基片液处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种基片液处理装置，其具备：处理槽，在内部贮存用于基片的液处理的处理液；拍摄部，取得处理槽的内部的处理液的图像；和图像处理部，具有进行图像的图像处理以取得表示处理液中的气泡的状态的气泡数据的气泡数据取得部。数据取得部。数据取得部。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】基片液处理装置


[0001]本专利技术涉及基片液处理装置。

技术介绍

[0002]通过控制伴随着处理液的沸腾而产生的气泡、向处理液中喷出的气泡(非活性气体等)，能够促进基片的液处理。
[0003]例如在专利文献1所公开的基片液处理装置中，检测处理液的沸腾状态，根据沸腾状态调整处理液的压力，调节处理液的沸腾状态。由此，实现基片刻蚀的均匀性的提高。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1：日本特开2017
‑
220618号公报

技术实现思路

[0007]即使是工程师，通过目视来判别处理液中的气泡的状态也不简单。特别是，由于工程师的感觉存在个体差异，因此难以通过目视准确且稳定地判别处理液中的气泡的状态。
[0008]本公开提供一种有利于准确地判别处理液中的气泡的状态，从而能够稳定地进行基片的液处理的技术。
[0009]本公开的一个方式涉及一种基片液处理装置，其具备：处理槽，在内部贮存用于基片的液处理的处理液；拍摄部，取得处理槽的内部的处理液的图像；和图像处理部，具有进行图像的图像处理以取得表示处理液中的气泡的状态的气泡数据的气泡数据取得部。
[0010]本公开有利于准确地判别处理液中的气泡的状态，从而稳定地进行基片的液处理。
附图说明
[0011]图1是表示基片液处理系统的一例的整体构成的概要俯视图。
[0012]图2是表示组装于基片液处理系统的刻蚀装置的一例的构成的系统图。r/>[0013]图3是刻蚀装置的处理槽的一例的概要横断方向纵截面图。
[0014]图4是处理槽的一例的概要长度方向纵截面图。
[0015]图5是处理槽的一例的概要俯视图。
[0016]图6是仅取出位于封闭位置的盖体及其周边的部件而详细示出的处理槽的一例的横断方向纵截面图。
[0017]图7是表示由拍摄部取得的拍摄图像的一例的图。
[0018]图8是表示通过对图7所示的拍摄图像进行图像处理而得到的处理图像的一例的图。
[0019]图9是表示通过对图7所示的拍摄图像进行图像处理而得到的处理图像的另一例的图。
[0020]图10表示由多个图像各自的像素值(特别是各个像素的亮度值)的代表值(特别是平均值)制作的图像数据(即，气泡数据)的一例。
[0021]图11是表示第一实施方式的图像处理部的一例的功能框图。
[0022]图12是表示第一实施方式的基片液处理方法(特别是处理液调整方法)的一例的流程图。
[0023]图13是表示第二实施方式的图像处理部的一例的功能框图。
[0024]图14是表示第二实施方式的基片液处理方法(特别是鼓泡状态判定方法)的一例的流程图。
[0025]图15是表示第三实施方式的图像处理部的一例的功能框图。
[0026]图16是表示第三实施方式的基片液处理方法(特别是鼓泡状态调整方法)的一例的流程图。
[0027]图17是表示基片的液处理的流程的一例的流程图。
[0028]图18是表示第四实施方式的鼓泡部的一例的图。
[0029]图19是表示第四实施方式的图像处理部的一例的功能框图。
具体实施方式
[0030]首先，对组装有刻蚀处理装置(基片液处理装置)1的基片液处理系统1A的整体进行叙述。
[0031]如图1所示，基片液处理系统1A具有载体搬入搬出部2、基片批形成部(基片组形成部/基片批次形成部/批量形成部)3、基片批载置部(基片组载置部/基片批次载置部/批量载置部)4、基片批搬送部(基片组搬送部/基片批次搬送部/批量搬送部)5、基片批处理部(基片组处理部/基片批次处理部/批量处理部)6和控制部7。
[0032]其中，载体搬入搬出部2进行将多片(例如，25片)基片(硅晶圆)8以水平姿势上下排列收纳的载体9的搬入和搬出。
[0033]在该载体搬入搬出部2设置：载体台10，载置多个载体9；载体搬送机构11，进行载体9的搬送；载体存放部(载体栈)12、13，暂时保管载体9；和载体载置台14，用来载置载体9。这里，载体存放部12在由基片批处理部6处理之前暂时保管收纳成为产品的基片8。此外，载体存放部13在由基片批处理部6处理之后暂时保管成为产品的基片8。
[0034]此外，载体搬入搬出部2使用载体搬送机构11将从外部搬入载体台10的载体9搬送到载体存放部12、载体载置台14。此外，载体搬入搬出部2使用载体搬送机构11将载置于载体载置台14的载体9搬送到载体存放部13、载体台10。搬送到载体台10的载体9被搬出外部。
