具有降冰片烷骨架的二甲醇化合物的制造方法技术

一种由下述式

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有降冰片烷骨架的二甲醇化合物的制造方法


[0001]本专利技术涉及具有降冰片烷骨架的二甲醇化合物的制造方法
。

技术介绍

[0002]已知具有降冰片烷骨架的二甲醇化合物在用作粘接剂或树脂原料时显示出优异的特征
。
作为制造具有降冰片烷骨架的二甲醇化合物的方法，例如专利文献1中记载了具有降冰片烷骨架的二甲醇化合物通过进行对应的酯化合物的氢化反应而得到
。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：国际公开第
2015/147242
号

技术实现思路

[0006]专利技术所要解决的课题
[0007]氢化反应典型地通过使用含有氧化铜的催化剂和反应溶剂，使具有酯的化合物与氢气反应来实施
。
在专利文献1中，加入底物的酯化合物
、
甲苯溶剂和氧化铜催化剂后，在反应温度
215℃、
反应压力
10MPa、
反应时间8小时进行反应
。
但是，催化剂量相对于底物为
20wt
％，甲苯溶剂使用量相对于底物为
300wt
％，另外，生成的二甲醇化合物相对于甲苯溶剂溶解性低，已判明为催化剂
、
二甲醇化合物和未反应酯化合物的糊状产物沉淀在甲苯溶剂中
。
该情况下，在反应结束后利用甲醇溶剂进行稀释，由此能够进行催化剂过滤分离，但判明了在反应液中，作为目标化合物的二甲醇化合物以外，作为中间体的酯化合物残留有1％左右
。
在将目标化合物用于聚合物原料的情况下，可能伴随该目标化合物的中间体有阻碍反应的倾向
。
另外，目标化合物和中间体均为高粘性和高沸点，因此难以通过单蒸馏或薄膜蒸馏将两者分离
。
另外，为了将中间体从目标化合物分离，也考虑使用高段数的蒸馏纯化，但成品率恶化，因此很难说是经济的方法
。
[0008]因此，在专利文献1的技术中，从抑制中间体的生成的观点出发存在改善的余地
。
[0009]另一方面，通过使用醇类溶剂，虽然能够解决糊状产物在溶剂中沉淀的问题，但在甲醇
、
乙醇的情况下，由于氢化反应时的高反应温度的影响而具有分压，气相中的氢气浓度变低，因此存在反应时间变长的倾向，因此很难说是经济的方法
。
[0010]另外，在专利文献1中，判明了使用环己醇作为溶剂，虽然能够避免如上述那样氢气浓度变低，但一部分与中间体发生酯交换反应，容易在反应液中生成作为副产物的酯交换反应产物
。
该情况下也与前述的中间体同样，存在阻碍向聚合物的反应的倾向，目标化合物和副产物均为高粘性和高沸点，因此难以通过单蒸馏或薄膜蒸馏从目标化合物分离副产物
。
另外，为了上述分离而使用高段数的蒸馏纯化会使成品率恶化，因此很难说是经济的方法
。
[0011]因此，在专利文献1的技术中，从抑制副产物的生成的观点出发也存在改善的余地
。
[0012]本专利技术是鉴于上述课题而完成的，其目的在于提供一种二甲醇化合物的制造方法，其在利用氢化反应的二甲醇化合物的制造中，能够抑制中间体的生成和副产物的生成这两者
。
[0013]解决课题的技术方案
[0014]本专利技术人等发现，在具有降冰片烷骨架的二甲醇化合物的制造中，通过使用规定的醇作为在氢化反应中使用的溶剂，能够解决上述课题，从而完成了本专利技术
。
[0015]即，本专利技术如下所述
。
[0016][1]一种由下述式
(1)
表示的目标化合物的制造方法，其中，所述制造方法具有在具有氢化能力的催化剂的存在下，将含有由下述式
(2)
表示的原料化合物和溶剂的混合液供应给氢化还原的工序
(A)
，所述溶剂为直链或支链的仲醇或叔醇，
[0017][0018](
上述式
(1)
中，
R
表示
H、CH3或
C2H5，
)
[0019][0020](
上述式
(2)
中，
R
表示
H、CH3或
C2H5，
R1表示
CH3、C2H5、C3H7、C4H9。)
[0021][2]根据
[1]所述的制造方法，其中，所述溶剂的沸点为
100
～
230℃。
[0022][3]根据
[1]或
[2]所述的制造方法，其中，所述溶剂由下述式
(a)
表示，
[0023][0024](
上述式
(a)
中，
R1表示
H
或
CH3，
R2表示
CH3、C2H5、C3H7或
C4H9，
R3表示
C3H7、C4H9、C5H
11
、C6H
13
、C7H
15
、C8H
17
、C9H
19
、C
10
H
21
、C
11
H
23
或
C
12
H
25
。)
[0025][4]根据
[1]～
[3]中任一项所述的制造方法，其中，所述目标化合物中的由下述式
(3)
表示的中间体的含量为
0.5
质量％以下，
[0026][0027](
式中，
R
表示
H、CH3或
C2H5，
R1表示
CH3、C2H5、C3H7、C4H9。)
[0028][5]根据
[1]～
[4]中任一项所述的制造方法，其中，所述目标化合物中的由下述式
(4)
表示的副产物的含量为
0.5
质量％以下
。
[0029][0030](
式中，
R
表示
H、CH3或
C2H5，
R2表示
C4H9、C5H
11
、C6H
13
、C7H
15
、C8H
17
、C9H
19
、C
10
H
21
、C
11
H
23
、C
12
H
25
、C
13
H
27
、C
14
H
29
。)
[0031][6]根据
[1]～
[5]中任一项所述的制造方法，其中，所述溶剂为2‑...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.
一种由下述式
(1)
表示的目标化合物的制造方法，其中，所述制造方法具有在具有氢化能力的催化剂的存在下，将含有由下述式
(2)
表示的原料化合物和溶剂的混合液供应给氢化还原的工序
(A)
，所述溶剂为直链或支链的仲醇或叔醇，所述式
(1)
中，
R
表示
H、CH3或
C2H5，所述式
(2)
中，
R
表示
H、CH3或
C2H5，
R1表示
CH3、C2H5、C3H7、C4H9。2.
根据权利要求1所述的制造方法，其中，所述溶剂的沸点为
100
～
230℃。3.
根据权利要求1或2所述的制造方法，其中，所述溶剂由下述式
(a)
表示，所述式
(a)
中，
R1表示
H
或
CH3，
R2表示
CH3、C2H5、C3H7或
C4H9，
R3表示
C3H7、C4H9、C5H
11
、C6H
13
、C7H
15
、C8H
17
、C9H
19
、C
10
H
21
、C
11
H
23
或
C
12
H
25
。4.
根据权利要求1～3中任一项所述的制造方法，其中，所述目标化合物中的由下述式
(3)
表示的中间体的含量为
0.5
质量％以下
。
式中，
R
表示
H、CH3或
C2H5，
R1...

【专利技术属性】
技术研发人员：北村光晴，西田尊，中西勇太，井田博道，小崎秀彰，
申请(专利权)人：三菱瓦斯化学株式会社，
类型：发明
国别省市：