一种高精度制造技术

技术编号:39600754 阅读:10 留言:0更新日期:2023-12-03 20:00
本发明专利技术涉及射线测厚技术领域,具体提供了一种高精度

【技术实现步骤摘要】
一种高精度X射线测厚仪


[0001]本专利技术涉及射线测厚
,特别是涉及一种高精度
X
射线测厚仪


技术介绍

[0002]X
射线测厚仪是一种基于
X
射线穿透原理的厚度测量设备


X
射线穿过物质时,其强度会因物质的吸收

散射等因素而减弱

物质的厚度越大,对
X
射线的吸收作用越强,透射出来的
X
射线强度就越低

因此,通过测量透射出来的
X
射线强度,可以推算出物质的厚度

在实际应用中,
X
射线测厚仪通常由
X
射线源

探测器

信号处理及控制系统等组成


X
射线源发射出的
X
射线照射到被测物体上时,探测器会接收透射出来的
X
射线,并将其转化为电信号

控制系统则对电信号进行处理,从而得到被测物体的厚度

[0003]现有技术当中,有人提出了一些利用
X
射线进行测厚的技术方案,如中国专利
CN102607476B
公开了一种可调节高精度
X
射线测厚仪及测试方法,其组成包括连接架(1),所述的连接架一端连接具有高性能
X
射线管(2)的
X
射线发射装置(3),所述的连接架另一端连接具有
X
射线接收电离室(
14
)的
X
射线接收装置(5),通过发射
X
射线测量带材厚度

[0004]但是,包括上述专利在内的现有技术中,进行测量时都是发出一次射线得到一次测量结果,效率较低

[0005]公开于本申请
技术介绍
部分的信息仅仅旨在加深对本申请的一般
技术介绍
的理解,而不应当被视为承认或以任何形式暗示该信息构成已为本领域技术人员所公知的现有技术


技术实现思路

[0006]基于此,有必要针对目前的
X
射线测厚时所存在的效率较低问题,提供一种高精度
X
射线测厚仪

[0007]上述目的通过下述技术方案实现:本专利技术第一方面实施例提供了一种高精度
X
射线测试方法,其包括以下步骤:
S100
,获取工件长度
S、
工件设计厚度
T、
工件吸收系数
μ
和测量精度参数
P
,并基于工件设计厚度
T
获取反射层间距
H
,基于工件长度
S
和测量精度参数
P
获取反射次数
N

S200
,将工件放置于两个相互平行的反射层之间,两个反射层之间的间距为
H

S300
,发射器以倾斜角度
θ2向工件发射射线强度为
E0

X
射线,通过探测器接收
X
射线并获取接收时的接收强度
E1
,其中,
θ
2=arctan

P/H
);
S400
,若接收强度
E1
大于或等于探测器可接收最小强度
E3
,则执行步骤
S900

S900
,计算工件的测试平均厚度
D=
ꢀ‑

LnE1

LnE0/
μ
N

*cos
θ
2。
[0008]在其中一个实施例中,步骤
S400
还包括:若接收强度
E1
小于探测器可接收最小强度
E3
,则执行步骤
S500

S500
,增加发射射线强度至
E4=E0+

E
;若
E4
小于最大射线强度
E2
,则执行步骤
S400。
[0009]在其中一个实施例中,步骤
S500
还包括:若
E4
大于或等于最大射线强度
E2
,则执行步骤
S600

S600
,工件厚度大于
20mm
时,执行步骤
S700
;否则,执行步骤
S800

S700
,以第二测量模式对工件进行测量;第二测量模式下,工件长度方向的两端设置有两个发射器,工件长度方向的中间设置有探测器;
S800
,以第三测量模式对工件进行测量;第二测量模式下,工件长度方向的两端设置有两个发射器和两个探测器

[0010]在其中一个实施例中,步骤
S700
包括:发射器以倾斜角度
θ3向工件发射射线强度为
E0

X
射线,通过探测器接收
X
射线并获取接收时的接收强度
E1

θ3<
θ
2。
[0011]在其中一个实施例中,步骤
S700
后还包括:
S710
,若接收强度
E1
大于或等于探测器可接收最小强度
E3
,则执行步骤
S900
;若接收强度
E1
小于探测器可接收最小强度
E3
,则增加发射射线强度至
E4=E0+

E
;若
E4
小于最大射线强度
E2
,则执行步骤
S710。
[0012]在其中一个实施例中,第二测量模式下,步骤
S900
包括:分别计算两条射线测得的工件的测试平均厚度
D=
ꢀ‑

LnE1

LnE0/
μ
N

*cos
θ3,并求均值

[0013]在其中一个实施例中,步骤
S800
包括:发射器以倾斜角度
θ4向工件发射射线强度为
E0

X
射线,通过探测器接收
X
射线并获取接收时的接收强度
E1

θ4>
θ
2。
[0014]在其中一个实施例中,步骤
S800
后还包括:
S810
,若接收强度...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种高精度
X
射线测厚仪,其特征在于,包括:基座,所述基座包括底座和连接板,所述底座固定于地面或其他固定基础上,所述连接板的第一端连接于所述底座;第一反射板和第二反射板,所述第一反射板和所述第二反射板连接于所述连接板的第二端;所述第一反射板上设置有第一反射平面,所述第二反射板上设置有第二反射平面,所述第一反射平面和所述第二反射平面平行且间隔设置,所述第一反射平面和所述第二反射平面之间形成用以放置工件的容纳空间;发射器,所述发射器数量为一个

两个或多个,所述发射器设置于所述第一反射板靠近所述连接板的一端处和
/
或所述第一反射板远离所述连接板的一端处;探测器,所述探测器数量为一个

两个或多个,所述探测器设置于所述第一反射板靠近所述连接板的一端处和
/
或所述第一反射板远离所述连接板的一端处
。2.
根据权利要求1所述的高精度
X
射线测厚仪,其特征在于,所述第一反射平面和所述第二反射平面之间的距离可调
。3.
根据权利要求2所述的高精度
X
射线测厚仪,其特征在于,所述第一反射板和所述第二反射板均可沿竖直方向相对于所述连接板滑动
。4.
根据权利要求1所述的高精度
X
射线测厚仪,其特征在于,所述第一反射板和所述第二反射板均包括多个反射单元,多个反射单元可拆卸地连接为一体并形成所述第一反射板或所述第二反射板
。5.
根据权利要求4所述的高精度
X
射线测厚仪,其特征在于,所述反射单元包括固连为一体的水平板和竖直板,所述水平板和所述竖直板互相垂直,所述水平板具有反射子面,多个相邻的反射子面拼接形成所述第一反射平面或所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:曲海波赵杰赵永丰王虎
申请(专利权)人:北京华力兴科技发展有限责任公司
类型:发明
国别省市:

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