【技术实现步骤摘要】
一种高功率激光能量均匀化衰减方法
[0001]本专利技术属于激光器应用
,具体涉及一种高功率激光能量均匀化衰减方法
。
技术介绍
[0002]随着科学技术的快速发展,现代工业及科学研究领域对大功率激光的需求不断增加
。
部分应用如表面处理
、
大规模集成电路激光刻蚀及超高温温度传感器的动态校准对激光器输出的激光的衰减幅度及精度有较高要求,当前激光器配套的电压控制器的控制精度无法满足使用需求,因此,发展激光功率衰减技术对复杂快速的工业生产及科学研究具有重要意义
。
[0003]现有的激光器能量衰减方式分为两类,一类可通过改变控制电压实现调节,但其调节精度有限,无法连续调节激光能量且激光能量输出不均匀;另一类通过设置多级光学装置逐级衰减激光能量,这种衰减装置搭建复杂,且由于材料限制无法对大功率激光进行长时间能量衰减
。
因此,若能实现激光器能量的均匀输出及连续高精度调节,将极大提高高功率激光器的应用范围
。
技术实现思路
[0004](
一
)
要解决的技术问题
[0005]本专利技术要解决的技术问题是:针对传统激光能量衰减装置无法连续调节大功率激光的问题,如何提出一种高功率激光能量均匀化衰减方法,要求能够长时间衰减功率密度
20kW/cm2的高功率激光
。
[0006](
二
)
技术方案
[0007]为解决上述技术问题,本专利技术
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.
一种高功率激光能量均匀化衰减方法,其特征在于,所述高功率激光能量均匀化衰减方法依托高功率激光能量均匀化衰减装置来实施,所述高功率激光能量均匀化衰减装置包括:激光能量衰减腔
(1)
和漫反射取样腔
(2)
,所述漫反射取样腔
(2)
通过电控导轨
(3)
安装于激光能量衰减腔
(1)
内部;所述激光能量衰减腔
(1)
为圆柱形空腔,内部充满能量衰减液体;所述漫反射取样腔
(2)
通过电控导轨
(3)
带动左右移动;所述漫反射取样腔
(2)
内包括:离轴抛物反射镜
(8)、
透光通道
(9)、
漫反射套筒
(10)、
均匀化透镜组
(11)
;所述离轴抛物反射镜
(8)
通过摆放位置的设置将入射激光发散到漫反射套筒
(10)
;所述透光通道
(9)
设置于漫反射套筒
(10)
内,用于对发散的激光进行空间强度取样;所述均匀化透镜组
(11)
设置于透光通道
(9)
前端,包括光栅和准直透镜组,用于将发散光变为准直光;所述激光能量衰减腔
(1)
内还包括出射透镜组
(6)
,所述出射透镜组
(6)
的位置设置为与所述漫反射取样腔
(2)
相对,用于输出聚焦激光或者准直激光;所述方法包括如下步骤:步骤1:高功率激光通过离轴抛物反射镜
(8)
后发散进入到漫反射取样腔
(2)
中;步骤2:少部分能量在漫反射过程中被漫反射套筒
(10)
吸收,大部分能量通过透光通道
(9)
进行空间取样,再通过均匀化透镜组
(11)
扩束,扩束后的激光的功率密度降低,且能量分布更均匀;步骤3:然后激光进入激光能量衰减腔
(1)
腔内,通过在衰减液体中传播,其能量被衰减液体吸收;步骤4:最后经过出射透镜组
(6)
输出衰减过的均匀化激光;其中,腔内能量衰减液体既衰减激光能量,又充当...
【专利技术属性】
技术研发人员:梁海坚,王高,李志玲,张杰,黄漫国,吴怀昊,
申请(专利权)人:中北大学,
类型:发明
国别省市:
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