在于:所述的管沟由混凝土制成。3.根据权利要求1所述的地埋式处理厂上盖建筑管道污染防护结构,其特征在于:所述的给排水管道在穿越上盖建筑的外部隔墙时,在穿越处设置有穿墙防水套管,排水管道设置在穿墙防水套管中。4.根据权利要求1所述的地埋式处理厂上盖建筑管道污染防护结构,其特征在于:所述的管沟盖板为轻质混凝土盖板或钢盖板。5.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员:虞启义蔡海燕马云飞吴俊芬
申请(专利权)人:中国联合工程有限公司
类型:新型
国别省市:

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