本发明专利技术公开了纳米二氧化铈或其水溶液在调控芍药高温胁迫中的应用
【技术实现步骤摘要】
photosynthesis,and protecting cell structure.Cell Stress&Chaperones,2019,24:247
‑
257)
均能缓解高温胁迫对芍药的伤害
。
[0005]纳米二氧化铈是一种稀土氧化物纳米颗粒,为萤石晶胞结构
。
在此结构下
Ce
的配位数为8,
O
的配位数是4,被称之为敞型结构
。
在纳米尺度下,二氧化铈中的部分
Ce
4+
被还原为
Ce
3+
以稳定表面氧缺陷
。
纳米二氧化铈中的
Ce
3+
和
Ce
4+
进行可逆的转换,与酶的特性十分相似
。
这一性质使纳米二氧化铈能够催化分解生物体内的过量自由基,具有消除超氧自由基
、
过氧化氢和羟基自由基的作用
。
在环境胁迫方面,前期研究已发现纳米二氧化铈可以缓解黄瓜的盐胁迫伤害
(Chen L,Peng Y,Zhu L,et al.CeO
2 nanop articles improved cucumber salt tolerance is associated with its induced early stimulati on on antioxidant system.Chemosphere,2022,299:134474)
和水稻的氮胁迫伤害
(Wa ng Y,Zhang P,Li M,et al.Alleviation of nitrogen stress in rice(Oryza sativa)by ce ria nanoparticles.Environmental Science:Nano,2020,7:2930
‑
2940)。
而在高温胁迫方面,纳米二氧化铈是否能够缓解植物伤害尚未知晓
。
技术实现思路
[0006]专利技术目的:本专利技术所要解决的技术问题是提供了一种操作简便
、
周期短
、
见效快和易于推广利用的纳米二氧化铈在调控芍药高温胁迫中的应用
。
[0007]技术方案:为解决上述技术问题,本专利技术提供了纳米二氧化铈或其水溶液在调控芍药高温胁迫中的应用,其中芍药可为任一品种的芍药
。
[0008]其中,所述应用通过纳米二氧化铈减少降低高温胁迫对芍药的影响
。
[0009]本专利技术还提供了一种利用纳米二氧化铈降低高温胁迫对芍药影响的方法,包括以下步骤:对芍药叶背喷施纳米二氧化铈溶液
。
[0010]其中,所述纳米二氧化铈溶液的浓度为
0.1
~
1mmol
·
L
‑1。
[0011]其中,所述纳米二氧化铈的直径为
20
~
50nm。
[0012]其中,所述喷施的频率为每天至少浇一次,至少连续喷施5次
。
[0013]其中,对芍药叶背进行喷施直至滴水状态
。
[0014]有益效果:与现有技术相比,本专利技术具有如下显著优点:该方法操作简便
、
周期短
、
见效快和易于推广利用等优点,可在芍药抗高温栽培中规模化应用,对芍药在我国长江中下游及以南地区栽培具有积极的推动作用
。
附图说明
[0015]图1为
0.1mmol
·
L
‑1纳米二氧化铈溶液处理下芍药植株表型;
[0016]图2为
0.1mmol
·
L
‑1纳米二氧化铈溶液处理下芍药叶片
SPAD
值;
[0017]图3为
0.1mmol
·
L
‑1纳米二氧化铈溶液处理下芍药中过氧化氢
(H2O2)
积累水平观察;
[0018]图4为
0.1mmol
·
L
‑1纳米二氧化铈溶液处理下芍药中超氧阴离子
(O2·
‑
)
积累水平观察;
[0019]图5为
0.1mmol
·
L
‑1纳米二氧化铈溶液处理下芍药叶片相对电导率;
[0020]图6为
0.1mmol
·
L
‑1纳米二氧化铈溶液处理下芍药叶片丙二醛
(MDA)
含量;
[0021]图7为
0.1mmol
·
L
‑1纳米二氧化铈溶液处理下芍药叶片有效光化学电子产量
。
具体实施方式
[0022]下面结合附图对本专利技术的技术方案作进一步说明
。
[0023]实施例1[0024]以盆栽
(
园土
、
泥炭和珍珠岩,体积为1:1:
1)
的三年生芍药
(
品种:大富贵,来自扬州大学江都花卉基地
)
为材料开展本研究
。
[0025]纳米二氧化铈溶液的配制:本专利技术所使用的纳米二氧化铈购于上海麦克林生化科技有限公司,货号为
C804512
,直径为
20
‑
50nm
,球形,纯度>
99
%,在使用时将纳米二氧化铈使用蒸馏水稀释成
0.1mmol
·
L
‑1,所有溶液现配现用
。
[0026]处理时间:在5月份开展本实验,将制备的纳米二氧化铈溶液在晴天的傍晚进行喷施,对植株叶面叶背进行喷施直至滴水状态,每个处理设置3个重复,连续喷施5天,以蒸馏水为对照
。
处理结束后随即进入光照培养箱,将喷施蒸馏水的植株与喷施纳米二氧化铈溶液的植株直接进行高温处理
(40/35℃
,日温
/
夜温,
16h
光照
)
,湿度均设置为
60
%
rh。
在处理的第
0、4、8、12
天分别观察其生长状态,并取植株叶片用于胁迫相关生理指标测定
。
其中,喷施纳米二氧化铈溶液的芍药为纳米二氧化铈处理组,喷施蒸馏水的芍药为对照组
。
高温胁迫下,纳米二氧化铈处理组和对照组的植株表型如图1所示
。
在高温胁迫第0天时,纳米二氧化铈处理组和对照组的植株生长健壮
、
叶片绿色;而在高温胁迫
4、8、12
天时,对照组的植株随着高温胁迫时间的延长逐渐呈现叶片黄化与干枯
、
枝条下垂,而纳米二氧化铈处理组的植株生长状态明显好于高温处理的植株,叶片本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.
纳米二氧化铈或其水溶液在调控芍药高温胁迫中的应用
。2.
根据权利要求1所述的应用,其特征在于,所述应用通过纳米二氧化铈或其水溶液减少高温胁迫对芍药的影响
。3.
一种利用纳米二氧化铈降低高温胁迫对芍药影响的方法,其特征在于,包括以下步骤:对芍药叶背面喷施纳米二氧化铈溶液
。4.
根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述纳米二氧化铈溶液的浓度为
0.1
~<...
【专利技术属性】
技术研发人员:赵大球,侯赵玉,陶俊,孟家松,汤寓涵,
申请(专利权)人:扬州大学,
类型:发明
国别省市:
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