【技术实现步骤摘要】
壳体及其制备方法和电子设备
[0001]本申请属于电子产品
,具体涉及壳体及其制备方法和电子设备
。
技术介绍
[0002]随着电子设备的不断发展,用户对电子设备外观效果的要求也越来越高
。
为了满足越来越高的用户审美要求,电子设备的外观效果也需要不断地丰富和发展,给用户提供更好的使用体验
。
技术实现思路
[0003]鉴于此,本申请提供了一种壳体及其制备方法和电子设备
。
[0004]第一方面,本申请提供了一种壳体的制备方法,包括:采用淋涂液对壳体基体表面进行多次淋涂处理后形成淋涂液膜,所述淋涂液的固含量为
40
%
‑
45
%;所述淋涂液膜经真空拓印和固化后形成淋涂层,得到壳体,所述壳体包括所述壳体基体以及设置在所述壳体基体表面的淋涂层,所述淋涂层的表面具有纹理结构,所述淋涂层的厚度大于或等于
20
μ
m。
[0005]第二方面,本申请提供了一种壳体,包括壳体基体以及设置在所述壳体基体表面的淋涂层,所述淋涂层的表面具有纹理结构,所述淋涂层的厚度大于或等于
20
μ
m。
[0006]第三方面,本申请提供了一种电子设备,包括第二方面所述的壳体
。
[0007]本申请提供了壳体的制备方法,通过控制淋涂液的固含量进行多次淋涂处理,并采用真空拓印的方式,获得具有较大厚度的淋涂层,使得淋涂层表面的纹理结构的可变性得到提高,有利于壳体 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.
一种壳体的制备方法,其特征在于,包括:采用淋涂液对壳体基体表面进行多次淋涂处理后形成淋涂液膜,所述淋涂液的固含量为
40
%
‑
45
%;所述淋涂液膜经真空拓印和固化后形成淋涂层,得到壳体,所述壳体包括所述壳体基体以及设置在所述壳体基体表面的所述淋涂层,所述淋涂层的表面具有纹理结构,所述淋涂层的厚度大于或等于
20
μ
m。2.
如权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述多次淋涂处理包括进行2次
‑4次的淋涂操作
。3.
如权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述采用淋涂液对壳体基体表面进行多次淋涂处理后形成淋涂液膜,包括:所述淋涂液在所述壳体基体的表面进行第一淋涂操作,经第一流平后形成第一膜层;所述淋涂液在所述第一膜层的表面进行第二淋涂操作,经第二流平后形成第二膜层;所述第二膜层经烘烤流平后形成所述淋涂液膜
。4.
如权利要求3所述的制备方法,其特征在于,所述烘烤流平包括在
60℃
‑
70℃
进行红外烘干;所述淋涂处理的线速度为
3m/min
‑
7m/min。5.
如权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述真空拓印包括在真空度
8Pa
‑
10Pa
下拓印
15s
‑
30s。6.
如权利要求5所述的制备方法,其特征在于,所述真空拓印包括:将具有所述淋涂液膜的所述壳体基体置于真空度为
8Pa
‑
10Pa
的环境中,将模具压合在所述淋涂液膜的表面并保持
15s
‑
30s
,其中,所述模具朝向所述淋涂液膜的表面具有纹路,所述纹路与所述纹理结构互补
。7.
如权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述固化前还进行除泡,所述除泡包括在
50℃
‑
70℃、7
公斤
‑
15
公斤压力下处理
30min
‑
60min
;所述除泡前还包括静置处理,所述静置处理的时间为
30min
‑
60min。8.
如权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述淋涂液包括2官
‑4官光固化树脂和6官
‑9官光固化树脂;所述淋涂液中所述2官
‑4官光固化树脂的质量含量为
13
%
‑
22
%;所述淋涂液中所述6官
‑9官光固化树脂的质量含量为
25
%
‑
37
%
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