包含至少一种芳族过氧化物和至少过氧化氢的组合物制造技术

技术编号:39598959 阅读:27 留言:0更新日期:2023-12-03 19:58
本发明专利技术涉及组合物,所述组合物包含至少一种芳族过氧化物和至少过氧化氢,所述芳族过氧化物在其结构中包含至少一个芳族环和至少一个过氧官能团,如下文所定义

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】包含至少一种芳族过氧化物和至少过氧化氢的组合物


[0001]本专利技术涉及如下组合物,所述组合物包含至少一种芳族过氧化物和至少过氧化氢,所述芳族过氧化物在其结构中包含至少一个芳族环和至少一个过氧官能团,如下文所定义

[0002]本专利技术还涉及所述组合物用于制备聚合物,优选苯乙烯类聚合物,或聚合物树脂,特别是聚合物酯树脂的用途,所述聚合物酯树脂优选选自不饱和聚酯树脂

丙烯酸类树脂

甲基丙烯酸类树脂

和乙烯基酯树脂

[0003]本专利技术还涉及至少过氧化氢用于改善组合物的颜色稳定性的用途,所述组合物包含至少一种芳族过氧化物,所述芳族过氧化物在其结构中具有至少一个芳族环和至少一个过氧官能团,如下文所定义


技术介绍

[0004]芳族过氧化物目前通常在各种聚合反应中用作自由基引发剂,例如用于合成苯乙烯类树脂

乙烯基酯树脂或聚丙烯酸酯,例如具有侧链芳环的聚
(
甲基
)
烯酸酯,或用作固化剂本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.
组合物,所述组合物包含:
a)
至少一种芳族过氧化物,其在其结构中包含至少一个芳族环和至少一个过氧

O

O

官能团;优选地,所述芳族环通过共价键

羰基或包含1至
20
个碳原子的烷基连接到所述过氧官能团;
b)
至少过氧化氢过氧化氢与芳族过氧化物的重量比在
1:20000

1:40
之间,更优选在
1:2000

1:50
之间,甚至更优选在
1:800

1:80
之间
。2.
根据权利要求1所述的组合物,其特征在于所述芳族过氧化物包含至少一个苯环
。3.
根据权利要求1或2的组合物,其特征在于所述芳族过氧化物选自芳族过酸酯

芳基

烷基过氧化物

芳基氢过氧化物

芳族二酰基过氧化物及其混合物,优选芳族过酸酯
。4.
根据权利要求3的组合物,其特征在于所述芳族过酸酯选自过苯甲酸酯

芳基过烷基化酯

芳族二过酸酯及其混合物,优选过苯甲酸酯
。5.
根据权利要求1所述的组合物,其特征在于所述芳族过氧化物具有下式
(I)

R1‑
O

O

R2(I)
其中:
·
R1表示:
‑‑
C(

O)R
’1基团,其中
R
’1表示任选地被线型或支化的
C1‑
C
10
烷基和
/
或一个或多个卤素原子取代的具有6至
32
个碳原子的芳基,或

用具有6至
32
个碳原子的芳基封端的线型或支化的
C1‑
C
20
烷基,其任选地被线型或支化的的
C1‑
C
10
烷基取代,任选地被过氧基团和
/
或一个或多个卤素原子取代;或
‑‑
CR
’1基团,其中
R
’1表示任选地被线型或支化的
C1‑
C
10
烷基和
/
或一个或多个卤素原子取代的具有6至
32
个碳原子的芳基,
·
R2表示:

线型或支化的
C1‑
C
20
烷基,

任选地被线型或支化的
C1‑
C
10
烷基和
/
或一个或多个卤素原子取代的具有6至
32
个碳原子的芳基,
‑‑
R3OOR4基团,其中
R3表示线型或支化的
C8‑
C
20
烷基基团,优选
C8‑
C
10
烷基基团,并且
R4表示

C(

O)R
’4基团,其中
R
’4表示具有6至
32
个碳原子的芳基基团,其任选地被线型或支化的
C1‑
C
10
烷基基团和
/
或一个或多个卤素原子取代,

用具有6至
32
个碳原子的芳基封端的线型或支化的的
C1‑
C
20
烷基,其任选地被线型或支化的
C1‑
C
10
烷基和
/
或一个或多个卤素原子取代,
‑‑
C(

O)R
’2基团,其中
R
’2表示任选地被线型或支化的
C1‑
C
10
烷基和
/
或一个或多个卤素原子取代的具有6至
32
个碳原子的芳基,或

氢原子...

【专利技术属性】
技术研发人员:B
申请(专利权)人:阿科玛法国公司
类型:发明
国别省市:

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