制程的显示方法和基板处理系统技术方案

本公开提供一种制程的显示方法和基板处理系统，能够容易地目视确认在基板处理装置中使用的多个制程的比较结果

【技术实现步骤摘要】
制程的显示方法和基板处理系统


[0001]本公开涉及一种制程的显示方法和基板处理系统。

技术介绍

[0002]例如，专利文献1提出对将制程的主文件与同名的文件进行比较得到的结果进行显示。在专利文献1中，不是显示主文件的制程整体，仅显示作为比较的结果的、主文件与同名的文件之间存在差异的项目。
[0003]例如，专利文献2提出有：显示被进行了比较的多个制程的各个制程的全部项目，并且改变所显示的多个制程的全部项目中的存在差异的部分的显示颜色等。
[0004]例如，专利文献3提出将制程的多个步骤项目与多个工艺条件项目以矩阵状的表格形式进行显示。
[0005]现有技术文献
[0006]专利文献
[0007]专利文献1：国际公开第2014
‑
189045号
[0008]专利文献2：日本特开2007
‑
194446号公报
[0009]专利文献3：日本特开2014
‑
67936号公报

技术实现思路

[0010]专利技术要解决的问题
[0011]本公开提供一种能够容易地目视确认在基板处理装置中使用的多个制程的比较结果的制程的显示方法。
[0012]用于解决问题的方案
[0013]根据本公开的一个方式，提供一种制程的显示方法，该制程被使用在由信息处理装置与基板处理装置连接而成的基板处理系统中的所述基板处理装置执行的基板的处理中，具有多个项目，所述制程的显示方法包括以下工序：从保持于数据保存部的多个所述制程中选择作为基准的第一制程；从多个所述制程中选择作为比较对象的第二制程；将所述第一制程与所述第二制程进行比较，来从所述多个项目中确定出所述第一制程与所述第二制程之间存在差异的项目；以及显示在所述第一制程中设定的数据，关于所显示的所述第一制程的数据中的所述存在差异的项目，将所述第二制程的数据以能够目视确认所述差异的方式显示于所述信息处理装置的显示部。
[0014]专利技术的效果
[0015]根据一个方面，能够容易地目视确认在基板处理装置中使用的多个制程的比较结果。
附图说明
[0016]图1是示出实施方式所涉及的基板处理系统的一例的图。
[0017]图2是示出实施方式所涉及的服务器装置的硬件结构例的图。
[0018]图3是示出实施方式所涉及的服务器装置的功能结构例的图。
[0019]图4是示出实施方式所涉及的制程的显示方法的一例的流程图。
[0020]图5是实施方式所涉及的制程的比较及显示画面的一例。
[0021]图6是实施方式所涉及的制程的比较及显示画面的一例。
[0022]图7是实施方式所涉及的制程的比较及显示画面的一例。
[0023]图8是实施方式所涉及的制程的比较结果及显示画面的一例。
[0024]图9是实施方式所涉及的制程的比较结果及显示画面的一例。
[0025]图10是实施方式所涉及的制程的比较结果的详细显示画面的一例。
[0026]图11是制程选择画面的一例。
[0027]图12是制程选择画面的选择结果的一例。
[0028]图13是所选择的制程的比较结果的一例。
[0029]图14是两个制程选择画面的一例。
[0030]图15是两个制程选择画面的选择结果的一例。
[0031]图16是所选择的制程的比较结果的一例。
具体实施方式
[0032]下面，参照附图来说明用于实施本公开的方式。在各附图中，对相同的结构部分标注相同的标记，有时省略重复的说明。
[0033]在本说明书中，平行、直角、正交、水平、垂直、上下、左右等方向容许不损害实施方式的效果的程度的偏移。角部的形状不限于直角，也可以带有圆而为弓形。平行、直角、正交、水平、垂直、圆、一致也可以包括大致平行、大致直角、大致正交、大致水平、大致垂直、大致圆、大致一致。
[0034][基板处理系统][0035]首先，对实施方式所涉及的基板处理系统的结构例进行说明。图1是示出基板处理系统100的结构例的图。
[0036]如图1所示，在基板处理系统100中，基板处理装置120a1～120a3、基板处理装置120b1、120b2、基板处理装置120c1、120c2经由网络N来与服务器装置150连接。在将基板处理装置120a1～120a3、基板处理装置120b1、120b2、基板处理装置120c1、120c2统称时也称为基板处理装置120。基板处理装置120通常分别具有一个或多个在内部进行基板的处理的处理腔室。