[0035]基片批形成部3形成由将收纳于一个或多个载体9的基片8组合以同时处理的多片(例如，50片)基片8构成的基片批。另外，在形成基片批时，可以以相邻两片基片8的形成有图案的表面相互对置的方式形成基片批，或者，可以以形成有图案的基片8的表面全部朝向相同方向的方式形成基片批。
[0036]在该基片批形成部3设置有搬送多片基片8的基片搬送机构15。另外，基片搬送机构15能够在基片8的搬送途中使基片8的姿势从水平姿势变更为垂直姿势和从垂直姿势变更为水平姿势。
[0037]此外，基片批形成部3从载置于载体载置台14的载体9使用基片搬送机构15将基片
8搬送到基片批载置部4，将形成基片批的基片8载置于基片批载置部4。此外，基片批形成部3通过基片搬送机构15将载置于基片批载置部4的基片批向载置于载体载置台14的载体9搬送。基片搬送机构15作为用于支承多片基片8的基片支承部，具有支承处理前(基片批搬送部5搬送前)的基片8的处理前基片支承部和支承处理后(基片批搬送部5搬送后)的基片8的处理后基片支承部这两种。由此，防止附着于处理前的基片8等的颗粒等转移到处理后的基片8等。
[0038]基片批载置部4利用基片批载置台16暂时载置(待机)由基片批搬送部5在基片批形成部3与基片批处理部6之间搬送的基片批。
[0039]在该基片批载置部4设置有载置处理前(基片批搬送部5搬送前)的基片批的搬入侧基片批载置台17和载置处理后(基片批搬送部5搬送后)的基片批的搬出侧基片批载置台18。在搬入侧基片批载置台17和搬出侧基片批载置台18，以垂直姿势前后排列地载置1基片批量的多片基片8。
[0040]此外，在基片批载置部4中，由基片批形成部3形成的基片批载置于搬入侧基片批载置台17，该基片批(基片组/基片批次/批量)经由基片批搬送部5搬入基片批处理部6。此外，在基片批载置部4中，从基片批处理部6经由基片批搬送部5搬出的基片批载置于搬出侧基片批载置台18，该基片批被搬送到基片批形成部3。
[0041]基片批搬送部5在基片批载置部4与基片批处理部6之间、基片批处理部6的内部之间进行基片批的搬送。
[0042]在该基片批搬送部5设置有进行基片批的搬送的基片批搬送机构19。基片批搬送机构19由沿着基片批载置部4和基片批本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种基片液处理装置，其特征在于，包括：处理槽，在内部贮存用于基片的液处理的处理液；拍摄部，取得所述处理槽的所述内部的所述处理液的图像；和图像处理部，具有进行所述图像的图像处理，以取得表示所述处理液中的气泡的状态的气泡数据的气泡数据取得部。2.根据权利要求1所述的基片液处理装置，其特征在于：所述图像处理部包括沸腾状态判别部，所述沸腾状态判别部基于所述气泡数据来判别所述处理液的沸腾的状态。3.根据权利要求2所述的基片液处理装置，其特征在于，包括：调整量导出部，基于所述沸腾状态判别部的判别结果来导出所述处理液的浓度的调整数据。4.根据权利要求1～3中的任一项所述的基片液处理装置，其特征在于，包括：向所述处理槽的所述内部的所述处理液送出气体的鼓泡部；和进行通知处理的通知部，所述图像处理部包括鼓泡状态判别部，所述鼓泡状态判别部基于所述气泡数据来判别所述处理液中的所述气体的状态，所述通知部基于所述鼓泡状态判别部的判别结果来进行通知处理。5.根据权利要求4所述的基片液处理装置，其特征在于：所述鼓泡状态判别部通过将所述气泡数据与基于所述处理液中的所述气体的基准状态的参考数据进行比较，来判别所述处理液中的所述气体的状态。6.根据权利要求4或5所述的基片液处理装置，其特征在于：所述鼓泡状态判别部基于所述气泡数据，判别以所述处理液的整体范围为基准的气体的状态和以所述处理液的局部范围为基准的气体的状态。7.根据权利要求1～6中的任一项所述的基片液处理装置，其特征在于，包括：向所述处理槽的所述内部的所述处理液送出气体的鼓泡部；和控制所述鼓泡部的鼓泡控制部，所述图像处理部包括鼓泡状态判别部，所述鼓泡状态判别部基于所述气泡数据来判别所述处理液中的所述气体的状态，所述鼓泡控制部基于所述鼓泡状态判别部的判别结果来控制所述鼓泡部。8.根据权利要求7所述的基片液处理装置，其特征在于：所述气泡数据取得部进行在基片未浸于所述处理液的状态下取得的所述图像的所述图像处理，以取得所述气泡数据，所述鼓泡控制部基于所述鼓泡状态判别部的判别结果，控制所述鼓泡部，使得向浸有基片的所述处理液中送出气体。9.根据权利要求7所述的基片液处理装置，其特征在于：所述气泡数据取得部进行在第一基片浸于所述处理液的状态下取得的所述图像的所述图像处理，以取得所述气泡数据，所述鼓泡控制部基于所述鼓...

【专利技术属性】
技术研发人员：丸本洋，李水根，榎本正志，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：