【技术实现步骤摘要】
一种占空比可调的微透镜阵列设计及制备方法
[0001]本专利技术涉及微纳加工
，尤其涉及一种占空比可调的微透镜阵列设计及制备方法。
技术介绍
[0002]微透镜阵列的设计、制备、测试全流程工作闭环，一直是微纳加工领域急需解决的关键问题。其中，微透镜阵列的占空比，是决定微透镜成像效率的关键参数，因此超高占空比的微透镜阵列的设计及制造方法一直是行业痛点。能够实现占空比从极小(10％)到占空比100％的微透镜阵列制造技术，具有重要的科学意义及工程价值。目前采用光刻热回流工艺，其占空比最高只能做到80％左右，对于占空比90％以上的微透镜阵列的设计和制造基本无法通过传统工艺实现。
技术实现思路
[0003]本专利技术为了解决现有技术的缺陷，提出了一种占空比可调的微透镜阵列设计及制备方法。
[0004]本专利技术的一种占空比可调的微透镜阵列设计及制备方法，包括以下步骤：
[0005]步骤S1：设计单个微透镜结构；
[0006]步骤S2：根据占空比要求计算所述单个微透镜结构之间的排列周期；
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种占空比可调的微透镜阵列设计及制备方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：步骤S1：设计单个微透镜结构；步骤S2：根据占空比要求计算所述单个微透镜结构之间的排列周期；步骤S3：根据所述排列周期将所述单个微透镜结构复制拼接成微透镜阵列结构；步骤S4：采用3D激光直写光刻技术将所述微透镜阵列结构制备到光刻胶层上，得到光刻胶复制件；步骤S5：基于所述光刻胶复制件制备得到PDMS模具；以及步骤S6：将所述PDMS模具的结构特征转印至PDMS柔性基底上，制备得到符合占空比要求的微透镜阵列。2.根据权利要求1所述的一种占空比可调的微透镜阵列设计及制备方法，其特征在于，步骤S1中，进一步包括：步骤S11：确定所述单个微透镜结构的设计分辨率和幅面，取所述幅面的中心点为微透镜中心点；步骤S12：以所述幅面所在平面为坐标系，确定所述微透镜上的一个点正投影到所述幅面上的某一点的坐标点位置数据，计算所述坐标点与所述中心点之间的距离；步骤S13：根据所述距离计算得到所述某一点的灰度值；步骤S14：重复步骤得S12
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S13得到所述微透镜上所有点的灰度值，并形成灰度图。3.根据权利要求1所述的种占空比可调的微透镜阵列设计及制备方法，其特征在于，步骤S2中，所述占空比为微透镜阵列结构中所有微透镜底面所占面积与微透镜阵列所占面积之间的比值。4.根据权利要求1所述的种占空比可调的微透镜阵列设计及制备方法，其特征在于，步骤S2中，所述排列周期为所述单个微透镜排成阵列时相邻微透镜的中心点之间的距离。5.根据权利要求1所述的种占空比可调的微透镜阵列设计及制备方法，其特征在于，步骤S4进一步包括：步骤S41：在玻璃基本上匀涂光刻胶，离心速度为500rpm，离心时间30s，并静止20min；步骤S42：将光刻胶放置在90℃热板上，放置30min；步骤S43：将前烘后的光刻胶放置在3D...
【专利技术属性】
技术研发人员：郑伟伟，曹皓，董坤，桂成群，
申请(专利权)人：矽万上海半导体科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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