[0037]作为基板处理装置120的一例，能够举出对用于制造平板显示器(FPD：Flat Panel Display)的玻璃基板等基板进行处理的装置。但是，不限于此，本公开的基板处理装置也可以是对半导体晶圆进行处理的装置。另外，可以利用等离子体对基板进行处理，作为生成等离子体的装置，还能够应用于电容耦合等离子体(Capacitively Coupled Plasma(CCP))、电感耦合等离子体(Inductively Coupled Plasma(ICP))、径向线缝隙天线(Radial Line Slot Antenna(RLSA))、电子回旋共振等离子体(Electron Cyclotron Resonance Plasma(ECR))、螺旋波等离子体(Helicon Wave Plasma(HWP))中的任意类型的装置。另外，本公开的基板处理装置还能够应用于逐张地对基板进行处理的单片式装置、将多张基板一并处理
的批量装置以及半批量装置中的任意装置。另外，本公开的基板处理装置例如是进行成膜处理、蚀刻处理、灰化处理等基板的处理的装置或者原子层沉积(Atomic Layer Deposition(ALD))装置。
[0038]基板处理系统100在工厂a内具有基板处理装置120a1～120a3和控制装置121a1～121a3。基板处理装置120a1～120a3与控制装置121a1～121a3通过有线或无线的方式连接。
[0039]基板处理系统100在工厂b内具有基板处理装置120b1、120b2和控制装置121b1、121b2。基板处理装置120b1、120b2与控制装置121b1、121b2通过有线或无线的方式连接。
[0040]基板处理系统100在工厂c内具有基板处理装置120c1、120c2和控制装置121c1、121c2。基板处理装置120c1、120c2与控制装置121c1、121c2通过有线或无线的方式连接。
[0041]将控制装置121a1～121a3、控制装置121b1、121b2、控制装置121c1、121c2统称时也称为控制装置121。控制装置121对基板处理装置120执行的基板的处理进行控制。基板处理装置120的各个基板处理装置按照保持多个制程的控制装置121的各自的控制，基于任意的制程对基板进行处理。
[004本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种制程的显示方法，该制程被使用在由信息处理装置与基板处理装置连接而成的基板处理系统中的所述基板处理装置执行的基板的处理中，具有多个项目，所述制程的显示方法包括以下工序：从保持于数据保存部的多个所述制程中选择作为基准的第一制程；从多个所述制程中选择作为比较对象的第二制程；将所述第一制程与所述第二制程进行比较，来从所述多个项目中确定出所述第一制程与所述第二制程之间存在差异的项目；以及显示在所述第一制程中设定的数据，关于所显示的所述第一制程的数据中的所述存在差异的项目，将所述第二制程的数据以能够目视确认所述差异的方式显示于所述信息处理装置的显示部。2.根据权利要求1所述的制程的显示方法，其特征在于，所述多个项目包括多个处理步骤的步骤编号和多个工艺条件的条件项目，在显示于显示部的所述工序中，将在所述第一制程中设定的数据根据多个所述步骤编号和多个所述条件项目以矩阵状的表格形式与多个所述步骤编号及多个所述条件项目一同显示，关于所显示的多个所述条件项目中的被确定为存在差异的所述条件项目，将所述第一制程的数据和所述第二制程的数据在所述表格形式中排列显示。3.根据权利要求2所述的制程的显示方法，其特征在于，关于被确定为存在差异的所述条件项目，强调显示所述第一制程的数据与所述第二制程的数据之间的差异。4.根据权利要求2所述的制程的显示方法，其特征在于，在选择第二制程的所述工序中，选择两个以上的所述第二制程，在确定存在差异的项目的所述工序中，将所述第一制程与两个以上的所述第二制程进行比较，来确定出所述第一制程与至少任一个所述第二制程之间存在差异的条件项目，在显示于显示部的所述工序中，关于被确定为存在差异的所述条件项目，以能够目视确认所述差异的方式将所述第一制程的数据和两个以上的所述第二制程的数据在所述表格形式中排列显示。5.根据权利要求1至4中的任一项所述的制程的显示方法，其特征在于，还包括以下工序：与所述制程的变更相应地，将变更后的制程与制程的变更日期时间相关联地积累于所述数据保存部中，在确定存在差异的项目的所述工序中，将作为所述变更日期时间不同的更新后的同一制程的所述第一制程与所述第二制程进行比较，来确定出所述同一制程的存在变更历史记录的项目。6.根据权利要求5所述的制程的显示方法，其特征在于，在显示于显示部的所述工序中，显示在所述第一制程中设定的数据，关于所显示的所...

【专利技术属性】
技术研发人员：今井响，石井隆太郎，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：