校准方法技术

本申请公开了一种校准方法

【技术实现步骤摘要】
校准方法、装置、清洗机和存储介质


[0001]本专利技术涉及一种校准方法
、
装置
、
清洗机和存储介质，属于机械校准

。

技术介绍

[0002]半导体清洗液是半导体硅片生产过程中常用的溶液，使用中需要监测其使用过程中溶液的消耗情况，需要进行及时的补液
。
目前通常采用电位滴定法进行含量检测，其耗时耗力且具有明显滞后性
。
[0003]为了提高检测效率，部分厂家提出通过近红外光谱对溶液含量进行检测，进而实现实时无试剂消耗的效果
。
然而由于各家工艺的不同，近红外光的光路可能会有所偏差，并且长时间之后近红外光的光路也会变化，因此如何对光路进行校准已经成为困扰业内人士的重要难题之一
。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的在于提供一种校准方法
、
装置和存储介质，用于解决现有技术中存在的问题
。
[0005]为达到上述目的，本专利技术提供如下技术方案：
[0006]根据第一方面，本专利技术实施例提供了一种校准方法，所述方法包括：
[0007]获取清洗机中流入纯水时的纯水近红外光谱；
[0008]根据所述纯水近红外光谱和标准光谱，获取转移变换矩阵，所述标准光谱为纯水流入校准后的所述清洗机后得到的光谱；
[0009]获取所述清洗机中流入样品时的样品近红外光谱；
[0010]根据所述转移变换矩阵，对所述样品近红外光谱进行校准
>。
[0011]可选地，所述根据所述纯水近红外光谱和标准光谱，获取转移变换矩阵，包括：
[0012]对所述纯水近红外光谱进行预处理，所述预处理包括移动平滑处理和
/
或标准化处理；
[0013]根据预处理后的所述纯水近红外光谱和所述标准光谱，获取所述转移变换矩阵
。
[0014]可选地，所述根据预处理后的所述纯水近红外光谱和所述标准光谱，获取所述转移变换矩阵，包括：
[0015]通过预设校正方法对预处理后的所述纯水近红外光谱和所述标准光谱进行校正，得到所述转移变换矩阵
。
[0016]可选地，所述预设校正方法包括分段直接校正
PDS、SST、
差谱和商谱中的至少一种
。
[0017]可选地，所述方法还包括：
[0018]将校正后的所述样品近红外光谱输入至定量分析模型，获取得到所述样品的组分信息，所述定量分析模型为根据不同溶液的近红外光谱及其对应的组分信息构建的模型
。
[0019]第二方面，提供了一种校准方法，所述方法包括：
[0020]获取清洗机中流入纯水时的纯水近红外光谱；
[0021]根据所述纯水近红外光谱以及定量分析模型，获取得到所述纯水的预测含量信息；所述定量分析模型为根据不同溶液的近红外光谱及其对应的组分信息构建的模型；
[0022]根据所述预测含量信息以及所述纯水的标准含量信息，得到偏差信息；
[0023]获取所述清洗机中流入样品时的样品近红外光谱；
[0024]根据所述样品近红外光谱以及所述定量分析模型，计算所述样品的预测样品含量信息；
[0025]根据所述预测样品含量信息以及所述偏差信息，对所述预测样品含量信息进行校准
。
[0026]第三方面，提供了一种校准装置，所述装置包括存储器和处理器，所述存储器中存储有至少一条程序指令，所述处理器通过加载并执行所述至少一条程序指令以实现如第一方面或者第二方面所述的方法
。
[0027]第四方面，提供了一种清洗机，所述清洗机中包括存储器和处理器，所述存储器中存储有至少一条程序指令，所述处理器通过加载并执行所述至少一条程序指令以实现如第一方面或者第二方面所述的方法
。
[0028]第五方面，提供了一种计算机存储介质，所述计算机存储介质中存储有至少一条程序指令，所述至少一条程序指令被处理器加载并执行以实现如第一方面或者第二方面所述的方法
。
[0029]通过获取清洗机中流入纯水时的纯水近红外光谱；根据所述纯水近红外光谱和标准光谱，获取转移变换矩阵，所述标准光谱为纯水流入校准后的所述清洗机后得到的光谱；获取所述清洗机中流入样品时的样品近红外光谱；根据所述转移变换矩阵，对所述样品近红外光谱进行校准
。
解决了现有技术中清洗机中光路校准困难的问题，达到了可以快速准确低成本的实现光路校准的效果
。
[0030]上述说明仅是本专利技术技术方案的概述，为了能够更清楚了解本专利技术的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本专利技术的较佳实施例并配合附图详细说明如后
。
附图说明
[0031]图1为本专利技术一个实施例提供的校准方法的方法流程图；
[0032]图2为本专利技术一个实施例提供的校准方法的方法流程图
。
具体实施方式
[0033]下面将结合附图对本专利技术的技术方案进行清楚
、
完整地描述，显然，所描述的实施例是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例
。
基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围
。
[0034]在本专利技术的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位
、
以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制
。
此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性
。
[0035]在本专利技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通
。
对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本专利技术中的具体含义
。
[0036]此外，下面所描述的本专利技术不同实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互结合
。
[0037]请参考图1，其示出了本申请一个实施例提供的校准方法的方法流程图，如图1所示，所述方法包括：
[0038]步骤
101
，获取清洗机中流入纯水时的纯水近红外光谱；
[0039]在清洗机的近红外光路中流入纯水，获取此时的纯水近红外光谱
。
本申请选用纯水进行校准，安全且成本较低
。
[0040]步骤
102
，根据所述纯水近红本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种校准方法，其特征在于，所述方法包括：获取清洗机中流入纯水时的纯水近红外光谱；根据所述纯水近红外光谱和标准光谱，获取转移变换矩阵，所述标准光谱为纯水流入校准后的所述清洗机后得到的光谱；获取所述清洗机中流入样品时的样品近红外光谱；根据所述转移变换矩阵，对所述样品近红外光谱进行校准
。2.
根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述纯水近红外光谱和标准光谱，获取转移变换矩阵，包括：对所述纯水近红外光谱进行预处理，所述预处理包括移动平滑处理和
/
或标准化处理；根据预处理后的所述纯水近红外光谱和所述标准光谱，获取所述转移变换矩阵
。3.
根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述根据预处理后的所述纯水近红外光谱和所述标准光谱，获取所述转移变换矩阵，包括：通过预设校正方法对预处理后的所述纯水近红外光谱和所述标准光谱进行校正，得到所述转移变换矩阵
。4.
根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述预设校正方法包括分段直接校正
PDS、
光谱空间变换
SST、
差谱和商谱中的至少一种
。5.
根据权利要求1至4任一所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：将校正后的所述样品近红外光谱输入至定量分析模型，获取得到所述样品...

【专利技术属性】
技术研发人员：王丽华，刘杨，王甜甜，李伟，
申请(专利权)人：无锡迅杰光远科技有限公司，
类型：发明
国别省市：